-
1
-
-
0001932504
-
-
Kitamura, M.; Akiya, H.; Urisu, T. J. Vac. Sci. Technol. B 1989, 7, 14-18. Kay, E.; Dilks, A. Thin Solid Films 1981, 78, 308-318.
-
(1989)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.7
, pp. 14-18
-
-
Kitamura, M.1
Akiya, H.2
Urisu, T.3
-
2
-
-
0346746218
-
-
Kitamura, M.; Akiya, H.; Urisu, T. J. Vac. Sci. Technol. B 1989, 7, 14-18. Kay, E.; Dilks, A. Thin Solid Films 1981, 78, 308-318.
-
(1981)
Thin Solid Films
, vol.78
, pp. 308-318
-
-
Kay, E.1
Dilks, A.2
-
3
-
-
21544431507
-
-
Kadono, M.; Inoue, T.; Miyanaga, A.; Yamazaki, S. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 772-773. d'Agostino, R.; Lamendola, R.; Favia, P.; Giquel, A. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 308-313. Sah, R. E.; Dishler, B.; Bubenzer, A.; Koidl, P. Appl. Phys. Lett. 1985, 46, 739-741.
-
(1992)
Appl. Phys. Lett.
, vol.61
, pp. 772-773
-
-
Kadono, M.1
Inoue, T.2
Miyanaga, A.3
Yamazaki, S.4
-
4
-
-
77950370700
-
-
Kadono, M.; Inoue, T.; Miyanaga, A.; Yamazaki, S. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 772-773. d'Agostino, R.; Lamendola, R.; Favia, P.; Giquel, A. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 308-313. Sah, R. E.; Dishler, B.; Bubenzer, A.; Koidl, P. Appl. Phys. Lett. 1985, 46, 739-741.
-
(1994)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.12
, pp. 308-313
-
-
D'Agostino, R.1
Lamendola, R.2
Favia, P.3
Giquel, A.4
-
5
-
-
36549099068
-
-
Kadono, M.; Inoue, T.; Miyanaga, A.; Yamazaki, S. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 772-773. d'Agostino, R.; Lamendola, R.; Favia, P.; Giquel, A. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 308-313. Sah, R. E.; Dishler, B.; Bubenzer, A.; Koidl, P. Appl. Phys. Lett. 1985, 46, 739-741.
-
(1985)
Appl. Phys. Lett.
, vol.46
, pp. 739-741
-
-
Sah, R.E.1
Dishler, B.2
Bubenzer, A.3
Koidl, P.4
-
6
-
-
0000810447
-
-
and references therein
-
Mackie, N. M.; Dalleska, N. F.; Castner, D. G.; Fisher, E. R. Chem. Mater. 1997, 9, 349-362 and references therein.
-
(1997)
Chem. Mater.
, vol.9
, pp. 349-362
-
-
Mackie, N.M.1
Dalleska, N.F.2
Castner, D.G.3
Fisher, E.R.4
-
7
-
-
0030166127
-
-
Golub, M. A.; Wydeven, T.; Finney, L. S. Plasmas Polym. 1996, 1, 173-194.
-
(1996)
Plasmas Polym.
, vol.1
, pp. 173-194
-
-
Golub, M.A.1
Wydeven, T.2
Finney, L.S.3
-
8
-
-
0003082390
-
-
Langan, J. G.; Shorter, J. A.; Xin, X.; Joyce, S. A.; Steinfeld, J. I. Surf. Sci. 1989, 207, 344-353.
-
(1989)
Surf. Sci.
, vol.207
, pp. 344-353
-
-
Langan, J.G.1
Shorter, J.A.2
Xin, X.3
Joyce, S.A.4
Steinfeld, J.I.5
-
9
-
-
0002040103
-
-
d'Agostino, R., Ed.; Academic Press: San Diego, CA
-
d'Agostino, R.; Cramarossa, F.; Fracassi, F.; Illuzzi, F. In Plasma Deposition, Treatment and Etching of Polymers; d'Agostino, R., Ed.; Academic Press: San Diego, CA, 1990; pp 95-162.
-
(1990)
Plasma Deposition, Treatment and Etching of Polymers
, pp. 95-162
-
-
D'Agostino, R.1
Cramarossa, F.2
Fracassi, F.3
Illuzzi, F.4
-
19
-
-
21844510712
-
-
Haverlag, M.; Stoffels, E.; Stoffels, W. W.; Kroesen, G. M. W.; de Hoog, F. J. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 3102-3108.
-
(1994)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.12
, pp. 3102-3108
-
-
Haverlag, M.1
Stoffels, E.2
Stoffels, W.W.3
Kroesen, G.M.W.4
De Hoog, F.J.5
-
20
-
-
0001093529
-
-
Booth, J. P.; Hancock, G.; Perry, N. D. Appl. Phys. Lett. 1987, 50, 318. Booth, J. P.; Hancock, G.; Perry, N. D.; Toogood, M. J. J. Appl. Phys. 1989, 66, 5251.
-
(1987)
Appl. Phys. Lett.
, vol.50
, pp. 318
-
-
Booth, J.P.1
Hancock, G.2
Perry, N.D.3
-
21
-
-
36549100100
-
-
Booth, J. P.; Hancock, G.; Perry, N. D. Appl. Phys. Lett. 1987, 50, 318. Booth, J. P.; Hancock, G.; Perry, N. D.; Toogood, M. J. J. Appl. Phys. 1989, 66, 5251.
-
(1989)
J. Appl. Phys.
, vol.66
, pp. 5251
-
-
Booth, J.P.1
Hancock, G.2
Perry, N.D.3
Toogood, M.J.4
-
22
-
-
36549096060
-
-
Thoman, J. W., Jr.; Suzuki, K.; Kable, S. H.; Steinfeld, J. I. J. Appl. Phys. 1986, 60, 2775-2777.
-
(1986)
J. Appl. Phys.
, vol.60
, pp. 2775-2777
-
-
Thoman Jr., J.W.1
Suzuki, K.2
Kable, S.H.3
Steinfeld, J.I.4
-
23
-
-
84913420310
-
-
Ninomiya, K.; Suzuki, K.; Nishimatsu, S.; Okada, O. J. Vac. Sci. Technol. A 1986, 4, 1791-1794.
-
(1986)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.4
, pp. 1791-1794
-
-
Ninomiya, K.1
Suzuki, K.2
Nishimatsu, S.3
Okada, O.4
-
24
-
-
0000494853
-
-
McCurdy, P. R.; Bogart, K. H. A.; Dalleska, N. F.; Fisher, E. R. Rev. Sci. Instrum. 1997, 68, 1684.
-
(1997)
Rev. Sci. Instrum.
, vol.68
, pp. 1684
-
-
McCurdy, P.R.1
Bogart, K.H.A.2
Dalleska, N.F.3
Fisher, E.R.4
-
25
-
-
36549100403
-
-
Ho, P.; Breiland, W. G.; Buss, R. J. J. Chem. Phys. 1989, 91, 2627.
-
(1989)
J. Chem. Phys.
, vol.91
, pp. 2627
-
-
Ho, P.1
Breiland, W.G.2
Buss, R.J.3
-
26
-
-
0031582015
-
-
Bogart, K. H. A.; Cushing, J. P.; Fisher, E. R. Chem. Phys. Lett. 1997, 267, 377-383.
-
(1997)
Chem. Phys. Lett.
, vol.267
, pp. 377-383
-
-
Bogart, K.H.A.1
Cushing, J.P.2
Fisher, E.R.3
-
28
-
-
0031206468
-
-
McCurdy, P. R.; Venturo, V. A.; Fisher, E. R. Chem. Phys. Lett. 1997, 274, 120-126.
-
(1997)
Chem. Phys. Lett.
, vol.274
, pp. 120-126
-
-
McCurdy, P.R.1
Venturo, V.A.2
Fisher, E.R.3
-
30
-
-
0001165107
-
-
6 when substrates are placed downstream from the visible glow. Castner, D. G.; Lewis, K. B.; Fischer, D. A.; Ratner, B. D.; Gland, J. L. Langmuir 1993, 9, 537-542.
-
(1993)
Langmuir
, vol.9
, pp. 537-542
-
-
Castner, D.G.1
Lewis, K.B.2
Fischer, D.A.3
Ratner, B.D.4
Gland, J.L.5
-
32
-
-
0002431982
-
-
King, D. S.; Schenck, P. K.; Stephenson, J. C. J. Mol. Spectrosc. 1979, 78, 1-15.
-
(1979)
J. Mol. Spectrosc.
, vol.78
, pp. 1-15
-
-
King, D.S.1
Schenck, P.K.2
Stephenson, J.C.3
-
35
-
-
0026882404
-
-
Ikegami, N.; Ozawa, N.; Miyakawa, Y.; Hirashita, N.; Kanamori, J. Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31. 2020-2024.
-
(1992)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.31
, pp. 2020-2024
-
-
Ikegami, N.1
Ozawa, N.2
Miyakawa, Y.3
Hirashita, N.4
Kanamori, J.5
-
36
-
-
85088078917
-
-
note
-
6 plasma molecular beam.
-
-
-
-
38
-
-
21344493056
-
-
Gray, D. C.; Mohindra, V.; Sawin, H. H. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 354-364. Gray, D. C.; Tepermeister, I.; Sawin, H. H. J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11, 1243-1257.
-
(1994)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.12
, pp. 354-364
-
-
Gray, D.C.1
Mohindra, V.2
Sawin, H.H.3
-
39
-
-
21344493056
-
-
Gray, D. C.; Mohindra, V.; Sawin, H. H. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 354-364. Gray, D. C.; Tepermeister, I.; Sawin, H. H. J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11, 1243-1257.
-
(1993)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.11
, pp. 1243-1257
-
-
Gray, D.C.1
Tepermeister, I.2
Sawin, H.H.3
-
40
-
-
4043167521
-
-
note
-
XPS analysis of IRIS substrates indicates the films deposited under these conditions are nearly identical with those deposited directly in the plasma reactor as reported in ref 3.
-
-
-
-
41
-
-
0025522214
-
-
d'Agostino, R.; Favia, P.; Fracassi, F. J. Polym. Sci. A: Polym. Chem. 1990, 28, 3387-3402.
-
(1990)
J. Polym. Sci. A: Polym. Chem.
, vol.28
, pp. 3387-3402
-
-
D'Agostino, R.1
Favia, P.2
Fracassi, F.3
-
42
-
-
0022128997
-
-
d'Agostino, R.; Capezzuto, P.; Bruno, G.; Cramarossa, F. Pure Appl. Chem. 1985, 9, 1287-1298.
-
(1985)
Pure Appl. Chem.
, vol.9
, pp. 1287-1298
-
-
D'Agostino, R.1
Capezzuto, P.2
Bruno, G.3
Cramarossa, F.4
-
43
-
-
0028590820
-
-
Panchalingam, V.; Chen, X.; Savage, C. R.; Timmons, R. B.; Eberhart, C. J. Appl. Polym. Sci.: Polym. Symp. 1994, 54, 123-141. Savage, C. R.; Timmons, R. B.; Lin, J. W. In Structure-Property Relations in Polymers; ACS Advances in Chemistry Series 240; 1993, pp 745-768.
-
(1994)
J. Appl. Polym. Sci.: Polym. Symp.
, vol.54
, pp. 123-141
-
-
Panchalingam, V.1
Chen, X.2
Savage, C.R.3
Timmons, R.B.4
Eberhart, C.5
-
44
-
-
0028590820
-
-
ACS Advances in Chemistry Series 240
-
Panchalingam, V.; Chen, X.; Savage, C. R.; Timmons, R. B.; Eberhart, C. J. Appl. Polym. Sci.: Polym. Symp. 1994, 54, 123-141. Savage, C. R.; Timmons, R. B.; Lin, J. W. In Structure-Property Relations in Polymers; ACS Advances in Chemistry Series 240; 1993, pp 745-768.
-
(1993)
Structure-Property Relations in Polymers
, pp. 745-768
-
-
Savage, C.R.1
Timmons, R.B.2
Lin, J.W.3
-
45
-
-
0003225316
-
-
d'Agostino, R., Ed.; Academic Press: San Diego, CA
-
Morosoff, N. In Plasma Deposition, Treatment and Etching of Polymers; d'Agostino, R., Ed.; Academic Press: San Diego, CA, 1990; pp 1-93.
-
(1990)
Plasma Deposition, Treatment and Etching of Polymers
, pp. 1-93
-
-
Morosoff, N.1
|