Fabrication of nanostructures with long-range order using block copolymer lithography

Applied Physics Letters

Volumn 81, Issue 19, 2002, Pages 3657-3659

  Cheng, J Y ^a   Ross, C A ^a   Thomas, E L ^a   Smith, Henry I ^b   Vancso, G J ^c  

^a Massachusetts Institute of Technology Cambridge   (United States)

^b USA   (United States)

^c UNIVERSITY OF TWENTE   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BLOCK COPOLYMER DOMAINS; BLOCK COPOLYMER LITHOGRAPHY; ETCHING STEP; FEATURE SIZES; HIERARCHICAL STRUCTURES; LONG RANGE ORDERS; NANOSCALE FEATURES; ORDERED ARRAY; SELF-ASSEMBLING PROPERTIES; SELF-ASSEMBLY METHOD; SHORT RANGE ORDERS; SILICA FILM; SPIN CASTING;

ASPECT RATIO; NANOSTRUCTURES; SILICA;

BLOCK COPOLYMERS;

EID: 79956056821     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1519356     Document Type: Article

References (23)

1. M. Park, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, and D. H. Adamson, Science 276, 1401 (1997). sciSCIEAS0036-8075
2. J. P. Spatz, T. Herzog, S. Mossmer, P. Ziemann, and M. Moller, Adv. Mater. 11, 149 (1999). amtADVMEW0935-9648
3. C. T. Black, K. W. Guarini, K. R. Milkove, S. M. Baker, T. P. Russell, and M. T. Tuominen, Appl. Phys. Lett. 79, 409 (2001). aplAPPLAB0003-6951
4. M. Park, P. M. Chaikin, R. A. Register, and D. H. Adamson, Appl. Phys. Lett. 79, 257 (2001). aplAPPLAB0003-6951
5. B. Koslowski, S. Strobel, T. Herzog, B. Heinz, H. G. Boyen, R. Notz, P. Ziemann, J. P. Spatz, and M. Moller, J. Appl. Phys. 87, 7533 (2000). japJAPIAU0021-8979
6. T. Thurn-Albrecht, J. Schotter, C. A. Kastle, N. Emley, T. Shibauchi, L. Krusin-Elbaum, K. Guarini, C. T. Black, M. T. Tuominen, and T. P. Russell, Science 290, 2126 (2000). sciSCIEAS0036-8075
7. R. R. Li, P. D. Dapkus, M. E. Thompson, W. G. Jeong, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, and D. H. Adamson, Appl. Phys. Lett. 76, 1689 (2000). aplAPPLAB0003-6951
8. J. Y. Cheng, C. A. Ross, V. Z. H. Chan, E. L. Thomas, R. G. H. Lammertink, and G. J. Vancso, Adv. Mater. 13, 1174 (2001). amtADVMEW0935-9648
9. C. A. Ross, Annu. Rev. Mater. Res. 31, 203 (2001).
10. H. I. Smith, M. W. Geis, C. V. Thompson, and H. A. Atwater, J. Cryst. Growth 63, 527 (1983). jcrJCRGAE0022-0248
11. T. Kobayashia and K. Takagi, Appl. Phys. Lett. 45, 44 (1984). aplAPPLAB0003-6951
12. D. C. Flanders and D. C. Shaver, and H. I. Smith, Appl. Phys. Lett. 32, 597 (1978). aplAPPLAB0003-6951
13. C. Park, J. Cheng, M. J. Fasolka, A. M. Mayes, C. A. Ross, E. L. Thomas, and C. De Rosa, Appl. Phys. Lett. 79, 848 (2001). aplAPPLAB0003-6951
14. R. A. Segalman, H. Yokoyama, and E. J. Kramer, Adv. Mater. 13, 1152 (2001). amtADVMEW0935-9648
15. D. A. Foucher, B. Z. Tang, and I. Manners, J. Am. Ceram. Soc. 114, 6246 (1992). jacJACTAW0002-7820
16. K. Kulbaba and I. Manners, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 22, 711 (2001). mrsMRSPDH0272-9172
17. R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, G. J. Vancso, K. Shin, M. H. Rafailovich, and J. Sokolov, Macromolecules 34, 942 (2001). mmlMAMOBX0024-9297
18. R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, J. E. van den Enk, V. Z. H. Chan, E. L. Thomas, and G. J. Vancso, Adv. Mater. 12, 98 (2000). amtADVMEW0935-9648
19. M. Farhoud, J. Ferrera, A. J. Lochtefeld, M. L. Schattenburg, C. A. Ross, and H. I. Smith, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 3182 (1999). jvbJVTBD90734-211X
20. M. E. Walsh, Y. W. Hao, C. A. Ross, and H. I. Smith, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 3539 (2000). jvbJVTBD90734-211X
21. Y. Liu, W. Zhao, X. Zhang, A. King, A. Singh, M. H. Rafailovich, J. Sokolov, K. H. Dai, E. J. Kramer, S. A. Schwarz, O. Gebizlioglu, and S. K. Sinha, Macromolecules 27, 4000 (1994). mmlMAMOBX0024-9297
22. H. Yokoyama, T. E. Mates, and E. J. Kramer, Macromolecules 33, 1888 (2000). mmlMAMOBX0024-9297
23. L. H. Radzilowski, B. L. Carvalho, and E. L. Thomas, J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 34, 3081 (1996). bppJPBPEM0887-6266