Patterning of tailored polycarbonate based non-chemically amplified resists using extreme ultraviolet lithography

Macromolecular Rapid Communications

Volumn 31, Issue 16, 2010, Pages 1449-1455

  Yu, Anguang ^a   Liu, Heping ^a   Blinco, James P ^a   Jack, Kevin S ^a   Leeson, Michael ^b   Younkin, Todd R ^b   Whittaker, Andrew K ^a   Blakey, Idriss ^a  

^a UNIVERSITY OF QUEENSLAND   (Australia)

^b INTEL CORPORATION   (United States)

Author keywords

Functional materials; Lithography; Mechanical properties; Polycarbonates; Synthesis

Indexed keywords

CHAIN SCISSION; CHEMICAL STRUCTURE; CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST; DECOMPOSITION TEMPERATURE; EXTREME UV LITHOGRAPHIES; FEATURE SIZES; GLASS TRANSITION TEMPERATURE; PHOTO-INDUCED; POLYMER CHAINS; SYNTHESIS;

CARBONATES; FUNCTIONAL MATERIALS; GLASS TRANSITION; IMAGE QUALITY; LITHOGRAPHY; POLYCARBONATES; POLYMERS;

MECHANICAL PROPERTIES;

EID: 77955932495     PISSN: 10221336     EISSN: 15213927     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/marc.201000117     Document Type: Article

References (48)

1. R. H. French, H. V. Tran, Annu. Rev. Mater. Res. 2009, 39, 93.
2. I. Blakey, G. A. George, D. J. T. Hill, H. Liu, F. Rasoul, L. Rintoul, P. Zimmerman, A. K. Whittaker, Macromolecules 2007, 40, 8954.
3. I. Blakey, G. A. George, D. J. T. Hill, H. Liu, F. Rasoul, A. K. Whittaker, P. Zimmerman, Macromolecules 2005, 38, 4050.
4. R. H. French, J. S. Gordon, D. J. Jones, M. F. Lemon, R. C. Wheland, X. Zhang, F. C. Zumsteg, Jr., K. G. Sharp, W. Qiu, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2001, 4346, 89.
5. R. H. French, R. C. Wheland, W. Qiu, M. F. Lemon, G. S. Blackman, X. Zhang, J. Gordon, V. Liberman, A. Grenville, R. R. Kunz, M. Rothschild, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2002, 4691, 576.
6. R. H. French, R. C. Wheland, W. Qiu, M. F. Lemon, E. Zhang, J. Gordon, V. A. Petrov, V. F. Cherstkov, N. I. Delaygina, J. Fluorine Chem. 2003, 122, 63.
7. I. Blakey, L. Chen, B. Dargaville, H. Liu, A. Whittaker, W. Conley, E. Piscani, G. Rich, A. Williams, P. Zimmerman, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2007, 6519, 651909.
8. I. Blakey, W. Conley, G. A. George, D. J. T. Hill, H. Liu, F. Rasoul, A. K. Whittaker, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2006, 6153, 61530H.
9. H. Liu, I. Blakey, W. E. Conley, G. A. George, D. J. T. Hill, A. K. Whittaker, J. Micro/Nanolithogr. MEMS, MOEMS 2008, 7, 023001.
10. A. K. Whittaker, I. Blakey, L. Chen, B. Dargaville, H. Liu, W. Conley, P. A. Zimmerman, J. Photopolym. Sci. Technol. 2007, 20, 665.
11. A. K. Whittaker, I. Blakey, H. Liu, D. J. T. Hill, G. A. George, W. Conley, P. Zimmerman, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2005, 5753, 827.
12. P. A. Zimmerman, J. Byers, E. Piscani, B. Rice, C. K. Ober, E. P. Giannelis, R. Rodriguez, D. Wang, A. Whittaker, I. Blakey, L. Chen, B. Dargaville, H. Liu, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2008, 6923, 692306/1.
13. P. A. Zimmerman, C. van Peski, B. Rice, J. Byers, N. J. Turro, X. Lei, J. L. Gejo, V. Liberman, S. Palmacci, M. Rothschild, A. Whittaker, I. Blakey, L. Chen, B. Dargaville, H. Liu, J. Photopolym. Sci. Technol. 2007, 20, 643.
14. Y. Ban, S. Sundareswaran, R. Panda, D. Z. Pan, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2009, 7275, 727518.
15. P. Kmit, S. Steenbrink, J. Vac. Sci. Technol, B: Microeledron. Nanometer Struct. -Process., Meas., Phenom. 2005, 23, 3033.
16. A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, J. Vac. Sci. Technol. B: Microeledron. Nanometer Struct. -Process., Meas., Phenom. 2006, 24, 3066.
17. A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson, Nanotechnology 2008, 19, 015705/1.
18. P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, E. Anderson, J. P. Cain, P. Denham, K. Jackson, A.-S. Morlens, S. Rekawa, F. Salmassi, J. Vac. Sci. Technol, B: Microelectron. Nanometer Strud. -Process., Meas., Phenom. 2004, 22, 2962.
19. M. I. Sanchez, W. D. Hinsberg, F. A. Houle, J. A. Hoffnagle, H. Ko, C. V. Nguyen, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1999, 3678, 160.
20. S. Chauhan, M. Somervell, S. Scheer, C. A. Mack, R. T. Bonne-caze, C. G. Willson, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2009, 7273,727336.
21. Y. Nishimura, T. Michelson, J. E. Meiring, M. D. Stewart, C. G. Wilson, ;. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 457.
22. T. Kozawa, S. Tagawa, Appl. Phys. Express 2009, 2, 095004/1.
23. T. Kozawa, S. Tagawa, J. Photopolym. Sci. Technol. 2009, 22, 51.
24. T. Kozawa, S. Tagawa, Appl. Phys. Express 2009, 2, 056503/1.
25. C. L. Chochos, E. Ismailova, C. Brochon, N. Leclerc, R. Tiron, C. Sourd, P. Bandelier, J. Foucher, H. Ridaoui, A. Dirani, O. Soppera, D. Perret, C. Brault, C. A. Serra, G. Hadziioannou, Adv. Mater. 2009, 21, 1121.
26. K. E. Gonsalves, L. Merhari, H. Wu, Y. Hu, Adv. Mater. 2001, 13, 703.
27. D. L. Vander Hart, V. M. Prabhu, A. De Silva, N. M. Felix, C. K. Ober, J. Mater. Chem. 2009, 19, 2683.
28. H. Mori, E. Nomura, A. Hosoda, Y. Miyake, H. Taniguchi, Macromol Rapid Commun. 2006, 27, 1792.
29. H. Mori, E. Nomura, A. Hosoda, Y. Miyake, H. Taniguchi, Macromol. Rapid Commun. 2008, 29, 39.
30. H. Oizumi, T. Kumise, T. Itani, J. Vac. Sci. Technol. B: Microelectron. Nanometer Struct. -Process., Meas., Phenom. 2008, 26, 2252.
31. M. Shirai, K. Maki, H. Okamura, K. Kaneyama, T. Itani, J. Photopolym. Sci. Technol. 2009, 22, 111.
32. J.-B. Kim, K.-S. Kim, Macromol Rapid Commun. 2005, 26, 1412.
33. R. Gronheid, H. H. Solak, Y. Ekinci, A. Jouve, F. Van Roey, Microeledron. Eng. 2006, 83, 1103.
34. K. Jack, H. Liu, I. Blakey, D. Hill, Y. Wang, H. Cao, M. Leeson, G. Denbeaux, J. Waterman, A. Whittaker, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2007, 6519, 65193Z/1.
35. P. Naulleau, K. A. Goldberg, E. H. Anderson, K. Bradley, R. Delano, P. Denham, B. Gunion, B. Harteneck, B. Hoef, H. Huang, K. Jackson, G. Jones, D. Kemp, J. A. Liddle, R. Oort, A. Rawlins, S. Rekawa, F. Salmassi, R. Tackaberry, C. Chung, L. Hale, D. Phillion, G. Sommargren, J. Taylor, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2004, 5374, 881.
36. P. P. Naulleau, C. N. Anderson, L.-M. Baclea-an, P. Denham, S. George, K. A. Goldberg, M. Goldstein, B. Hoef, G. Jones, C. Koh, B. La Fontaine, W. Montgomery, T. Wallow, 3. Vac. Sci. Technol. B: Microeledron. Nanometer Struct. -Process., Meas., Phenom. 2009, 27, 2911.
37. J. M. J. Frechet, F. Bouchard, E. Eichler, F. M. Houlihan, T. Iizawa, B. Kryczka, C. G. Willson, Polym. J. 1987, 19, 31.
38. J.M.J. Fréchet, F. Bouchard, F.M.Houlihan, E. Eichler, B.Kryczka, C. G. Willson, Macromol. Chem., Rapid Commun. 1986, 7, 121.
39. J. M. J. Frechet, F. M. Houlihan, F. Bouchard, B. Kryczka, C. G. Wilson, ;. Chem. Soc., Chem. Commun. 1985, 1514.
40. F. M. Houlihan, F. Bouchard, J. M. J. Frechet, C. G. Willson, Macromolecules 1986, 19, 13.
41. R. G. Gilbert, M. Hess, A. D. Jenkins, R. G. Jones, P. Kratochvil, R. F. T. Stepto, M. Baron, T. Kitayama, G. Allegra, T. Chang, C. dos Santos, A. Fradet, K. Hatada, J. He, K. H. Hellwich, R. C. Hiorns, P. Hodge, K. Horie, J. I. Jin, J. Kahovec, P. Kubisa, I. Meisel, W. V. Metanomski, V. Meille, I. Mita, G. Moad, W. Mormann, C. Ober, S. Penczek, L. P. Rebelo, M. Rinaudo, I. Schopov, M. Schubert, F. Schue, V. P. Shibaev, S. Slomkowski, D. Tabak, J. P. Vairon, M. Vert, J. Vohlidal, E. S. Wilks, W. J. Work, Pure Appl. Chem. 2009, 81, 351.
42. H. Gokan, S. Esho, Y. Ohnishi, J. Electrochem. Soc. 1983, 130, 143.
43. T. Ohfuji, M. Endo, M. Takahashi, T. Naito, T. Tatsumi, K. Kuhara, M. Sasago, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1998, 3333, 595.
44. D. Perret, C. E. Andes, K.-S. Cheon, M. Sobhian, C. R. Szmanda, G. G. Barclay, P. Trefonas, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2007, 6519, 651912.
45. B. L. Henke, E. M. Gullikson, J. C. Davis, At Data Nucl. Data Tables 1993, 54, 181.
46. Y.-J. Kwark, J. P. Bravo-Vasquez, M. Chandhok, H. Cao, H. Deng, E. Gullikson, C. K. Ober, J. Vac. Sci. Technol. B: Microelectron. Nanometer Struct. -Process., Meas., Phenom. 2006, 24, 1822.
47. P. P. Naulleau, D. Niakoula, G. Zhang, J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct. -Process., Meas., Phenom. 2008, 26, 1289.
48. G. M. Gallatin, P. Naulleau, D. Niakoula, R. Brainard, E. Hassanein, R. Matyi, J. Thackeray, K. Spear, K. Dean, Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2008, 6921, 69211E.