Atomic layer deposition of titanium dioxide from TiCl4 and H2O: Investigation of growth mechanism

Applied Surface Science

Volumn 172, Issue 1-2, 2001, Pages 148-158

  Aarik, J ^a   Aidla, A ^a   Mandar H ^a   Uustare, T ^a  

^a UNIVERSITY OF TARTU   (Estonia)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADSORPTION; CRYSTALLIZATION; DECOMPOSITION; DEPOSITION; DESORPTION; FILM GROWTH; FILM PREPARATION; QUARTZ; SUBSTRATES; TITANIUM COMPOUNDS; WATER;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; REAL-TIME QUARTZ CRYSTAL MICROBALANCE METHOD;

AMORPHOUS FILMS;

EID: 0035282191     PISSN: 01694332     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0169-4332(00)00842-4     Document Type: Article

References (22)

1. Suntola T. Mater. Sci. Rep. 4:1989;261.
2. Ritala M., Leskelä M., Nykänen E., Soininen P., Niinistö L. Thin Solid Films. 225:1993;288.
3. Nishizawa J., Abe H., Kurabayashi T. J. Electrochem. Soc. 132:1985;1197.
4. Aleskovskii V.B., Drozd V.E. Acta Polytech. Scand. Ser. Chem. Technol. 195:1990;155.
5. Aarik J., Aidla A., Uustare T., Sammelselg V. J. Cryst. Growth. 148:1995;268.
6. Rosental A., Adamson P., Gerst A., Koppel H., Tarre A. Appl. Surf. Sci. 112:1997;82.
7. Sammelselg V., Rosental A., Tarre A., Niinistö L., Heiskanen K., Ilmonen K., Johansson L.-S., Uustare T. Appl. Surf. Sci. 134:1998;78.
8. Kumagai H., Matsumoto M., Toyoda K., Obara M., Suzuki M. Thin Solid Films. 263:1995;47.
9. Döring H., Hashimoto K., Fujishima A. Ber. Bunsenges. Phys. Chem. 96:1992;620.
10. Aarik J., Aidla A., Uustare T., Ritala M., Leskelä M. Appl. Surf. Sci. 161:2000;385.
11. Aarik J., Aidla A., Sammelselg V., Uustare T., Ritala M., Leskelä M. Thin Solid Films. 370:2000;163.
12. Ritala M., Leskelä M., Rauhala E. Chem. Mater. 6:1994;556.
13. Lakomaa E.-L., Haukka S., Suntola T. Appl. Surf. Sci. 60/61:1992;742.
14. Haukka S., Lakomaa E.-L., Suntola T. Thin Solid Films. 225:1993;280.
15. Haukka S., Lakomaa E.-L., Jylhä O., Hornytskyj J., Vilhunen S. Langmuir. 9:1993;3497.
16. Haukka S., Lakomaa E.-L., Root A. J. Phys. Chem. 97:1993;5085.
17. Siimon H., Aarik J. J. Phys. D: Appl. Phys. 30:1997;1725.
18. Aarik J., Aidla A., Kiisler A.-A., Uustare T., Sammelselg V. Thin Solid Films. 340:1999;110.
19. Swanepoel R. J. Phys. E: Sci. Instrum. 16:1983;1214.
20. Aarik J., Aidla A., Kiisler A.-A., Uustare T., Sammelselg V. Thin Solid Films. 305:1997;270.
21. Bourgeois S., Jomard F., Perdereau M. Surf. Sci. 279:1992;349.
22. Ritala M., Leskelä M., Johansson L.-S., Niinistö L. Thin Solid Films. 228:1993;32.