CFx radical production and loss in a CF4 reactive ion etching plasma: Fluorine rich conditions

Journal of Applied Physics

Volumn 85, Issue 6, 1999, Pages 3097-3107

  Booth, J P ^a   Cunge, G ^a   Chabert, P ^b   Sadeghi, N ^a  

^a UNIV GRENOBLE ALPES   (France)

^b ONERA   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000347228     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.369649     Document Type: Article

References (69)

1. R. D'Agostino, F. Cramarossa, S. De Benedictis, and G. Ferraro, J. Appl. Phys. 52, 1259 (1981).
2. G. Hancock, J. P. Sucksmith, and M. T. Toogood, J. Phys. Chem. 94, 3269 (1990).
3. P. J. Hargis and M. J. Kushner, Appl. Phys. Lett. 40, 779 (1982).
4. J. W. Thoman, K. Suzuki, S. H. Kable, and J. I. Steinfeld, J. Appl. Phys. 60, 2775 (1986).
5. J. P. Booth, G. Hancock, and N. D. Perry, Appl. Phys. Lett. 50, 318 (1987).
6. J. P. Booth, G. Hancock, N. Perry, D. C. W. Blaikely, J. A. Cairns, and R. Smailes, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 98, 135 (1987).
7. J. P. Booth, G. Hancock, N. D. Perry, and M. J. Toogood, J. Appl. Phys. 66, 5251 (1989).
8. S. G. Hansen and G. Luckman, Appl. Phys. Lett. 53, 1588 (1988).
9. S. G. Hansen, G. Luckman, G. C. Nieman, and S. D. Colson, J. Appl. Phys. 68, 2013 (1990).
10. M. Kitamura, H. Akiya, and T. Urisu, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 14 (1989).
11. L. M. Buchmann, F. Heinrich, P. Hoffmann, and J. Janes, J. Appl. Phys. 67, 3635 (1990).
12. W. T. Conner and H. H. Sawin, Appl. Phys. Lett. 60, 557 (1992).
13. B. K. McMillin and M. R. Zachariah, IEEE Trans. Plasma Sci. 24, 113 (1996).
14. M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 3102 (1994).
15. M. Haverlag, W. W. Stoffels, E. Stoffels, J. H. W. G. den Boer, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 260 (1995).
16. K. Maruyama, K. Ohkouchi, Y. Ohtsu, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 4298 (1994).
17. Y. Hikosaka and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 3040 (1993).
18. J. A. O'Neill and J. Singh, J. Appl. Phys. 77, 497 (1995).
19. J. A. O'Neill and J. Singh, J. Appl. Phys. 76, 5967 (1994).
20. J. P. Booth, G. Cunge, F. Neuilly, and N. Sadeghi, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 423 (1998).
21. Y. Hikosaka, H. Toyoda, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L690 (1993).
22. D. Edelson and D. L. Flamm, J. Appl. Phys. 56, 1522 (1984).
23. I. C. Plumb and K. R. Ryan, Plasma Chem. Plasma Process. 6, 205 (1986).
24. N. V. Mantzaris, A. Bouvoudis, and E. Gogolides, J. Appl. Phys. 77, 6169 (1995).
25. R. D'Agostino, F. Cramarossa, and S. De Benedictis, Plasma Chem. Plasma Process. 2, 214 (1982).
26. C. J. Mogab, A. C. Adams, and D. L. Flamm, J. Appl. Phys. 49, 3796 (1978).
27. L. D. B. Kiss and H. H. Sawin, Plasma Chem. Plasma Process. 12, (1992).
28. J. P. Booth, in Proceedings of "Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics," Les Houches, France, 23-27 January 1995 (unpublished).
29. M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 384 (1996).
30. J. P. Sucksmith, Ph.D. thesis, Oxford University, 1993.
31. G. Cunge and J. P. Booth, J. Appl. Phys. (submitted).
32. G. Cunge, P. Chabert, and J. P. Booth, Plasma Sources Sci. Technol. 6, 349 (1997).
33. J. P. Booth and G. Hancock, Mater. Sci. Forum 140, 219 (1993).
34. J. Perrin, M. Shiratani, P. Kae-Nune, H. Videlot, J. Jolly, and J. Guillon, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 278 (1997).
35. G. Cunge, J. P. Booth, and J. Derouard, Chem. Phys. Lett. 263, 645 (1996).
36. G. Cunge, Ph.D. thesis, Université Joseph Fourier - Grenoble I, 1997.
37. N. St. J. Braithwaite and J. P. Booth, International Patent No. FR901451 (France, 1995).
38. N. S. J. Braithwaite, J. P. Booth, and G. Cunge, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 677 (1996).
39. J. P. Booth, G. Cunge, N. Sadeghi, and R. W. Boswell, J. Appl. Phys. 82, 552 (1997).
40. V. A. Godyak and R. B. Piejak, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 3833 (1990).
41. J. L. Jauberteau, G. J. Meeusen, M. Haverlag, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, Appl. Phys. Lett. 55, 2597 (1989).
42. M. Haverlag, A. Kono, D. Passchier, G. M. W. Kroesen, W. J. Goedheer, and F. J. de Hoog, J. Appl. Phys. 70, 3472 (1991).
43. A. Kono, M. Haverlag, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Appl. Phys. 70, 2939 (1991).
44. J. P. Booth, G. Cunge, P. Chabert, and W. Schwarzenbach, in Proceedings of "Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics II" (Bad Honnef, Germany, 1997), p. 101.
45. W. Schwarzenbach, G. Cunge, and J. P. Booth, J. Appl. Phys. (submitted).
46. N. M. Mackie, V. A. Venturo, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B101, 9425 (1997).
47. M. Inayoshi, M. Ito, M. Hori, T. Goto, and M. Hiramatsu, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 233 (1998).
48. P. J. Chantry, J. Appl. Phys. 62, 1141 (1987).
49. T. Arai, M. Goto, Y. Asoh, D. Takayama, and T. Shimuzu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32L, 1469 (1993).
50. J. Bzowski, J. Kestin, E. A. Mason, and F. J. Uribe, J. Phys. Chem. Ref. Data 19, 1179 (1990).
51. E. Occhiello, F. Garbassi, and J. W. Coburn, J. Phys. D 22, 983 (1989).
52. R. A. Morris, A. A. Viggiano, J. M. Van Doren, and J. F. Paulson, J. Phys. Chem. 96, 2597 (1992).
53. R. R. J. M. Snijkers, Ph.D. thesis, Eindhoven Technical University, The Netherlands, 1993.
54. R. J. M. M. Snijkers, M. J. M. van Sambeek, M. B. Hoppenbrouwers, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Appl. Phys. 79, 8982 (1996).
55. W. R. Koppers, H. M. Beijersbergen, K. Tsumori, T. L. Weeding, P. G. Kistemaker, and A. W. Kleyn, Phys. Rev. B 53, 11207 (1996).
56. Y. Mitsuoka, H. Toyoda, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L1486 (1995).
57. L. Wang, R. Md Nor, and W. G. Graham, J. Phys. D 30, 2379 (1997).
58. W. R. Koppers, Ph.D. thesis, Universiteit van Amsterdam, 1997.
59. F. Fracassi, E. Ochiello, and J. W. Coburn, J. Appl. Phys. 62, 3980 (1987).
60. H. F. Winters and M. Inokuti, Phys. Rev. A 25, 1420 (1982).
61. T. Nakano and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 31, 2919 (1992).
62. H. Sugai, H. Toyoda, T. Nakano, and M. Goto, Contrib. Plasma Phys. 35, 415 (1995).
63. R. A. Bonham, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 4157 (1994).
64. L. G. Christophorou, J. K. Olthoff, and M. V. V. S. Rao, J. Phys. Chem. Ref. Data 25, 1341 (1996).
65. I. C. Plumb and K. R. Ryan, Plasma Chem. Plasma Process. 6, 11 (1986).
66. J. Peeters, J. Van Hoeymissen, S. Vanhaelermeersch, and D. Vermeylen, J. Phys. Chem. 96, 1257 (1992).
67. E. R. Fisher, M. E. Weber, and P. B. Armentrout, J. Chem. Phys. 92, 2296 (1990).
68. E. R. Fisher and P. B. Armentrout, J. Phys. Chem. 95, 6118 (1991).
69. E. R. Fisher and P. B. Armentrout, Int. J. Mass Spectrom. Ion Processes 101, R1 (1990).