High mass positive ions and molecules in capacitively-coupled radio-frequency CF4 plasmas

Journal of Applied Physics

Volumn 85, Issue 11, 1999, Pages 7562-7568

  Schwarzenbach, W ^a   Cunge, G ^a   Booth, J P ^a  

^a LIPHY   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000065977     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.370555     Document Type: Article

References (48)

1. R. A. H. Heineke, Solid-State Electron. 18, 1146 (1975).
2. J. P. Booth, G. Cunge, P. Chabert, and N. Sadeghi, J. Appl. Phys. Scheduled for 15 Mar. 99 057906JAP.
3. G. Cunge and J. P. Booth, J. Appl. Phys. 85, 3952 (1999).
4. J. P. Booth, Plasma Sources Sci. Technol. 8, 249 (1999).
5. C. Hollenstein et al., J. Phys. D: Appl. Phys. 30, 1 (1997).
6. A. A. Howling, C. Courteille, J.-L. Dorier, D. Magni, L. Sansonnens, and C. Hollenstein, J. Pure Appl. Chem. 68, 1017 (1996).
7. C. Hollenstein, W. Schwarzenbach, A. A. Howling, C. Courteille, J.-L. Dorier, and L. Sansonnens, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 535 (1996).
8. W. W. Stoffels, E. Stoffels, and K. Tachibana, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 4638 (1997).
9. W. W. Stoffels, E. Stoffels, and K. Tachibana, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 87 (1998).
10. E. Stoffels, W. W. Stoffels, and K. Tachibana, Rev. Sci. Instrum. 69, 116 (1998).
11. R. D'Agostino, F. Cramarossa, S. De Benedictis, and G. Ferraro, J. Appl. Phys. 52, 1259 (1981).
12. G. Hancock, J. P. Sucksmith, and M. T. Toogood, J. Phys. Chem. 94, 3269 (1990).
13. J. A. O'Neill and J. Singh, J. Appl. Phys. 76, 5967 (1994).
14. J. P. Booth, G. Cunge, F. Neuilly, and N. Sadeghi, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 423 (1998).
15. P. J. Hargis and M. J. Kushner, Appl. Phys. Lett. 40, 779 (1982).
16. J. W. Thoman, K. Suzuki, S. H. Kable, and J. I. Steinfeld, J. Appl. Phys. 60, 2775 (1986).
17. J. P. Booth, G. Hancock, and N. D. Perry, Appl. Phys. Lett. 50, 318 (1987).
18. J. P. Booth, G. Hancock, N. D. Perry, and M. J. Toogood, J. Appl. Phys. 66, 5251 (1989).
19. S. G. Hansen, G. Luckman, G. C. Nieman, and S. D. Colson, J. Appl. Phys. 68, 2013 (1990).
20. B. K. McMillin and M. R. Zachariah, IEEE Trans. Plasma Sci. 24, 113 (1996).
21. M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 3102 (1994).
22. M. Haverlag, W. W. Stoffels, E. Stoffels, J. H. W. G. den Boer, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 260 (1995).
23. M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 384 (1996).
24. K. Maruyama, K. Ohkouchi, Y. Ohtsu, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 4298 (1994).
25. E. Occhiello, F. Garbassi, and J. W. Coburn, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 117, 55 (1988).
26. E. Occhiello, F. Garbassi, and J. W. Coburn, J. Phys. D: Appl. Phys. 22, 983 (1989).
27. R. J. M. M. Snijkers, Ph.D. thesis, Technical University of Eindhoven, 1993.
28. R. J. M. M. Snijkers, M. J. M. van Sambeek, M. B. Hoppenbrouwers, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Appl. Phys. 79, 8982 (1996).
29. C. J. Mogab, A. C. Adams, and D. L. Flamm, J. Appl. Phys. 49, 3796 (1978).
30. E. A. Truesdale and G. Smolinsky, J. Appl. Phys. 50, 6594 (1979).
31. H. Sugai and H. Toyoda, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 1193 (1992).
32. Y. Hikosaka, H. Toyoda, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L690 (1993).
33. Y. Hikosaka and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 3040 (1993).
34. Y. Hikosaka, H. Toyoda, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L353 (1993).
35. K. Nakamura, K. Segi, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L493 (1997).
36. W. Schwarzenbach, A. Tserepi, J. Derouard, and N. Sadeghi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 4644 (1997).
37. W. Lindinger and A. Hansel, Plasma Sources Sci. Technol. 6, 111 (1997).
38. T. Fujii and K. Syouji, J. Appl. Phys. 74, 3009 (1993).
39. A. A. Howling, L. Sansonnens, J.-L. Dorier, and C. Hollenstein, J. Appl. Phys. 75, 1340 (1994).
40. A. Tserepi, W. Schwarzenbach, J. Derouard, and N. Sadeghi, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 3120 (1997).
41. W. Jacob and P. Pecher, Proceedings of Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics II (Bad Honnef, Germany, 1997).
42. K. H. R. Kirmse, A. E. Wendt, G. S. Oehrlein, and Y. Zhang, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 1287 (1994).
43. M. Schmidt, R. Seefeldt, and H. Deutsch, Int. J. Mass Spectrom. Ion Processes 93, 141 (1989).
44. C. Mair, T. Fiegele, R. Wörgötter, J. H. Futrell, and T. D. Märk, Int. J. Mass. Spectrom. Ion. Processes 177, 105 (1998).
45. G. Cunge, Ph.D. thesis. Université de Grenoble, 1997.
46. K. R. Ryan and I. C. Plumb, Plasma Chem. Plasma Process. 4, 271 (1984).
47. K. R. Ryan and I. C. Plumb, J. Phys. Chem. 86, 4678 (1982).
48. G. Hancock, P. D. Harrison, and A. J. MacRobert, J. Chem. Soc., Faraday Trans. 2 82, 647 (1986).