Easy duplication of stamps using UV-cured fluoro-silsesquioxane for nanoimprint lithography

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 26, Issue 6, 2008, Pages 2426-2429

  Pina Hernandez, Carlos ^b   Fu, Peng Fei ^b   Guo, L Jay ^a  

^a UNIVERSITY OF MICHIGAN   (United States)

^b DOW CORNING CORPORATION   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CURING; POLYMERS; RESINS; SILICON; SUBSTRATES; SURFACE CHEMISTRY; SURFACE TENSION;

DEMOLDING; FLEXIBLE SUBSTRATES; FLUOROALKYL GROUPS; HIGH THERMAL STABILITIES; LOW PRESSURES; LOW SURFACE ENERGIES; MASS FABRICATIONS; PHOTOCURABLE; POLYMERIC MATERIALS; SILSESQUIOXANE;

NANOIMPRINT LITHOGRAPHY;

EID: 57249086309     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2987966     Document Type: Article

References (22)

1. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Science 5258, 85 (1996).
2. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 21, 3114 (1995).
3. T. Martensson, P. Carlberg, M. Borgstrom, L. Montelius, W. Seifert, and L. Samuelson, Nano Lett. 4, 699 (2004).
4. S. W. Ahn, K. D. Lee, J. S. Kim, S. H. Kim, J. D. Park, S. H. Lee, and P. W. Yoon, Nanotechnology 9, 1874 (2005).
5. X. Cheng, Y. T. Hong, J. Kanicki, and L. J. Guo, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2877 (2002).
6. D. Falconnet, D. Pasqui, S. Park, R. Eckert, H. Schift, J. Gobrecht, R. Barbucci, and M. Textor, Nano Lett. 10, 1909 (2004).
7. J. D. Hoff, L. J. Cheng, E. Meyhofer, L. J. Guo, and A. J. Hunt, Nano Lett. 5, 853 (2004).
8. G. M. McClelland, M. W. Hart, C. T. Rettner, M. E. Best, K. R. Carter, and B. D. Terris, Appl. Phys. Lett. 81, 1483 (2002).
9. S. Ahn and L. J. Guo, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 11, 2044 (2008).
10. J. P. Rolland, R. M. Van Dam, D. A. Schorzman, S. R. Quake, and J. M. DeSimone, J. Am. Chem. Soc. 26, 8349 (2004).
11. T. T. Truong, R. S. Lin, S. Jeon, H. H. Lee, J. Maria, A. Gaur, F. Hua, I. Meinel, and J. A. Rogers, Langmuir 5, 2898 (2007).
12. D. Y. Khang and H. H. Lee, Langmuir 6, 2445 (2004).
13. D. R. Barbero, M. S. M. Saifullah, P. Hoffmann, H. J. Mathieu, D. Anderson, G. A. C. Jones, M. E. Welland, and U. Steiner, Adv. Funct. Mater. 14, 2419 (2007).
14. J. P. Rolland, E. C. Hagberg, G. M. Denison, K. R. Carter, and J. M. De Simone, Angew. Chem., Int. Ed. 43, 5796 (2004).
15. L. J. Guo, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 4, 495 (2007).
16. D. G. Choi, J. H. Jeong, Y. S. Sim, E. S. Lee, W. S. Kim, and B. S. Bae, Langmuir 21, 9390 (2005).
17. S. Matsui, Y. Igaku, H. Ishigaki, J. Fujita, M. Ishida, Y. Ochiai, H. Namatsu, and M. Komuro, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 688 (2003).
18. G. M. Schmid, M. D. Stewart, J. Wetzel, F. Palmieri, J. J. Hao, Y. Nishimura, K. Jen, E. K. Kim, D. J. Resnick, J. A. Liddle, and C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B 24, 1283 (2006).
19. C. Pina-Hernandez, P. F. Fu, and L. J. Guo, Electron Ion and Photo Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN), 2007.
20. H. W. Ro, R. L. Jones, H. Peng, D. R. Hines, H. J. Lee, E. K. Lin, A. Karim, D. Y. Yoon, D. W. Gidley, and C. L. Soles, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 19, 2919 (2007).
21. C. Pina-Hernandez, P. F. Fu, and L. J. Guo (unpublished).
22. C. Pina-Hernandez, J. S. Kim, L. J. Guo, and P. F. Fu, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 9, 1222 (2007).