Formation of metal oxide particles in atomic layer deposition during the chemisorption of metal chlorides: A review

Chemical Vapor Deposition

Volumn 11, Issue 2, 2005, Pages 79-90

  Puurunen, Riikka L ^a,b,c  

^a IMEC   (Belgium)

^b UNIVERSITY OF LEUVEN   (Belgium)

^c VTT TECHNICAL RESEARCH CENTRE OF FINLAND   (Finland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CATALYSTS; CHEMISORPTION; ELECTROLUMINESCENCE; MULTILAYERS; REACTION KINETICS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SURFACE ROUGHNESS; THIN FILMS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD); GROWTH PER CYCLE; HYDROXYCHLORIDE; METAL CHLORIDE; PARTICLE FORMATION;

GROWTH (MATERIALS);

EID: 15744390332     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200400021     Document Type: Review

References (87)

1. A. M. Shevjakov, G. N. Kuznetsova, V. B. Aleskovskii in, Proc. 2nd USSR Conf. On High Temperature Chemistry of Oxides, Nauka, Leningrad, USSR 1967, pp. 149-155. (In Russian).
2. S. I. Kol'tsov, V. B. Aleskovskii, Zh. Prikl. Khim. 1967, 40, 907; J. Appl. Chem. USSR 1967, 40, 872.
3. S. I. Kol'tsov, V. B. Aleskovskii, Zh. Prikl. Khim. 1967, 40, 907; J. Appl. Chem. USSR 1967, 40, 872.
4. T. Suntola, J. Antson, US Patent 4 058 430, 1977.
5. M. Ritala, M. Leskelä, in Handbook of Thin Film Materials, Vol. 1 (Ed: H. S. Nalwa), Academic Press, San Diego, CA 2002, p. 103.
6. R. L. Puurunen, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 249.
7. P. J. Kooyman, P. van der Waal, P. A. J. Verdaasdonk, K. C. Jansen, H. van Bekkum, Catal. Lett. 1992, 13, 229.
8. S. Haukka, E.-L. Lakomaa, A. Root, J. Phys. Chem. 1993, 97, 5085.
9. S. Haukka, E.-L. Lakomaa, O. Jylhä, J. Vilhunen, S. Hornytzkyj, Langmuir 1993, 9, 3497.
10. A. Kytökivi, E.-L. Lakomaa, A. Root, Langmuir 1996, 12, 4395.
11. A. Kytökivi, E.-L. Lakomaa, A. Root, H. Österholm, J.-P. Jacobs, H. H. Brongersma, Langmuir 1997, 13, 2717.
12. A. Kytökivi, S. Haukka, J. Phys. Chem. B 1997, 101, 10365.
13. A. Kytökivi, Doctoral Thesis, Helsinki University of Technology, Finland 1997.
14. M. Ritala, M. Leskelä, Thin Solid Films 1993, 225, 288.
15. M. Ritala, M. Leskelä, L.-S. Johansson, L. Niinistö, Thin Solid Films 1993, 228, 32.
16. J. W. Elam, G. Xiong, C. Y. Han, J. P. Birrell, G. A. Willing, H. H. Wang, J. N. Hryn, M. J. Pellin, presented at the AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition "ALD 2004," Helsinki, Finland, August 16-18, 2004.
17. E. Graugnard, J. S. King, D. Heineman, C. J. Summers, presented at the AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition "ALD 2004," Helsinki, Finland, August 16-18, 2004.
18. R. Leboda, V. M. Gunko, M. Marciniak, A. A. Malygin, A. A. Malkin, W. Grzegorczyk, B. J. Trznadel, E. M. Pakhlov, E. F. Voronin, J. Colloid Interface Sci. 1999, 218, 23.
19. S. I. Kol'tsov, V. B. Aleskovskii, Zh. Fiz. Khin. 1968, 42, 210; RUSS. J. Phys. Chem. 1968, 42, 630.
20. S. I. Kol'tsov, V. B. Aleskovskii, Zh. Fiz. Khin. 1968, 42, 210; RUSS. J. Phys. Chem. 1968, 42, 630.
21. S. I. Kol'tsov, Zh. Prikl. Khim. 1969, 42, 1023; J. Appl Chem. USSR 1969, 42, 975.
22. S. I. Kol'tsov, Zh. Prikl. Khim. 1969, 42, 1023; J. Appl Chem. USSR 1969, 42, 975.
23. C. G. Armistead, A. J. Tyler, F. H. Hambleton, S. A. Mitchell, J. A. Hockey, J. Phys. Chem. 1969, 73, 3947.
24. J. Murray, M. J. Sharp, J. A. Hockey, J. Catal. 1970, 18, 52.
25. V. N. Pak, Y. P. Kostikov, S. I. Kol'tsov, V. B. Aleskovskii, Kinet. Ratal. 1974, 15, 1358; Kinet. Catal. 1974, 75, 1205.
26. V. N. Pak, Y. P. Kostikov, S. I. Kol'tsov, V. B. Aleskovskii, Kinet. Ratal. 1974, 15, 1358; Kinet. Catal. 1974, 75, 1205.
27. V. N. Pak, Zh. Fiz. Khim. 1976, 50, 1266; Russ. J. Phys. Chem. 1976, 50, 758.
28. V. N. Pak, Zh. Fiz. Khim. 1976, 50, 1266; Russ. J. Phys. Chem. 1976, 50, 758.
29. S. I. Kol'tsov, V. E. Drozd, T. A. Redova, V. B. Aleskovskii, Dokl. Akad. Nauk SSSR 1977, 235, 1090; Dokl. Phys. Chem. 1977, 235, 794.
30. S. I. Kol'tsov, V. E. Drozd, T. A. Redova, V. B. Aleskovskii, Dokl. Akad. Nauk SSSR 1977, 235, 1090; Dokl. Phys. Chem. 1977, 235, 794.
31. B. A. Morrow, A. H. Hardin, J. Phys. Chem. 1979, 83, 3135.
32. J. B. Kinney, R. H. Staley, J. Phys. Chem. 1983, 87, 3735.
33. O. H. Ellestad, U. Blindheim, J. Mol. Catal. 1985, 33, 275.
34. L. I. Petrova, A. A. Malkov, A. A. Malygin, Zh. Prikl. Khim. 1986, 59, 2277; J. Appl. Chem. USSR 1986, 59, 2093.
35. L. I. Petrova, A. A. Malkov, A. A. Malygin, Zh. Prikl. Khim. 1986, 59, 2277; J. Appl. Chem. USSR 1986, 59, 2093.
36. D. Damyanov, M. Velikova, I. Ivanov, L. Vlaev, J. Non-Cryst. Solids 1988, 105, 107.
37. B. A. Morrow, A. J. McFarlan, J. Non-Cryst. Solids 1990, 120, 61.
38. E.-L. Lakomaa, S. Haukka, T. Suntola, Appl. Surf. Sci. 1992, 60/67, 742.
39. S. Haukka, E.-L. Lakomaa, T. Suntola, Thin Solid Films 1993, 225, 280.
40. A. A. Malygin, A. A. Malkov, S. D. Dubrovenskii, Stud. Surf. Sci. Catal. 1996, 99, 213.
41. A. A. Malkov, E. A. Sosnov, O. V. Osipenkova, A. A. Malygin, Appl. Surf. Sci. 1997, 108, 133.
42. K. Schrijnemakers, P. Van Der Voort, E. F. Vansant, Phys. Chem. Chem. Phys. 1999, 1, 2569.
43. K. Schrijnemakers, N. R. E. N. Impens, E. F. Vansant, Langmuir 1999, 15, 5807.
44. R. Leboda, V. V. Turov, M. Marciniak, A. A. Malygin, A. A. Malkov, Langmuir 1999, 75, 8441.
45. M. A. Cameron, I. P. Gartland, J. A. Smith, S. F. Diaz, S. F. George, Langmuir 2000, 16, 7435.
46. K. Schrijnemakers, P. Cool, E. F. Vansant, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 6248.
47. S. B. Desu, Mater. Sci. Eng., B 1992, 13, 299.
48. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, V. Sammelselg, J. Cryst. Growth 1995, 148, 268.
49. J. Aarik, A. Aidla, V. Sammelselg, H. Siimon, T. Uustare, J. Cryst. Growth 1996, 769, 496.
50. J. Aarik, A. Aidla, V. Sammelselg, T. Uustare, J. Cryst. Growth 1997, 181, 259.
51. J. Aarik, A. Aidla, A.-A. Kiisler, T. Uustare, V. Sammelselg, Thin Solid Films 1997, 305, 270.
52. H. Siimon, J. Aarik, J., Phys. D: Appl. Phys. 1997, 30, 1725.
53. H. Siimon, J. Aarik, T. Uustare, in Chemical Vapor Deposition-Proc. 14th Int. CVD Conf. and EUROCVD-11 (Eds: M. Allendorf, C. Bernard), The Electrochemical Soc., Pennington, NJ 1997, Vol. 97-25, pp. 131-138.
54. V. Sammelselg, A. Rosental, A. Tarre, L. Niinistö, K. Heiskanen, K. Unionen, L.-S. Johansson, T. Uustare, Appl. Surf. Sci. 1998, 134, 78.
55. J. Aarik, A. Aidla, H. Mändar, V. Sammelselg, J. Cryst. Growth 2000, 220, 531.
56. J. Aarik, A. Aidla, H. Mändar, T. Uustare, Appl. Surf. Sci. 2001, 772, 148.
57. R. Matero, A. Rahtu, M. Ritala, Chem. Mater. 2001, 13, 4506.
58. M. L. Hair, W. Hertl, J. Phys. Chem. 1973, 77, 2070.
59. Y. Widjaja, C. B. Musgrave, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 304.
60. V. V. Brodskii, E. A. Rykova. A. A. Bagatur'yants, A. A. Korkin, Comput. Mater. Sci. 2002, 24, 278.
61. Y. Widjaja, C. B. Musgrave, J. Chem. Phys. 2002, 117, 1931.
62. A. A. Malygin, V. F. Dergachev, S. I. Kol'tsov, Zh. Prikl. Khim. 1986, 59, 430; J. Appl. Chem. USSR 1986, 59, 392.
63. A. A. Malygin, V. F. Dergachev, S. I. Kol'tsov, Zh. Prikl. Khim. 1986, 59, 430; J. Appl. Chem. USSR 1986, 59, 392.
64. V. B. Aleskovskii, Y. M. Artem'ev, S. F. Oerasimov, Zh. Prikl. Khim. 1994,67, 212; RUSS. J. Appl. Chem. 1994, 67, 192.
65. V. B. Aleskovskii, Y. M. Artem'ev, S. F. Oerasimov, Zh. Prikl. Khim. 1994,67, 212; RUSS. J. Appl. Chem. 1994, 67, 192.
66. A. Kytökivi, M. Lindblad, A. Root, J. Chem. Soc. Faraday Trans. 1995, 97, 941.
67. S. Haukka, Doctoral Thesis, University of Helsinki, Finland 1993.
68. I. V. Babich, Y. V. Plyuto, A. A. Chuiko, Zh. Fiz. Khim. 1988, 62, 516; RUSS. J. Phys. Chem. 1988, 62, 243.
69. I. V. Babich, Y. V. Plyuto, A. A. Chuiko, Zh. Fiz. Khim. 1988, 62, 516; RUSS. J. Phys. Chem. 1988, 62, 243.
70. F. Gray, M. Pijolat, J. Am. Ceram. Soc. 1992, 75, 657.
71. F. Gray, M. Pijolat, J. Am. Ceram. Soc. 1992, 75, 663.
72. S. Haukka, E.-L. Lakomaa, T. Suntola, Stud. Surf. Sci. Catal. 1999, 120A, 715.
73. H. Knözinger, P. Ratnasamy, Catal. Rev.-Sci. Eng. 1978, 17, 31.
74. C. Musgrave, presented at the AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition "ALD 2003," San Jose, California, USA, August 4-6, 2003.
75. A. Heyman, C. B. Musgrave, J. Phys. Chem. B 2004, 108, 5718.
76. J. Aarik, K. Kukli, A. Aidla, L. Pung, Appl. Surf. Sci. 1996, 103, 331.
77. K.-E. Elers, M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 468.
78. A. Rahtu, M. Ritala, J. Mater. Chem. 2002, 12, 1484.
79. R. L. Puurunen, M. Lindblad, A. Root, A. O. I. Krause, Phys. Chem. Chem. Phys. 2001, 3, 1093.
80. S. Haukka, T. Suntola, Interface Sci. 1997, 75, 119.
81. M. Copel, M. Gribelyuk, E. Gusev, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 436.
82. K. S. Finnie, G. Triani, K. T. Short, D. R. G. Mitchell, D. J. Attard, J. R. Bartlett, C. J. Barbé, Thin Solid Films 2003, 440, 109.
83. D. R. G. Mitchell, D. J. Attard, G. Triani, Thin Solid Films 2003, 441, 85.
84. E. P. Gusev, C. Cabrai, Jr., M. Copel, C. D'Emic, M. Gribelyuk, Microelectron. Eng. 2003, 69, 145.
85. R. L. Puurunen, J. Appl. Phys. 2004, 95, 4777.
86. R. L. Puurunen, W. Vandervorst, J. Appl. Phys. 2004, 96, 7686.
87. R. L. Puurunen, W. Vandervorst, W. F. A. Besling, O. Richard, H. Bender, T. Conard, C. Zhao, A. Delabie, M. Caymax, S. de Gendt, M. Heyns, M. M. Viitanen, M. de Ridder, H. H. Brongersma, Y. Tamminga, T. Dao, T. de Win, M. Verheijen, M. Kaiser, M. Tuominen, J. Appl. Phys. 2004, 96, 4878.