-
2
-
-
33847697822
-
-
Toth, M.; Lobo, C. J.; Knowles, W. R.; Phillips, M. R.; Postek, M. T.; Vladar, A. E. Nano Lett. 2007, 7, 525.
-
(2007)
Nano Lett
, vol.7
, pp. 525
-
-
Toth, M.1
Lobo, C.J.2
Knowles, W.R.3
Phillips, M.R.4
Postek, M.T.5
Vladar, A.E.6
-
3
-
-
36049023845
-
-
Rack, P. D.; Fowlkes, J. D.; Randolph, S. J. Nanotechnology 2007, 18, 465602.
-
(2007)
Nanotechnology
, vol.18
, pp. 465602
-
-
Rack, P.D.1
Fowlkes, J.D.2
Randolph, S.J.3
-
4
-
-
34547993223
-
-
Choi, Y. R.; Rack, P. D.; Frost, B.; Joy, D. C. Scanning 2007, 29, 171.
-
(2007)
Scanning
, vol.29
, pp. 171
-
-
Choi, Y.R.1
Rack, P.D.2
Frost, B.3
Joy, D.C.4
-
5
-
-
49749114396
-
-
Utke, I.; Hoffmann, P.; Melngailis, J. J. Vac. Sci. Technol., B 2008, 26, 1197.
-
(2008)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.26
, pp. 1197
-
-
Utke, I.1
Hoffmann, P.2
Melngailis, J.3
-
7
-
-
23144465269
-
-
van Dorp, W. F.; van Someren, B.; Hagen, C. W.; Kruit, P.; Crozier, P. A. Nano Lett. 2005, 5, 1303.
-
(2005)
Nano Lett
, vol.5
, pp. 1303
-
-
van Dorp, W.F.1
van Someren, B.2
Hagen, C.W.3
Kruit, P.4
Crozier, P.A.5
-
8
-
-
33750206624
-
-
Randolph, S. J.; Fowlkes, J. D.; Rack, P. D. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2006, 31, 55.
-
(2006)
Crit. Rev. Solid State Mater. Sci
, vol.31
, pp. 55
-
-
Randolph, S.J.1
Fowlkes, J.D.2
Rack, P.D.3
-
9
-
-
0036378866
-
Damage-free Mask Repair Using Electron Beam Induced Chemical Reactions
-
Liang, T.; Stivers, A. Damage-free Mask Repair Using Electron Beam Induced Chemical Reactions. Proc. SPIE 2002, Vol. 4688.
-
(2002)
Proc. SPIE
, vol.4688
-
-
Liang, T.1
Stivers, A.2
-
10
-
-
29044450092
-
-
Liang, T.; Frendberg, E.; Lieberman, B.; Stivers, A. J. Vac. Sci. Technol., B 2005, 23, 3101.
-
(2005)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.23
, pp. 3101
-
-
Liang, T.1
Frendberg, E.2
Lieberman, B.3
Stivers, A.4
-
11
-
-
19944430670
-
-
Edinger, K.; Becht, H.; Bihr, J.; Boegli, V.; Budach, M.; Hofmann, T.; Koops, H. W. P.; Kuschnerus, P.; Oster, J.; Spies, P.; Weyrauch, B. J. Vac. Sci. Technol., B 2004, 22, 2902.
-
(2004)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.22
, pp. 2902
-
-
Edinger, K.1
Becht, H.2
Bihr, J.3
Boegli, V.4
Budach, M.5
Hofmann, T.6
Koops, H.W.P.7
Kuschnerus, P.8
Oster, J.9
Spies, P.10
Weyrauch, B.11
-
12
-
-
0037643522
-
-
Silvis-Cividjian, N.; Hagen, C. W.; Kruit, P.; v.d. Stam, M. A.; Groen, H. B Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 3514.
-
Silvis-Cividjian, N.; Hagen, C. W.; Kruit, P.; v.d. Stam, M. A.; Groen, H. B Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 3514.
-
-
-
-
13
-
-
79956056203
-
-
Utke, I.; Hoffmann, P.; Berger, R.; Scandella, L. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 4792.
-
(2002)
Appl. Phys. Lett
, vol.80
, pp. 4792
-
-
Utke, I.1
Hoffmann, P.2
Berger, R.3
Scandella, L.4
-
15
-
-
34250175820
-
-
Smith, D. A.; Fowlkes, J. D.; Rack, P. D. Nanotechnology 2007, 18, 265308.
-
(2007)
Nanotechnology
, vol.18
, pp. 265308
-
-
Smith, D.A.1
Fowlkes, J.D.2
Rack, P.D.3
-
16
-
-
1242352493
-
-
Tanaka, M.; Shimojo, M.; Mitsuishi, K.; Furuya, K. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2004, 78, 543.
-
(2004)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process
, vol.78
, pp. 543
-
-
Tanaka, M.1
Shimojo, M.2
Mitsuishi, K.3
Furuya, K.4
-
17
-
-
0041877120
-
Limits of 3-D Nanostructures Fabricated by Focused Electron Beam (FEB) Induced Deposition
-
Hoffman, P.; Utke, I.; Cicoira, F. Limits of 3-D Nanostructures Fabricated by Focused Electron Beam (FEB) Induced Deposition. Proc. SPIE 2003.
-
(2003)
Proc. SPIE
-
-
Hoffman, P.1
Utke, I.2
Cicoira, F.3
-
18
-
-
0000094364
-
-
Hoyle, P. C.; Cleaver, J. R. A.; Ahmed, H. J. Vac. Sci. Technol., B 1996, 14, 662.
-
(1996)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.14
, pp. 662
-
-
Hoyle, P.C.1
Cleaver, J.R.A.2
Ahmed, H.3
-
19
-
-
0001679513
-
-
Koops, H. W. P.; Weiel, R.; Kern, D. P.; Baum, T. H. J. Vac. Sci. Technol., B 1988, 6, 477.
-
(1988)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.6
, pp. 477
-
-
Koops, H.W.P.1
Weiel, R.2
Kern, D.P.3
Baum, T.H.4
-
20
-
-
0000317909
-
-
Hoyle, P. C.; Ogasawara, M.; Cleaver, J. R. A.; Ahmed, H. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 3043.
-
(1993)
Appl. Phys. Lett
, vol.62
, pp. 3043
-
-
Hoyle, P.C.1
Ogasawara, M.2
Cleaver, J.R.A.3
Ahmed, H.4
-
21
-
-
0037425087
-
-
Rack, P. D.; Randolph, S.; Deng, Y.; Fowlkes, J.; Choi, Y.; Joy, D. C. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 2326.
-
(2003)
Appl. Phys. Lett
, vol.82
, pp. 2326
-
-
Rack, P.D.1
Randolph, S.2
Deng, Y.3
Fowlkes, J.4
Choi, Y.5
Joy, D.C.6
-
22
-
-
34648815921
-
-
Graells, S.; Alcubilla, R.; Badenes, G.; Quidant, R. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 121112.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett
, vol.91
, pp. 121112
-
-
Graells, S.1
Alcubilla, R.2
Badenes, G.3
Quidant, R.4
-
23
-
-
29044432180
-
-
Ketharanathan, S.; Sharma, R.; Drucker, J. J. Vac. Sci. Technol., B 2005, 23, 2403.
-
(2005)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.23
, pp. 2403
-
-
Ketharanathan, S.1
Sharma, R.2
Drucker, J.3
-
24
-
-
33744530679
-
-
Frabboni, S.; Gazzadi, G. C.; Felisari, L.; Spessot, A. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 213116.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett
, vol.88
, pp. 213116
-
-
Frabboni, S.1
Gazzadi, G.C.2
Felisari, L.3
Spessot, A.4
-
25
-
-
33947145153
-
-
Frabboni, S.; Gazzadi, G. C.; Spessot, A. Physica E 2007, 37, 265.
-
(2007)
Physica E
, vol.37
, pp. 265
-
-
Frabboni, S.1
Gazzadi, G.C.2
Spessot, A.3
-
26
-
-
1942536985
-
-
Cicoira, F.; Leifer, K.; Hoffmann, P.; Utke, I.; Dwir, B.; Laub, D.; Buffat, P. A.; Kapon, E.; Doppelt, P. J. Cryst. Growth 2004, 265, 619.
-
(2004)
J. Cryst. Growth
, vol.265
, pp. 619
-
-
Cicoira, F.1
Leifer, K.2
Hoffmann, P.3
Utke, I.4
Dwir, B.5
Laub, D.6
Buffat, P.A.7
Kapon, E.8
Doppelt, P.9
-
27
-
-
6344252692
-
-
Shimojo, M.; Takeguchi, M.; Tanaka, M.; Mitsuishi, K.; Furuya, K. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2004, 79, 1869.
-
(2004)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process
, vol.79
, pp. 1869
-
-
Shimojo, M.1
Takeguchi, M.2
Tanaka, M.3
Mitsuishi, K.4
Furuya, K.5
-
28
-
-
44149110141
-
-
Botman, A.; Hesselberth, M.; Mulders, J. J. L. Microelectron. Eng. 2008, 85, 1139.
-
(2008)
Microelectron. Eng
, vol.85
, pp. 1139
-
-
Botman, A.1
Hesselberth, M.2
Mulders, J.J.L.3
-
29
-
-
0000621557
-
-
Folch, A.; Servat, J.; Esteve, J.; Tejada, J.; Seco, M. J. Vac. Sci. Technol., B 1996, 14, 2609.
-
(1996)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.14
, pp. 2609
-
-
Folch, A.1
Servat, J.2
Esteve, J.3
Tejada, J.4
Seco, M.5
-
30
-
-
33748895082
-
-
Botman, A.; Mulders, J. J. L.; Weemaes, R.; Mentink, S. Nanotechnology 2006, 17, 3779.
-
(2006)
Nanotechnology
, vol.17
, pp. 3779
-
-
Botman, A.1
Mulders, J.J.L.2
Weemaes, R.3
Mentink, S.4
-
31
-
-
0000611089
-
-
Koops, H. W.; Kaya, A.; Weber, M. J. Vac. Sci. Technol., B 1995, 13, 2400.
-
(1995)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.13
, pp. 2400
-
-
Koops, H.W.1
Kaya, A.2
Weber, M.3
-
32
-
-
0344099651
-
-
Perry, C. C.; Wolfe, G. M.; Wagner, A. J.; Torres, J.; Faradzhev, N. S.; Madey, T. E.; Fairbrother, D. H. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 12740.
-
(2003)
J. Phys. Chem. B
, vol.107
, pp. 12740
-
-
Perry, C.C.1
Wolfe, G.M.2
Wagner, A.J.3
Torres, J.4
Faradzhev, N.S.5
Madey, T.E.6
Fairbrother, D.H.7
-
33
-
-
0037007612
-
-
Wagner, A. J.; Vecitis, C.; Fairbrother, D. H. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 4432.
-
(2002)
J. Phys. Chem. B
, vol.106
, pp. 4432
-
-
Wagner, A.J.1
Vecitis, C.2
Fairbrother, D.H.3
-
34
-
-
3042647056
-
-
Nakayama, N.; Wilson, S. C.; Stadelmann, L. E.; Lee, H.-L. D.; Cable, C. A.; Arumainayagam, C. R. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 7950.
-
(2004)
J. Phys. Chem. B
, vol.108
, pp. 7950
-
-
Nakayama, N.1
Wilson, S.C.2
Stadelmann, L.E.3
Lee, H.-L.D.4
Cable, C.A.5
Arumainayagam, C.R.6
-
35
-
-
33751512253
-
-
Lafosse, A.; Bertin, M.; Domaracka, A.; Pliszka, D.; Illenberger, E.; Azria, R. Phys. Chem. Chem. Phys. 2006, 8, 5564.
-
(2006)
Phys. Chem. Chem. Phys
, vol.8
, pp. 5564
-
-
Lafosse, A.1
Bertin, M.2
Domaracka, A.3
Pliszka, D.4
Illenberger, E.5
Azria, R.6
-
36
-
-
33847680977
-
-
Swiderek, P.; Jäggle, C.; Bankmann, D.; Burean, E. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 303.
-
(2007)
J. Phys. Chem. C
, vol.111
, pp. 303
-
-
Swiderek, P.1
Jäggle, C.2
Bankmann, D.3
Burean, E.4
-
38
-
-
11144289717
-
-
Breton, S.-P.; Michaud, M.; Jäggle, C.; Swiderek, P.; Sanche, L. J. Chem. Phys. 2004, 121, 11240.
-
(2004)
J. Chem. Phys
, vol.121
, pp. 11240
-
-
Breton, S.-P.1
Michaud, M.2
Jäggle, C.3
Swiderek, P.4
Sanche, L.5
-
39
-
-
34147182189
-
-
Weeks, L. D.; Zhu, L. L.; Pellon, M.; Haines, D. R.; Arumainayagam, C. R. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 4815.
-
(2007)
J. Phys. Chem. C
, vol.111
, pp. 4815
-
-
Weeks, L.D.1
Zhu, L.L.2
Pellon, M.3
Haines, D.R.4
Arumainayagam, C.R.5
-
40
-
-
0000155504
-
-
Harris, T. D.; Lee, D. H.; Blumberg, M. Q.; Arumainayagam, C. R. J. Phys. Chem. 1995, 99, 9530.
-
(1995)
J. Phys. Chem
, vol.99
, pp. 9530
-
-
Harris, T.D.1
Lee, D.H.2
Blumberg, M.Q.3
Arumainayagam, C.R.4
-
42
-
-
0037023028
-
-
Wagner, A. J.; Carlo, S. R.; Vecitis, C.; Fairbrother, D. H. Langmuir 2002, 18, 1542.
-
(2002)
Langmuir
, vol.18
, pp. 1542
-
-
Wagner, A.J.1
Carlo, S.R.2
Vecitis, C.3
Fairbrother, D.H.4
-
43
-
-
0035128088
-
-
Heister, K.; Zharnikov, M.; Grunze, M.; Johansson, L. S. O.; Ulman, A. Langmuir 2001, 17, 8.
-
(2001)
Langmuir
, vol.17
, pp. 8
-
-
Heister, K.1
Zharnikov, M.2
Grunze, M.3
Johansson, L.S.O.4
Ulman, A.5
-
44
-
-
68149122398
-
-
Klyachko, D.; Gantchev, T.; Huels, M. A.; Sanche, L. R. Soc. Chem. 1997, 204, 85.
-
(1997)
R. Soc. Chem
, vol.204
, pp. 85
-
-
Klyachko, D.1
Gantchev, T.2
Huels, M.A.3
Sanche, L.4
-
45
-
-
0032891585
-
-
Klyachko, D. V.; Huels, M. A.; Sanche, L. Radiat. Res. 1999, 151, 177.
-
(1999)
Radiat. Res
, vol.151
, pp. 177
-
-
Klyachko, D.V.1
Huels, M.A.2
Sanche, L.3
-
46
-
-
1642302104
-
-
Mezhenny, S.; Lyubinetsky, I.; Choyke, W. J.; Yates, J., J.T. J. Appl. Phys. 1999, 85, 3368.
-
(1999)
J. Appl. Phys
, vol.85
, pp. 3368
-
-
Mezhenny, S.1
Lyubinetsky, I.2
Choyke, W.J.3
Yates, J.J.T.4
-
48
-
-
0026401805
-
-
He4nderson, M. A.; Ramsier, R. D.; Yates, J., J.T. Surf. Sci. 1991, 259, 173.
-
He4nderson, M. A.; Ramsier, R. D.; Yates, J., J.T. Surf. Sci. 1991, 259, 173.
-
-
-
-
49
-
-
0026257555
-
-
Ramsier, R. D.; Henderson, M. A.; Yates, J., J.T. Surf. Sci. 1991, 257, 9.
-
(1991)
Surf. Sci
, vol.257
, pp. 9
-
-
Ramsier, R.D.1
Henderson, M.A.2
Yates, J.J.T.3
-
50
-
-
0010429315
-
-
Henderson, M. A.; Ramsier, R. D.; Yates, J., J.T. J. Vac. Sci. Technol., A 1991, 9, 1563.
-
(1991)
J. Vac. Sci. Technol., A
, vol.9
, pp. 1563
-
-
Henderson, M.A.1
Ramsier, R.D.2
Yates, J.J.T.3
-
52
-
-
3242664527
-
-
Gopal, V.; Stach, E. A.; Radmilovic, V. R.; Mowat, I. A. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 49.
-
(2004)
Appl. Phys. Lett
, vol.85
, pp. 49
-
-
Gopal, V.1
Stach, E.A.2
Radmilovic, V.R.3
Mowat, I.A.4
-
54
-
-
0036505983
-
-
Telari, K. A.; Rogers, B. R.; Fang, H.; Shen, L.; Weller, R. A.; Braski, D. N. J. Vac. Sci. Technol., B 2002, 20, 590.
-
(2002)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.20
, pp. 590
-
-
Telari, K.A.1
Rogers, B.R.2
Fang, H.3
Shen, L.4
Weller, R.A.5
Braski, D.N.6
-
55
-
-
33750850865
-
-
Dunn, K. A.; Breslin, C.; Thiel, B. L. Microsc. Microanal. 2006, 12, 1282.
-
(2006)
Microsc. Microanal
, vol.12
, pp. 1282
-
-
Dunn, K.A.1
Breslin, C.2
Thiel, B.L.3
-
56
-
-
0001372294
-
-
Tao, T.; Ro, J.; Meingailis, J.; Xue, Z.; Kaesz, H. D. J. Vac. Sci. Technol., B 1990, 8, 1826.
-
(1990)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.8
, pp. 1826
-
-
Tao, T.1
Ro, J.2
Meingailis, J.3
Xue, Z.4
Kaesz, H.D.5
-
57
-
-
0000732363
-
-
Tao, T.; Wilkinson, W.; Meingailis, J. J. Vac. Sci. Technol., B 1991, 9, 162.
-
(1991)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.9
, pp. 162
-
-
Tao, T.1
Wilkinson, W.2
Meingailis, J.3
-
58
-
-
0033267624
-
-
DeMarco, A. J.; Meingailis, J. J. Vac. Sci. Technol., B 1999, 17, 3154.
-
(1999)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.17
, pp. 3154
-
-
DeMarco, A.J.1
Meingailis, J.2
-
60
-
-
0038708429
-
-
Aaltonen, T.; Ritala, M.; Sajavaara, T.; Keinonen, J.; Leskela, M. Chem. Mater. 2003, 15, 1924.
-
(2003)
Chem. Mater
, vol.15
, pp. 1924
-
-
Aaltonen, T.1
Ritala, M.2
Sajavaara, T.3
Keinonen, J.4
Leskela, M.5
-
62
-
-
9744223600
-
-
Faradzhev, N. S.; Perry, C. C.; Kusmierek, D. O.; Fairbrother, D. H.; adey, T. E. J. Chem. Phys. 2004, 121, 8547.
-
Faradzhev, N. S.; Perry, C. C.; Kusmierek, D. O.; Fairbrother, D. H.; adey, T. E. J. Chem. Phys. 2004, 121, 8547.
-
-
-
-
63
-
-
0035812099
-
-
Carlo, S. R.; Torres, J.; Fairbrother, D. H. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 6148.
-
(2001)
J. Phys. Chem. B
, vol.105
, pp. 6148
-
-
Carlo, S.R.1
Torres, J.2
Fairbrother, D.H.3
-
64
-
-
0024802532
-
-
Xue, Z.; Strouse, M. J.; Shuh, D. K.; Knobler, C. B.; Kaesz, H. D.; Hicks, R. F.; Williams, R. S. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 8779.
-
(1989)
J. Am. Chem. Soc
, vol.111
, pp. 8779
-
-
Xue, Z.1
Strouse, M.J.2
Shuh, D.K.3
Knobler, C.B.4
Kaesz, H.D.5
Hicks, R.F.6
Williams, R.S.7
-
67
-
-
0023397023
-
-
Watanabe, M.; Uchida, M.; Motoo, S. J. Electroanal. Chem. 1987, 229, 395.
-
(1987)
J. Electroanal. Chem
, vol.229
, pp. 395
-
-
Watanabe, M.1
Uchida, M.2
Motoo, S.3
-
70
-
-
33846221157
-
-
Cahill, J. J.; Panayotov, V. G.; Cowen, K. A.; Harris, E.; Koplitz, L. V.; Birdwhistell, K.; Koplitz, B. J. Vac. Sci. Technol, A 2007, 25, 104.
-
(2007)
J. Vac. Sci. Technol, A
, vol.25
, pp. 104
-
-
Cahill, J.J.1
Panayotov, V.G.2
Cowen, K.A.3
Harris, E.4
Koplitz, L.V.5
Birdwhistell, K.6
Koplitz, B.7
-
72
-
-
0026401803
-
-
Tanuma, S.; Powell, C. J.; Penn, D. R. Surf. Interface Anal. 1991, 17, 927.
-
(1991)
Surf. Interface Anal
, vol.17
, pp. 927
-
-
Tanuma, S.1
Powell, C.J.2
Penn, D.R.3
-
73
-
-
62849089048
-
-
Lo Nigro, R.; Malandrino, G.; Fiorenza, P.; Fragala, I. L. ACS Nano 2007, 1, 183.
-
(2007)
ACS Nano
, vol.1
, pp. 183
-
-
Lo Nigro, R.1
Malandrino, G.2
Fiorenza, P.3
Fragala, I.L.4
|