Field effect transport and trapping in regioregular polythiophene nanofibers

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 108, Issue 50, 2004, Pages 19169-19179

  Merlo, Jeffrey A ^a   Frisbie, C Daniel ^a  

^a UNIVERSITY OF MINNESOTA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FIELD EFFECT TRANSPORT; POLYTHIOPHENE NANOFIBERS; SEMICONDUCTOR THIN FILMS;

ACTIVATION ENERGY; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; FIELD EFFECT TRANSISTORS; MOLECULAR WEIGHT; NANOSTRUCTURED MATERIALS; SEMICONDUCTOR MATERIALS; THERMAL EFFECTS; THIN FILMS;

SYNTHETIC FIBERS;

EID: 10944253235     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp047023a     Document Type: Article

References (82)

1. Austin, M. D.; Chou, S. Y. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4431.
2. Hamadani, B. H.; Natelson, D. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, 777, 187.
3. Hamadani, B. H.; Natelson, D. Appl. Phys. Lett. 2004, 84,443.
4. Hamadani, B. H.; Natelson, D. J. Appl. Phys. 2004, 95, 1227.
5. Xu, Y.; Berger, P. R. J. Appl. Phys. 2004, 95, 1497.
6. Zhang, Y.; Petta, J. R.; Ambily, S.; Shen, Y.; Ralph, D. C.; Malliaras, G. G. Adv. Mater. 2003, 15, 1632.
7. Zaumseil, J.; Someya, T.; Bao, Z.; Loo, Y.-L.; Cirelli, R.; Rogers, J. A. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 793.
8. Collet, J.; Tharaud, O.; Chapoton, A.; Vuillaume, D. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1941.
9. Komoda, T.; Kita, K.; Kyuno, K.; Toriumi, A. Jpn. J. Appl Phys., Part I 2003, 42, 3662.
10. Pinto, N. J.; Johnson, A. T., Jr.; MacDiarmid, A. G.; Mueller, C. H.; Theofylaktos, N.; Robinson, D. C.; Miranda, F. A. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 4244.
11. Zhou, Y.; Freitag, M.; Hone, J.; Staii, C.; Johnson, A. T., Jr.; Pinto, N. J.; MacDiarmid, A. G. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 3800.
12. Long, Y.; Chen, Z.; Wang, N.; Ma, Y.; Zhang, Z.; Zhang, L.; Wan, M. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 1863.
13. Park, J. G.; Kim, G. T.; Krstic, V.; Kim, B.; Lee, S. H.; Roth, S.; Burghard, M.; Park, Y. W. Synth. Met. 2001, 119, 53.
14. Bjornholm, T.; Hassenkam, T.; Greve, D. R.; McCullough, R. D.; Jayaraman, M.; Savoy, S. M.; Jones, C. E.; McDevitt, J. T. Adv. Mater. 1999, 11, 1218.
15. Ihn, K. J.; Moulton, J.; Smith, P. J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 1993, 31, 735.
16. Mardalen, J.; Samuelsen, E. J.; Pedersen, A. O. Synth. Met. 1993, 55, 378.
17. Kiriy, N.; Jahne, E.; Adler, H.-J.; Schneider, M.; Kiriy, A.; Gorodyska, G.; Minko, S.; Jehnichen, D.; Simon, P.; Fokin, A. A.; Stamm, M. Nano Lett. 2003, 3, 707.
18. Kiriy, N.; Jahne, E.; Kiriy, A.; Adler, H.-J. Macromol. Symp. 2004, 210, 359.
19. Yang, H.; Park, S.; Kim, D.; Oh, K.; Magonov, S.; Cho, K.; Chang, T.; Bao, Z.; Ryu, C. Y. Polym. Prepr. 2003, 44, 333.
20. Yang, H.; Shin, T. J.; Yang, L.; Bao. Z.; Ryu, C. Y.; Cho, K. Polym. Prepr. 2004, 45, 212.
21. Prosa, T. J.; Winokur, M. J.; Moulton, J.; Smith, P.; Heeger, A. J. Macromolecules 1992, 25, 4364.
22. McCullough, R. D.; Tristram-Nagle, S.; Williams, S. P.; Lowe, R. D.; Jayaraman, M. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 4910.
23. Kline, R. J.; McGehee, M. D.; Kadnikova, E. N.; Liu, J.; Frechet, J. M. J. Adv. Mater. 2003, 15, 1519.
24. Hugger, S.; Thomann, R.; Heinzel, T.; Thum-Albrecht, T. Colloid Polym. Sci. 2004, 282, 932.
25. Seshadri, K.; Frisbie, C. D. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 993.
26. Punlambekar, K. P.; Pesavento, P. V.; Frisbie, C. D. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 5539.
27. Burgi, L.; Richards, T. J.; Friend, R. H.; Sirringhaus, H. J. Appl. Phys. 2003, 94, 6129.
28. Necliudov, P. V.; Shur, M. S.; Gundlach, D. J.; Jackson, T. N. Solid-State Electron. 2003, 47, 259.
29. Klauk, H.; Schmid, G.; Radlik, W.; Weber, W.; Zhou, L.; Sheraw, C. D.; Nichols, J. A.; Jackson, T. M. Solid-State Electron. 2003, 47, 297.
30. Deshmukh, M. M.; Ralph, D. C: Thomas, M.; Silcox, J. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1631.
31. Verlaak, S.; De Jonge. S.; Noppe, S.; Janssen, D.; Steudel, S.; De Vusser, S.; Heremans, P. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, 771, 181.
32. Ono, K.; Shimada, H.; Kobayashi, S.-i.; Ootuka, Y. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1996, 35, 2369.
33. Brugger. J.; Berenschot, J. W.; Kuiper, S.; Nijdam, W.; Otter, B.; Elwenspoek, M. Microeleclron. Eng. 2000, 53, 403.
34. Kohler. J.; Albrecht. M.; Musil, C. R.; Bucher, E. Physica E 1999, 4, 196.
35. Zhou. Y. X.; Johnson, A. T. Jr.; Hone, J.; Smith, W. F. Nano Lett. 2003, 3, 1371.
36. Amar, A.: Lozes, R. L.; Sasaki. Y.: Davis, J. C.; Packard. R. E. J. Vac. Sci. Technol., B 1993, II. 259.
37. Rooks, M. J.; Tiberio, R. C.; Chapman, M.; Hammond, T.; Smith, E.; Lenef, A.; Rubenstein, R.; Pritchard, D.; Adams, S. J. Vac. Sci. Technol., B 1995, 13, 2745.
38. Ralls. K. S.; Buhrman. R. A.; Tiberio. R. C. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 2459.
39. Merlo. J. A.: Frisbic, C. D. J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 2003, 41, 2674.
40. Trznadel, M.; Pron, A.; Zagorska, M.; Chrzaszcz. R.: Pielichowski, J. Macromnlecules 1998, 31, 5051.
41. Liu, J.: Loewe. R. S.; McCullough. R. D. Macmmolecules 1999, 32, 5777.
42. Grevin, B.; Rannou. P.; Payerne, R.; Pron, A.; Travers, J. P. J. Chem. Phys. 2003, 118, 7097.
43. Montaudo, G.; Montaudo, M. S.; Puglisi, C.; Samperi. F. Rapid Commun. Mass Spectrom. 1995, 9, 453.
44. Axelsson, J.; Scrivener, E.; Haddleton, D. M.; Derrick, P. J. Macromolecules 1996, 29, 8875.
45. Schriemer. D. C.; Li, L. Anal. Chem. 1997, 69, 4176.
46. Schriemer, D. C.; Li, L. Anal. Chem. 1997, 69, 4169.
47. Erwin, M. M.; McBride, J.; Kadavanich. A. V.; Rosenthal, S. J. Thin Solid Films 2002, 409, 198.
48. Kokubo, H.; Yamamoto, T.; Kondo, H.: Akiyama, Y.; Fujimura, I. Jpn. J. Appl. Phys., Part I 2003, 42, 6627.
49. Holdcroft, S. J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 1991, 29, 1585.
50. Raja, M.; Lloyd, G. C. R.; Sedghi, N.; Eccleston, W.; Lucrezia, R. D.; Higgins. S. J. J. Appl. Phys. 2002, 92, 1441.
51. Raja. M.; Lloyd, G.; Sedghi, N.; di Lucrezia, R.; Higgins, S. J.; Eccleston, W. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2002, 708, 423.
52. Mas-Torrent, M.: Den Boer, D.; Durkut, M.; Hadley, P.; Schenning, A. P. H. J. Nanotechnology 2004, 15, S265.
53. Volkel, A. R.; Street, R. A.; Knipp, D. Phys. Rev. B: Condens. Matter 2002, 66, 195336.
54. Podzorov, V.; Sysoev, S. E.; Loginova, E.; Pudalov, V. M.; Gershenson, M. E. Appl. Phys. Lett. 2003, 53, 3504.
55. Podzorov, V.; Pudalov, V. M.; Gershenson, M. E. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1739.
56. Takeya. J.; Goldmann. C.; Haas, S.; Pernstich, K. P.; Ketterer, B.; Batlogg. B. J. Appl. Phys. 2003, 94, 5800.
57. Yagi, I.; Tsukagoshi. K.; Aoyagi, Y. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 813.
58. Chesterfield, R. J.; McKeen, J. C.; Newman, C. R.; Frisbie, C. D.; Ewbank, P. C.; Mann, K. R.; Miller. L. L. J. Appl. Phys. 2004, 95, 6396.
59. Hattori, R.; Kanicki, J. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 2003, 42, 907.
60. Chiang, C.-S.; Chen, C.-Y.; Kanicki, J. IEEE Electron Device Lett. 1998, 19, 382.
61. Liu, S.-D.: Shih. A.: Chen. S.-D.; Lee. S.-C. J. Vac. Sci. Technol., B 2003, 21, 677.
62. Chen. C.-Y.; Kanicki, J. IEEE Electron Device Lett. 1997, 18, 340.
63. Burgi, L.; Sirringhaus, H.; Friend. R. H. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2913.
64. Sirringhaus, H.; Tessler, N.; Thomas, D. S.; Brown, P. J.; Friend, R. H. Adv. Solid State Phys. 1999, 39, 101.
65. Meijer, E. J.; Gelinck, G. H.; Van Veenendaal. E.; Huisman, B. H.; De Leeuw, D. M.: Klapwijk, T. M. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 4576.
66. Bao, Z.; Dodabalapur, A.; Lovinger, A. J. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 4108.
67. Ukai, S.; Ito, H.; Kuroda, S.-i. Jpn. J. Appl. Phys., Part I 2004, 43, 366.
68. Rep, D. B. A.; Huisman. B. H.; Meijer, E. J.; Prins, P.; Klapwijk, T. M. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2001, 660, JJ7.9.1.
69. Sirringhaus. H.: Tessler, N.; Friend, R. H. Science 1998, 280, 1741.
70. 0 values could be due to an interface dipolc rather than acceptor-like states.
71. Nikitenko, V. R.; Heil. H.; von Seggem. H. J. Appl. Phys. 2003, 94, 2480.
72. Arkhipov, V. I.; Heremans, P.; Emelianova, E. V.; Adriaenssens, G. J.; Bassler, H. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 3245.
73. Salleo, A.; Chen. T. W.; Voelkel. A. R.; Wu, Y.; Liu. P.; Ong, B. S.; Street, R. A. Phys. Rev. B: Condensed Matter 2004, 70, 115311.
74. Horowitz, G.; Hajlaoui, R.; Delannoy, P. J. Phys. III 1995, 5, 355.
75. Vissenberg, M. C. J. M.; Matters, M. Phys. Rev. B: Condens. Matter 1998, 57, 12964.
76. Mott, N. F.; Davis, E. A. Electronic Processes in Non-Crystalline Materials. 2nd ed.; Clarendon Press: Oxford, U. K., 1979.
77. Baranovskii, S. D.; Faber, T.; Hensel, F.; Thomas. P. J. Phys.: Condens. Matter 1997, 9, 2699.
78. Monroe. D. Phys. Rev. Lett. 1985, 54, 146.
79. Meijer. E. J.; Tanase, C.; Blom, P. W. M.; van Veenendaal, E.; Huisman. B.-H.; de Leeuw, D. M.; Klapwijk, T. M. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3838.
80. Sirringhaus, R; Brown, P. J.; Friend, R. H.; Nielsen. M. M.; Bechgaard. K.; Langeveld-Voss, B. M. W.; Spiering, A. J. H.; Janssen, R. A. J.; Meijer, E. W.; Herwig, P.; De Leeuw, D. M. Nature 1999, 401, 685.
81. Meijer, E. J.; Matters, M.; Herwig, P. T.; de Leeuw, D. M.; Klapwijk, T. M. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 3433.
82. Le Comber, P. G.; Spear, W. E. Phys. Rev. Lett. 1970, 25, 509.