Block copolymer technology applied to nanoelectronics

Physica Status Solidi (C) Current Topics in Solid State Physics

Volumn 10, Issue 9, 2013, Pages 1195-1206

  Tallegas, Salomé ^a   Baron, Thierry ^a   Gay, Guillaume ^a,b   Aggrafeil, Claire ^a   Salhi, Billel ^a   Chevolleau, Thierry ^a   Cunge, Gilles ^a   Bsiesy, Ahmad ^a   Tiron, Raluca ^b   Chevalier, Xavier ^b   Navarro, Christophe ^c   Aissou, Karim ^c   Otsuka, Issei ^d   Halila, Sami ^d   Fort, Sébastien ^d   Borsali, Redouane ^d  

^a CNRS   (France)

^b CEA LETI   (France)

^c ARKEMA   (France)

^d CENTRE DE RECHERCHES SUR LES MACROMOLÉCULES VÉGÉTALES CERMAV CNRS   (France)

Author keywords

Block copolymer; Directed self assembly; Graphoepitxy; Lift off

Indexed keywords

BLOCK COPOLYMER TEMPLATES; DIRECTED SELF-ASSEMBLY; GRAPHOEPITXY; HYDROGEN BONDING INTERACTIONS; LIFT-OFF; POLYSTYRENE-B-POLY(METHYL METHACRYLATE); SELF-ASSEMBLED LAYERS; SEMICONDUCTOR SUBSTRATE;

ASPECT RATIO; ATOMIC LAYER DEPOSITION; CYCLODEXTRINS; ESTERS; HYDROGEN BONDS; NANOWIRES; PLASMA ETCHING; POLYMETHYL METHACRYLATES; POLYSTYRENES; SELF ASSEMBLY;

BLOCK COPOLYMERS;

EID: 84883758763     PISSN: 18626351     EISSN: 16101642     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssc.201300002     Document Type: Article

References (74)

1. J. Benschop, V. Banine, S. Lok, and E. J. Loopstra, Vac. Sci. Technol. B 26, 2204 (2008)
2. International Technology Roadmap (ITRS) Lithography Semiconductor Industry Association (2009).
3. M. Kanoun, C. Busseret, A. Poncet, A. Souifi, T. Baron, and E. Gautier, Solid State Electron. 50, 1310-4 (2006)
4. F. Mazen, T. Baron, A.M. Papon, R. Truche, and J. M. Hartmann, Appl. Surf. Sci. 214, 359-63 (2003)
5. H. Schift, J. Vac. Sci. Technol. B 26, 458-80 (2008).
6. H. Li and N. Wu, Nanotechnology 19, 275301 (2008).
7. L.-W. Chang, T. L. Lee, C. H. Wann, C. Y. Chang, and H. S. P. Wong, Proceedings IEDM (Baltimore, Dec. 2009), pp 879-2
8. Y. S. Jung, J. B. Chang, E. Verploegen, K. K. Berggren, and C. A. Ross, Nano Lett. 10, 1000-5 (2010)
9. J. Y. Cheng, C. A. Ross, E. L. Thomas, H. I. Smith, and G. J. Vancso, Appl. Phys. Lett. 81, 3657 (2002)
10. R. Ruiz, H. Kang, F. A. Detcheverry, E. Dobisz, D. S. Kercher, T. R. Albrecht, J. J. de Pablo, and P. F. Nealey, Science 321, 936-9 (2008)
11. M. Ryoo, S. Shirayone, E. Yano, S. Okazaki, and S. Kang, Microelectron. Eng. 61, 723-8 (2002)
12. K. Aissou, M. Kogelschatz, and T. Baron, Nanotechnology 20, 0956022 (2009)
13. S.-J. Jeong, G. Xia, B. H. Kim, D. O. Shin, and S.-H. Kwon, Adv. Mater. 20, 1898-904 (2008)
14. C.-C. Liu, P. F. Nealey, Y.-H. Ting, and A. E. Wendt, J. Vac. Sci. Technol. B 25, 1963-8 (2007)
15. J. Y. Cheng, C. A. Ross, H. I. Smith, and E. L. Thomas, Adv. Mater. 18, 2505 (2006)
16. H. C. Kim, S. M. Park, and W. D. Hinsberg, Chem. Rev. 110, 146 (2010)
17. S. B. Darling, Prog. Polym. Sci. 32, 1152 (2008)
18. S. O. Kim, H. H. Solak, M. P. Stoykovich, N. J. Ferrier, J. J. de Pablo, and P. F. Nealey, Nature 424, 411 (2003)
19. M. P. Stoykovich, M. Müller, S. O. Kim, H. H. Solak, E. W. Edwards, J. J. de Pablo, and P. F. Nealey, Science 308, 1442 (2005)
20. S. M. Park, G. S. W. Craig, C. C. Liu, Y. H. La, N. J. Ferrier, and P. F. Nealey, Macromolecules 41, 9118 (2008)
21. G. Liu, C. S. Thomas, G. S. W. Craig, and P. F. Nealey, Adv. Funct. Mater. 20, 1251 (2010)
22. R. A. Segalman, A. Hexemer, and E. J. Kramer, Macromolecules 36, 6831 (2003)
23. D. Sundrani, S. B. Darling, and S. J. Sibener, Nano Lett. 4, 273 (2004)
24. D. Sundrani, S. B. Darling, and S. J. Sibener, Langmuir 20, 5091 (2004)
25. J. Y. Cheng, A. M. Mayers, and C. A. Ross, Nature Mater. 3, 823 (2004)
26. R. Ruiz, N. Ruiz, Y. Zhang, R. Sandstrom, and C. Black, Adv. Mater. 19, 2157 (2007)
27. I. Bita, J. K. W. Yang, Y. S. Jung, C. A. Ross, E. L. Thomas, and K. K. Berggren, Science 321, 939 (2008)
28. S. J. Jeong and S. O. Kim, J. Mater. Chem. 21, 5856 (2011)
29. J. Y. Cheng, D. P. Sanders, H. D. Truong, S. Harrer, A. Friz, S. Holmes, M. Colburn, and W. D. Hinsberg, ACS Nano 4, 4815 (2010)
30. I. Otsuka, K. Fuchise, S. Halila, S. Fort, K. Aissou, I. P. Paintrand, Y. Chen, A. Narumi, T. Kakuchi, and R. Borsali Langmuir 26, 2325-2332 (2010)
31. K. Aissou, I. Otsuka, C. Rochas, S. Fort, S. Halila, and R. Borsali Langmuir 27, 4098-4103 (2011)
32. I. Otsuka, C. Travelet, S. Halila, S. Fort, I. P.-Paintrand, A. Narumi, and R. Borsali, Biomacromolecules 13, 1129-1135 (2012)
33. J. D. Cushen, I. Otsuka, C. M. Bates, S. Halila, S. Fort, C. Rochas, J. A. Easley, E. L. Rausch, A. Thio, R. Borsali, C. G. Willson, and C. J. Ellison, CS Nano 6, 3424-3433 (2012)
34. E. Huang, L. Rockford, T. P. Russell, and C. J. Hawker, Nature 395, 757-8 (1998)
35. P. Mansky, Y. L. Huang, T. P. Russell, and C. Hawker, Science, 275, 1458 (1997)
36. K. Shin, K. A. Leach, J. T. Goldbach, D. H. Kim, J.Y. Jho, M. Tuominen, C. J. Hawker, and T. P. Russell, Nano Lett. 2, 933-6 (2002)
37. S. B. Darling, N. A. Yufa, A. L. Cisse, S. D. Bader, and S. J. Sibener, Adv. Mater. 17, 2446 (2005)
38. T. Thurn-Albrecht, J. Schotter, G. A. Kastle, N. Emley, T. Shibauchi, L. Krusin-Elbaum, K. Guarini, C. T. Black, M. T. Tuominen, and T. P. Russell, Science 290, 2126 (2000)
39. F.D. Egitto and L. J. Matienzo, IBM J. R. Developm. 38, 423-439 (1994)
40. C. Harrison, M. Park, P. M. Chaikin et al., J. Vac. Sci. Technol. B 16, 544-552 (1998)
41. M. A. Vyvoda, H. Lee, M. V. Malyshev, F. P. Klemens, M. Cerullo, V. M. Donnely, D. B. Graves, A. Kornblit, and J. T. C. Lee, J. Vac. Sci. Technol. 16, 3247-3258 (1998)
42. F. D. Egitto, Pure Appl. Chem. 62, 1699-1708 (1990)
43. F. H. Bell and O. Joubert, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 88 (1997)
44. M. Tuda, K. Shintani, and H. Ootera, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 711 (2001)
45. J. S. Kim, B. S. Kwon, W. Heo, C. R. Jung, J. S. Park, J. W. Shon, and N.-E. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A 28, 65-68 (2010)
46. B. S. Kwon, J. S. Kim, N.-E. Lee, and J. W. Shon, J. Electron. Soc. 157, D135-D141 (2010)
47. K. W. Guarini, C. T. Black, Y. hang, H. Kim, E. M. Sikorski, and I. V. Babich, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2788-92 (2002
48. D. Zschech, D. H. Kim, A. P. Milenin, R. Scholz, R. Hillebrand, C. J. Hawker, T. P. Russell, M. Steinhart, and U. Gösele, Nano Lett. 7, 1516-20 (2007)
49. K. Aissou, T. Baron, M. Kogelschatz, M. D. Hertog, J. L. Rouvière, J.-M. Hartmann, and B. Pelissier, Chem. Mater. 20, 6183-8 (2008)
50. A. J. Hong, C.-C. Liu, Y. Wang, J. Kim, F. Xiu, S. Ji, J. Zou, P. F. Nealey, and K. L. Wang, Nano Lett. 10, 224-9 (2010)
51. A. Sinha, D. W. Hess, and C. L. Henderson, J. Electrochem. Soc. 153, G465-9 (2006)
52. R. Chen and S. F. Bent, Adv. Mater. 18, 1086-90 (2006)
53. A. Wilson, R. K. Grubbs, and S. M. George, Chem. Mater. 17, 5625-34 (2005
54. V. Gowrishankar, N. Miller, M. D. McGehee, M. J. Misner, D.Y. Ryu, T. P. Russell, E. Drockenmuller, and C. J. Hawker, Thin Solid Films 513, 289-94 (2006)
55. S. Tegenz and P. Moll, J. Electrochem. Soc. 152, G271-6 (2005)
56. K. Grigoras, L. Sainiemi, J. Tiilikainen, A. Saynatjoki, V.-M. Airaksinen, and S. Franssila, J. Phys.: Conf. Ser. 61, 369-73 (2007)
57. G. Cunge, O. Joubert, and N. Sadeghi, J. Appl. Phys. 94, 6285-90 (2003)
58. X. Detter, R. Palla, I. Thomas-Boutherin, E. Pargon, G. Cunge, O. Joubert, and L. Vallier, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2174-83 (2003)
59. T. E. F. M. Standaert, M. Schaepkens, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 239- 49 (1998)
60. F. H. Bell, O. Joubert, and L. Vallier, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 1796-806 (1996)
61. G. Gay, T. Baron, C. Aggrafeil, B. Salhi et al., Nanotechnology 21, 435301 (2010)
62. M. Martin and G. Cunge, J. Vac. Sci. Technol. B 26, 1281-8 (2008)
63. J. Y. Cheng, C. A. Ross, E. L. Thomas, H. I. Smith, and G. J. Vansco, Adv. Mater. 15, 1599 (2003)
64. C. T. Black and O. Bezecenet, IEEE Trans. Nanotechnol. 3, 412 (2004)
65. S. Xiao, X. Yang, E. W. Edwards, Y. La, and P. F. Nealey, Nanotechnology 16, S324 (2005)
66. R. A. Segalman, H. Yokoyama, and E. J. Kramer, Adv. Mater. 13, 1152 (2003)
67. E. Han, H. Kang, C. Liu, P. F. Nealey, and P. Gopalan, Adv. Mater. 22, 4325 (2010)
68. P. Mansky, Y. Liu, E. Huang, T. P. Russel, and C. Hawker, Science 275, 1458 (1997
69. X. Chevalier, R. Tiron, T. Upreti, S. Gaugiran, C. Navarro, S. Magnet, T. Chevolleau, G. Cunges, G. Fleury, and G. Hadziioannou, Proc. SPIE 7970 2011
70. D. A. Vega, C. K. Harrison, D. E. Angelescu, M. L. Trawick, D. A. Huse, P. M. Chaikin, and R. A. Register, Phys. Rev. E 71, 061803 (2005)
71. R. Tiron, X. Chevalier, C. Couderc et al., J. Vac. Sci. Technol. B 29, 2061-8 (2010)
72. M. Reenders and G. Brinke, Macromolecules 35, 3266 (2002)
73. N. Sary, C. Brochon, Hadziioannou, and R. Mezzenga, Eur. Phys. J. E 24, 379 (2007)
74. I. Fallais, J. Devaux, and R. J. Jerôme, Polym. Sci. A 38, 1618 (2000).