Atomic layer deposition of TiO2 from TiCl4 and O 3

Thin Solid Films

Volumn 542, Issue , 2013, Pages 100-107

  Aarik, Lauri ^a   Arroval, Tõnis ^a   Rammula, Raul ^a   Mändar, Hugo ^a   Sammelselg, Väino ^a   Aarik, Jaan ^a  

^a UNIVERSITY OF TARTU   (Estonia)

Author keywords

Atomic layer deposition; Crystallization; Ozoone; Surface morpholgy; Titanium chloride; Titanium dioxide

Indexed keywords

ANATASE PHASE; ANATASE STRUCTURES; LOW CONCENTRATIONS; LOW SURFACE ROUGHNESS; OZOONE; SI (100) SUBSTRATE; SUBSTRATE TEMPERATURE; TITANIUM CHLORIDE;

CHLORINE COMPOUNDS; CRYSTALLIZATION; DEPOSITION; HYDROGEN; OXIDE MINERALS; SUBSTRATES; SURFACE ROUGHNESS; TITANIUM DIOXIDE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84881314021     PISSN: 00406090     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.tsf.2013.06.074     Document Type: Article

References (52)

1. M. Knez, K. Nielsch, and L. Niinistö Adv. Mater. 19 2007 3425
2. U. Diebold Surf. Sci. Rep. 48 2003 53
3. V. Pore, A. Rahtu, M. Leskäla, M. Ritala, T. Sajavaara, and J. Keinonen Chem. Vap. Depos. 3 2004 143
4. S. Zaitsu, S. Motokoshi, T. Jitsuno, M. Nakatsuka, and T. Yamanaka J. Appl. Phys. 41 2002 160
5. K. Fröhlich, M. Ťapajna, A. Rosová, E. Dobročka, K. Hušeková, J. Aarik, and A. Aidla Electrochem. Solid-State Lett. 11 2008 G19
6. S.K. Kim, K.-M. Kim, O.S. Kwon, S.W. Lee, C.B. Jeon, W.Y. Park, C.S. Hwang, and J. Jeong Electrochem. Solid-State Lett. 8 12 2005 F59
7. J. Aarik, B. Hudec, K. Hušekova, R. Rammula, A. Kasikov, T. Arroval, T. Uustare, and K. Fröhlich Semicond. Sci. Technol. 27 2012 074007
8. L. Bamoulid, M.-T. Maurette, D. De Caro, A. Guenbour, A. Ben Bachir, L. Aries, S. El Hajjaji, F. Benoît-Marquié, and F. Ansart Surf. Coat. Technol. 202 2008 5020
9. E. Marin, A. Lanzutti, M. Lekka, L. Guzman, W. Ensinger, and L. Fedrizzi Surf. Coat. Technol. 211 2011 84
10. C.X. Shan, X. Hou, and K.-L. Choy Surf. Coat. Technol. 202 2008 2399
11. E.-L. Lakomaa, S. Haukka, and T. Suntola Appl. Surf. Sci. 60 61 1992 742
12. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, and V. Sammelselg J. Cryst. Growth 148 1995 268
13. R. Matero, A. Rahtu, and M. Ritala Chem. Mater. 13 2001 4506
14. H. Kumagai, M. Matsumoto, K. Toyoda, M. Obara, and M. Suzuki Thin Solid Films 263 1995 47
15. M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö, and P. Haussalo Chem. Mater. 5 1994 556
16. J. Aarik, A. Aidla, V. Sammelselg, T. Uustare, M. Ritala, and M. Leskelä Thin Solid Films 370 2000 163
17. M. Ritala, M. Leskäla, E. Nykänen, P. Soinine, and L. Niinistö Thin Solid Films 225 1993 288
18. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, M. Ritala, and M. Leskelä Appl. Surf. Sci. 161 2000 385
19. A. Rahtu, and M. Ritala Chem. Vap. Depos. 8 2002 21
20. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, K. Kukli, V. Sammelselg, M. Ritala, and M. Leskelä Appl. Surf. Sci. 193 2002 277
21. K. Kukli, M. Ritala, M. Schuisky, M. Leskelä, T. Sajavaara, J. Keinonen, T. Uustare, and A. Hårsta Chem. Vap. Depos. 6 2000 303
22. K. Kukli, A. Aidla, J. Aarik, M. Schuisky, A. Hårsta, M. Ritala, and M. Leskelä Langmuir 16 2000 8122
23. R.L. Puurunen Chem. Vap. Depos. 11 2005 79
24. P.W. Peacock, and J. Robertson Appl. Phys. Lett. 83 2003 2025
25. H.B. Park, M. Cho, J. Park, S.W. Lee, C.S. Hwang, J.-P. Kim, J.-H. Lee, N.-I. Lee, H.-K. Kang, J.-C. Lee, and S.-J. Oh J. Appl. Phys. 94 2003 3641
26. M. Schuisky, J. Aarik, K. Kukli, A. Aidla, and A. Hårsta Langmuir 17 2001 5508
27. M. Linndbad, S. Haukka, A. Kytökivi, E.-L. Lakomaa, A.R. Autiainen, and T. Suntola Appl. Surf. Sci. 121 122 1997 286
28. S.K. Kim, W.D. Kim, K.M. Kim, C.S. Hwang, and J. Jeong Appl. Phys. Lett. 85 2004 4112
29. J.J. Park, W.J. Lee, G.H. Lee, I.S. Kim, B.C. Shin, and S.G. Yoon Integr. Ferroelectr. 68 2004 129
30. A. Rahtu, K. Kukli, and M. Ritala Chem. Mater. 13 2001 817
31. J. Aarik, A. Aidla, A.-A. Kiisler, T. Uustare, and V. Sammelselg Thin Solid Films 340 1999 110
32. J. Aarik, A. Aidla, H. Mändar, and V. Sammelselg J. Cryst. Growth 220 2000 531
33. D.R.G. Mitchell, D.J. Attard, and G. Triani Thin Solid Films 441 2003 85
34. R.L. Puurunen, T. Sajavaara, E. Santala, V. Miikkulainen, T. Saukkonen, M. Laitinen, and M. Leskelä J. Nanosci. Nanotechnol. 11 2011 8101
35. Y. Suyama, and A. Kato J. Am. Ceram. Soc. 59 1976 146
36. R.H. West, G.J.O. Beran, W.H. Green, and M. Kraft J. Phys. Chem. A 111 2007 3560
37. J. Aarik, A. Aidla, H. Mändar, and T. Uustare Appl. Surf. Sci. 172 2001 148
38. K. Knapas, and M. Ritala Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2013 10.1080/10408436.2012.693460 (to be published)
39. M.Kh. Karapet'yants, and M.L. Karapet'yans Thermodynamic Constants of Inorganic and Organic Compounds 1970 Ann Arbor-Humprey Science Publishers London 461
40. S.C. Shekar, K. Soni, R. Bunkar, M. Sharma, B. Singh, A. Nigam, T. Mahato, and R. Vijayaraghavan Catal. Commun. 11 2009 77
41. I. Barin Thermochemical Data of Pure Substances, Part I 1993 VCH Verlags Gesellschaft Weinheim
42. W.D. Kim, G.W. Hwang, O.S. Kwon, S.K. Kim, M. Cho, D.S. Jeong, S.W. Lee, M.H. Seo, C.S. Hwang, Y.-S. Min, and Y.J. Cho J. Electrochem. Soc. 152 2005 C552
43. J. Aarik, J. Karlis, H. Mändar, T. Uustare, and V. Sammelselg Appl. Surf. Sci. 181 2001 339
44. J. Aarik, A. Aidla, A. Kikas, T. Käämbre, R. Rammula, P. Ritslaid, T. Uustare, and V. Sammelselg Appl. Surf. Sci. 230 2004 292
45. I. Jõgi, K. Kukli, J. Aarik, A. Aidla, and J. Lu Mater. Sci. Semicond. Process. 9 2006 1084
46. D.R.G. Mitchell, A. Aidla, and J. Aarik Appl. Surf. Sci. 253 2006 606
47. J. Aarik, A. Aidla, H. Mändar, T. Uustare, and V. Sammelselg Thin Solid Films 408 2002 97
48. D.M. Hausmann, and R.G. Gordon J. Cryst. Growth 249 2003 251
49. S. Haukka, E.-L. Lakomaa, and A. Root J. Phys. Chem. 97 1993 5085
50. S. Kelly, F.H. Pollak, and M. Tomkiewicz J. Phys. Chem. B 101 1997 2730
51. I.A. Alhomoudi, and G. Newaz Thin Solid Films 517 2009 4372
52. J. Aarik, A. Aidla, H. Mändar, T. Uustare, M. Schuisky, and A. Harsta J. Cryst. Growth 242 2002 189