[formula omitted] production and loss mechanisms in fluorocarbon discharges: Fluorine-poor conditions and polymerization

Journal of Applied Physics

Volumn 85, Issue 8, 1999, Pages 3952-3959

  Cunge, G ^a   Booth, J P ^a  

^a LIPHY   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001620883     PISSN: 00218979     EISSN: 10897550     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.370296     Document Type: Article

References (49)

1. J. W. Coburn, J. Appl. Phys. JAPIAU 50, 5210 (1979).
2. J. W. Coburn, Plasma Chem. Plasma Process. PCPPDW 2, 1 (1982).
3. G. S. Oehrlein and H. R. Williams, J. Appl. Phys. JAPIAU 62, 662 (1987).
4. O. Joubert, G. S. Oehrlein, and Y. Zhang, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 12, 658 (1994).
5. O. Joubert, G. S. Oehrlein, and M. Surendra, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 12, 665 (1994).
6. J. P. Booth, G. Cunge, P. Chabert, and N. Sadeghi, J. Appl. Phys. JAPIAU 85, 3097 (1999).
7. D. C. Marra and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 15, 2508 (1997).
8. O. Joubert, P. Czuprynski, F. H. Bell, P. Berruyer, and R. Blanc, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 15, 629 (1997).
9. T. Ono, R. Hamasaki, and T. Mizutani, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 JAPLD8 33, L1717 (1994).
10. T. Ono, R. Hamasaki, and T. Mizutani, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 35, 2468 (1996).
11. K.-I. Siozawa, K. Tabaru, T. Maruyama, N. Fujiwara, and M. Yoneda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 35, 2483 (1996).
12. N. C. Us, R. W. Sadowski, and J. W. Coburn, Plasma Chem. Plasma Process. PCPPDW 6, 1 (1986).
13. F. Fracassi, E. Ochiello, and J. W. Coburn, J. Appl. Phys. JAPIAU 62, 3980 (1987).
14. G. S. Oehrlein, Y. Zhang, D. Vender, and M. Haverlag, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 12, 323 (1994).
15. T. Marayuma, N. Fujiwara, K. Siozawa, and M. Yoneda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 35, 2463 (1996).
16. K. Takahashi, M. Hori, M. Inayoshi, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 35, 3635 (1996).
17. R. D’Agostino, F. Cramarossa, V. Colaprico, and R. d’Ettole, J. Appl. Phys. JAPIAU 54, 1284 (1983).
18. S. Pang and S. R. J. Brueck, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. MRSPDH 17, 161 (1983).
19. M. Kitamura, H. Akiya, and T. Urisu, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 7, 14 (1989).
20. S. Samukawa and S. Furuoya, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 JAPLD8 32, L1289 (1993).
21. K. Takahashi, M. Hori, S. Kishimoto, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 33, 4181 (1994).
22. J. A. O’Neill and J. Singh, J. Appl. Phys. JAPIAU 77, 497 (1995).
23. T. Goto and M. Hori, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 35, 6521 (1996).
24. M. M. Millard and E. Kay, J. Electrochem. Soc. JESOAN 129, 160 (1982).
25. H.-H. Doh, J.-H. Kim, S.-H. Lee, and K.-W. Whang, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 14, 2827 (1996).
26. J. P. Booth, G. Hancock, N. D. Perry, and M. J. Toogood, J. Appl. Phys. JAPIAU 66, 5251 (1989).
27. G. Z. Yin, M. Ben-Dor, M. S. Chang, and T. O. Yep, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 7, 691 (1989).
28. T. Tsukada, S. Mashiro, and K. Mashimo, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 32, 4850 (1993).
29. S. Ito, K. Nakamura, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 JAPLD8 33, L1261 (1994).
30. Y. Chinzei, T. Ichiki, R. Kurosaki, J. Kikuchi, N. Ikegamai, T. Fukuzawa, H. Shindo, and Y. Horiike, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 35, 2472 (1996).
31. J. P. Booth, G. Hancock, N. Perry, D. C. W. Blaikely, J. A. Cairns, and R. Smailes, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. MRSPDH 98, 135 (1987).
32. Y. Hikosaka, H. Toyoda, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 JAPLD8 32, L690 (1993).
33. Y. Hikosaka and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 32, 3040 (1993).
34. G. Cunge, P. Chabert, and J. P. Booth, Plasma Sources Sci. Technol. PSTEEU 6, 349 (1997).
35. J. P. Booth, G. Cunge, F. Neuilly, and N. Sadeghi, Plasma Sources Sci. Technol. PSTEEU 7, 423 (1998).
36. G. Cunge, J. P. Booth, and J. Derouard, Chem. Phys. Lett. CHPLBC 263, 645 (1996).
37. J. W. Coburn and M. Chen, J. Appl. Phys. JAPIAU 51, 3134 (1980).
38. J. Perrin, M. Shiratani, P. Kae-Nune, H. Videlot, J. Jolly, and J. Guillon, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 16, 278 (1997).
39. N. S. J. Braithwaite, J. P. Booth, and G. Cunge, Plasma Sources Sci. Technol. PSTEEU 5, 677 (1996).
40. N. M. Mackie, V. A. Venturo, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B JPCBFK 101, 9425 (1997).
41. M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 14, 384 (1996).
42. I. C. Plumb and K. R. Ryan, Plasma Chem. Plasma Process. PCPPDW 6, 205 (1986).
43. W. Schwarzenbach, G. Cunge, and J. P. Booth, J. Appl. Phys. (submitted).
44. G. Cunge, Ph.D. Thesis, Université Joseph Fourier—Grenoble I, 1997.
45. I. C. Plumb and K. R. Ryan, Plasma Chem. Plasma Process. PCPPDW 6, 11 (1986).
46. W. W. Stoffels, E. Stoffels, and K. Tachibana, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 36, 4638 (1997).
47. E. Stoffels, W. W. Stoffels, and K. Tachibana, Rev. Sci. Instrum. RSINAK 69, 116 (1998).
48. W. W. Stoffels, E. Stoffels, and K. Tachibana, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 16, 87 (1998).
49. S. R. Hunter and L. G. Christophorou, J. Phys. Chem. JPCHAX 80, 6150 (1984).