A "thiol-ene" photo-curable hybrid fluorinated resist for the high-performance replica mold of nanoimprint lithography (NIL)

Journal of Materials Chemistry

Volumn 22, Issue 6, 2012, Pages 2616-2623

  Lin, Hong ^a   Wan, Xia ^a   Jiang, Xuesong ^a   Wang, Qingkang ^a   Yin, Jie ^a  

^a SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CROSSLINKER; DIACRYLATES; ECONOMIC EFFICIENCY; FEATURE SIZES; FLUORINATED HYBRIDS; FLUORINATED POLYMERS; HIGH DURABILITY; HIGH TRANSPARENCY; HIGH-RESOLUTION PATTERNING; HIGH-THROUGHPUT; LOW SURFACE ENERGY; LOW VISCOSITY; MOLD FABRICATION; NANO-DEVICES; OXYGEN INHIBITION; POLYHEDRAL OLIGOMERIC SILSESQUIOXANES; SOFT MOLD; THIOL-ENE PHOTOPOLYMERIZATION; THIOL-ENES; UV- AND; VOLUMETRIC SHRINKAGE; YOUNG'S MODULUS;

FLUORINE CONTAINING POLYMERS; FRACTURE; HYBRID MATERIALS; MECHANICAL PROPERTIES; MOLDS; OLIGOMERS; ORGANIC SOLVENTS; PHOTOPOLYMERIZATION; SURFACE CHEMISTRY;

NANOIMPRINT LITHOGRAPHY;

EID: 84862956099     PISSN: 09599428     EISSN: 13645501     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c1jm13765d     Document Type: Article

References (47)

1. Y. Xia G. M. Whitesides Angew. Chem., Int. Ed. 1998 37 550
2. Y. Xia J. A. Rogers K. E. Paul G. M. Whitesides Chem. Rev. 1999 99 1823
3. E. Menard M. A. Meitl Y. Sun J. U. Park D. J. L. Shir Y. S. Nam S. Jeon J. A. Rogers Chem. Rev. 2007 107 1117
4. A. N. Parikh D. L. Allara I. B. Azouz F. Rondelezz J. Phys. Chem. 1994 98 7577
5. M. Austin S. Y. Chou J. Vac. Sci. Technol., B 2002 20 665
6. G. Y. Jung S. Ganapathiappan X. Li D. A. A. Ohlberg D. L. Olynick Y. Chen W. M. Tong R. S. Williams Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2004 78 1169
7. B. D. Gates Q. B. Xu M. Stewart D. Ryan C. G. Willson G. M. Whitesides Chem. Rev. 2005 105 1171
8. K. M. Choi J. Phys. Chem. B 2005 109 21525
9. J. P. Rolland B. W. Maynor L. E. Euliss A. E. Exner G. M. Denison J. M. DeSimone J. Am. Chem. Soc. 2005 127 10096
10. K. M. Choi J. A. Rogers J. Am. Chem. Soc. 2003 125 4060
11. H. Schmid B. Michel Macromolecules 2000 33 3042
12. T. W. Odom J. C. Love D. B. Wolfe K. E. Paul G. M. Whitesides Langmuir 2002 18 5314
13. J. N. Lee C. Park G. M. Whitesides Anal. Chem. 2003 75 6544
14. J. P. Rolland E. C. Hagberg G. M. Denison K. R. Carter J. M. Simone Angew. Chem., Int. Ed. 2004 43 5796
15. Y. S. Kim H. H. Lee P. T. Hammond Nanotechnology 2003 14 1140
16. N. Y. Lee J. R. Lim M. J. Lee S. Park Y. S. Kim Langmuir 2006 22 7689
17. A. Kumar G. M. Whitesides Appl. Phys. Lett. 1993 63 2002
18. G. Csucs T. Kunzler K. Feldman F. Robin N. D. Spencer Langmuir 2003 19 6104
19. H. X. Ge W. Wu Z. Y. Li G. Y. Jung D. Olynick Y. F. Chen J. A. Liddle S. Y. Wang R. S. Williams Nano Lett. 2005 5 179
20. P. J. Yoo S. J. Choi J. H. Kim D. Suh S. J. Baek T. W. Kim H. H. Lee Chem. Mater. 2004 16 5000
21. D. Y. Khang H. Kang T. I. Kim H. H. Lee Nano Lett. 2004 4 633
22. D. Y. Khang H. H. Lee Langmuir 2004 20 2445
23. K. Wu X. Wang E. K. Kim C. G. Willson J. G. Ekerdt Langmuir 2007 23 1166
24. E. K. Kim N. A. Stacey B. J. Smith M. D. Dickey S. C. Johnson J. Vac. Sci. Technol., B 2004 22 131
25. Y. C. Simon I. W. Moran K. R. Carter E. B. Coughlin ACS Appl. Mater. Interfaces 2009 1 1887
26. C. P. Hernandez L. J. Guo P. F. Fu ACS Nano 2010 4 4776
27. L. M. Campos T. T. Truong D. E. Shim M. D. Dimitriou D. Shir I. Meinel J. A. Gerbec T. H. Hahn J. A. Rogers C. J. Hawker Chem. Mater. 2009 21 5319
28. E. Tegou V. Bellas E. Gogolides P. Argitis Microelectron. Eng. 2004 73 238
29. C. C. Wu S. L. Hsu J. Phys. Chem. C 2010 114 2179
30. B. K. Lee N. G. Cha L. Y. Hong D. P. Kim H. Tanaka H. Y. Lee T. Kawai Langmuir 2010 26 14915
31. S. Park H. H. Park O. H. Han S. A. Chae D. Lee D. P. Kim J. Mater. Chem. 2010 20 9962
32. D. Truffier-Boutry M. Zelsmann J. De Girolamo J. Boussey C. Lombard B. Pépin-Donat Appl. Phys. Lett. 2009 94 044110
33. A. Francone C. Iojoiu C. Poulain C. Lombard B. Pépin-Donat J. Boussey M. Zelsmann J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2010 28 C6M72
34. P. J. Rolland E. C. Hagberg G. M. Denison K. R. Carter J. M. DeSimone Angew. Chem., Int. Ed. 2004 43 5796
35. S. S. Williams S. Retterer R. Lopez R. Ruiz E. T. Samulski J. M. DeSimone Nano Lett. 2010 10 1421
36. C. P. Hernandez P. F. Fu L. J. Guo J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2008 26 2426
37. S. Takei Jpn. J. Appl. Phys. 2010 49 071602
38. H. Lin X. Wan X. S. Jiang Q. K. Wang J. Yin Adv. Funct. Mater. 2011 21 2960
39. A. F. Jacobine, in Radiation Curing in Polymer Science and Technology III, ed., J. D. Fouassier, and, J. F. Rabek, Elsevier, London, 1993, ch. 7, 219
40. C. E. Hoyle T. Y. Lee T. Roper J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 2004 42 5301
41. N. B. Cramer C. N. Bowman J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 2001 39 3311
42. H. Z. Liu S. X. Zheng K. M. Nie Macromolecules 2005 38 5088
43. H. Lin X. Wan Z. J. Li X. S. Jiang Q. K. Wang J. Yin ACS Appl. Mater. Interfaces 2010 2 2076
44. H. W. Ro V. Popova L. Chen A. M. Forster Y. F. Ding K. J. Alvine D. J. Krug R. M. Laine C. L. Soles Adv. Mater. 2011 23 414
45. K. H. Dodiuk Y. Maoz K. Lizenboim I. Eppelbaum B. Zalsman S. Kenig J. Adhes. Sci. Technol. 2006 20 1401
46. M. Colburn I. Suez B. J. Choi M. Meissl T. Bailey S. V. Sreenivasan J. G. Ekerdt C. G. Willson J. Vac. Sci. Technol., B 2001 19 2685
47. S. Johnson R. Burns E. K. Kim M. Dickey G. Schmid J. Meiring S. Burns C. G. Willson D. Convey Y. Wei P. Fejes K. Gehoski D. Mancini K. Nordquist W. J. Dauksher D. J. Resnick J. Vac. Sci. Technol., B 2005 23 2553