Fabrication of ZrO 2 and ZrN films by metalorganic chemical vapor deposition employing new Zr precursors

Crystal Growth and Design

Volumn 12, Issue 10, 2012, Pages 5079-5089

  Banerjee, Manish ^a   Srinivasan, Nagendra Babu ^a   Zhu, Huaizhi ^a   Kim, Sun Ja ^a   Xu, Ke ^a   Winter, Manuela ^a   Becker, Hans Werner ^a   Rogalla, Detlef ^a   De Los Arcos, Teresa ^a   Bekermann, Daniela ^b   Barreca, Davide ^b   Fischer, Roland A ^a   Devi, Anjana ^a  

^a RUHR UNIVERSITY BOCHUM   (Germany)

^b UNIVERSITY OF PADOVA   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FABRICATION OF THIN FILMS; GROWTH PROCESS; MATERIAL SYSTEMS; MONOCLINIC PHASE; NITROGEN SOURCES; POLYCRYSTALLINE; SI (100) SUBSTRATE; SINGLE-SOURCE PRECURSOR; VAPOR PHASE; ZRN FILMS;

FABRICATION; FILM GROWTH; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; NITROGEN; THIN FILMS; VAPORS; ZIRCONIUM; ZIRCONIUM ALLOYS;

ZIRCONIUM COMPOUNDS;

EID: 84866997194     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg3010147     Document Type: Article

References (65)

1. Allain, L. R.; Xue, Z. Anal. Chem. 2000, 72, 1078
2. Bertrand, G.; Mévrel, M. Thin Solid Films 1997, 292, 241
3. Lowdermilk, W. H.; Milam, D.; Rainer, F. Thin Solid Films 1980, 73, 155
4. Charpentier, P.; Fragnaud, P.; Schleich, D. M.; Lunot, C. Ionics 1996, 2, 312
5. Krumov, E.; Dikova, J.; Starbova, K.; Popov, D.; Blaskov, V.; Kolev, K.; Laude, L. D. J. Mater. Sci.-Mater. Electron. 2003, 14, 759
6. Wilk, G. D.; Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243
7. Koveshnikov, S.; Goel, N.; Majhi, P.; Wen, H.; Santos, M. B.; Oktyabrsky, S.; Tokranov, V.; Kambhampati, R.; Moore, R.; Zhu, F.; Lee, J.; Tsai, W. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 222904
8. Liu, C.-P.; Yang, H.-C. Thin Solid Films 2003, 444, 111
9. Wang, Y.; Cao, F.; Ding, M.; Yang, D. Microelectron. J. 2007, 38, 910
10. Westlinder, J.; Malmstrom, J.; Sjoblom, G.; Olsson, J. Solid-State Electron. 2005, 49, 1410
11. Schwarz, K.; Williams, A. R.; Cuomo, J. J.; Harper, J. M. E.; Hentzell, H. T. G. Phys. Rev. B 1985, 32, 8312
12. Döscher, H.; Lilienkamp, G.; Iskra, P.; Daum, W.; Helsch, G.; Becker, S.; Wrobel, R. J.; Weiss, H.; Suchorski, Y. J. Appl. Phys. 2010, 107, 094103/1
13. Li, N.; Suzuki, M.; Abe, Y.; Kawamura, M.; Sasaki, K.; Itoh, H.; Suzuki, T. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2012, 99, 160
14. Infortuna, A.; Harvey, A. S.; Gauckler, L. J. Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 127
15. Devi, A.; Bhakta, R.; Milanov, A.; Hellwig, M.; Barreca, D.; Tondello, E.; Thomas, R.; Ehrhart, P.; Winter, M.; Fischer, R. Dalton Trans. 2007, 1671
16. Williams, P. A.; Roberts, J. L.; Jones, A. C.; Chalker, P. R.; Tobin, N. L.; Bickley, J. F.; Davies, H. O.; Smith, L. M.; Leedham, T. J. Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 163
17. Zhitomirsky, V. N.; Grimberg, I.; Boxman, R. L.; Travitzky, N. A.; Goldsmith, S.; Weiss, B. Z. Surf. Coat. Technol. 1997, 94-95, 207
18. Re, M. D.; Gouttebaron, R.; Dauchot, J.-P.; Leclere, P.; Terwagne, G.; Hecq, M. Surf. Coat. Technol. 2003, 174-175, 240.0
19. Larijani, M. M.; Kiani, M.; Tanhayi, M.; Majdabadi, A. Cryst. Res. Technol. 2011, 46, 351
20. Mitsuo, A.; Mori, T.; Setsuhara, Y.; Miyake, S.; Aizawa, T. Nucl. Inst. Methods Phys. Res., Sect. B 2003, 206, 366
21. Spillmann, H.; Willmott, P. R.; Morstein, M.; Uggowitzer, P. J. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2001, 73, 441
22. Tauber, R. N.; Dumbri, A. C.; Caffrey, R. E. J. Electrochem. Soc. 1971, 118, 747
23. Gould, B. J.; Povey, I. M.; Pemble, M. E.; Flavell, W. R. J. Mater. Chem. 1994, 4, 1815
24. Gallegos, J. J., III; Ward, T. L.; Boyle, T. J.; Rodriguez, M. A.; Francisco, L. P. Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 21
25. Pasko, S. V.; Hubert-Pfalzgraf, L. G.; Abrutis, A.; Richard, P.; Bartasyte, A.; Kazlauskiene, V. J. Mater. Chem. 2004, 14, 1245
26. Balog, M.; Schieber, M.; Michman, M.; Patai, S. Thin Solid Films 1977, 47, 109
27. Balog, M.; Schieber, M.; Patai, S.; Michman, M. J. Cryst. Growth 1972, 17, 298
28. Colombo, D. G.; Gilmer, D. C., Jr.; V., G. Y.; Campbell, S. A.; Gladfelter, W. L. Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 220
29. Gaskel, J. M.; Jones, A. C.; Black, K.; Chalker, P. R.; Leese, T.; Kingsley, A.; Odedra, R.; Heys, P. N. Surf. Coat. Technol. 2007, 201, 9095
30. Bastianini, A.; Battiston, G. A.; Gerbasi, R.; Porchia, M.; Daolio, S. J. Phys. IV 1995, 5, 525
31. Hausmann, D. M.; Kim, E.; Becker, J.; Gordon, R. G. Chem. Mater. 2002, 14, 4350
32. Monnier, D.; Nuta, I.; Chatillon, C.; Gros-Jean, M.; Volpi, F.; Blanquet, E. J. Electrochem. Soc. 2009, 156, H71
33. Thomas, R.; Milanov, A.; Bhakta, R.; Patil, U.; Winter, M.; Ehrhart, P.; Waser, R.; Devi, A. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 295
34. Potts, S. E.; Carmalt, C. J.; Blackman, C. S.; Abou-Chahine, F.; Leick, N.; Kessels, W. M. M.; Davies, H. O.; Heys, P. N. Inorg. Chim. Acta 2010, 363, 1077
35. Fix, R. M.; Gordon, R. G.; Hoffman, D. M. J. Am. Chem. Soc. 1990, 112, 7833
36. Berndt, H.; Zeng, A.-Q.; Stock, H.-R.; Mayr, P. Surf. Coat. Technol. 1995, 74-75, 369
37. Wendel, H.; Suhr, H. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1992, 54, 389
38. Potts, S. E.; Carmalt, C. J.; Blackman, C. S.; A.Chahine, F.; Pugh, D.; Davies, H. O. Organometallics 2009, 28, 1838
39. Blackman, C. S.; Carmalt, C. J.; Moniz, S. J. A.; Potts, S. E.; Davies, H. O.; Pugh, D. C. ECS Trans. 2009, 25, 561
40. Milanov, A.; Bhakta, R.; Baunemann, A.; Becker, H.-W.; Thomas, R.; Ehrhart, P.; Winter, M.; Devi, A. Inorg. Chem. 2006, 45, 11008
41. Bazinet, P.; Wood, D.; Yap, G. P. A.; Richeson, D. S. Inorg. Chem. 2003, 42, 6225
42. Wood, D.; Yap, G. P. A.; Richeson, D. S. Inorg. Chem. 1999, 38, 5788
43. Baunemann, A.; Rische, D.; Milanov, A.; Kim, Y.; Winter, M.; Gemel, C.; Fischer, R. A. Dalton Trans. 2005, 3051
44. Milanov, A.; Fischer, R. A.; Devi, A. Inorg. Chem. 2008, 47, 11405
45. Milanov, A. P.; Thiede, T.; Devi, A.; Fischer, R. A. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 17062
46. Thiede, T. B.; Krasnopolski, M.; Milanov, A. P.; Arcos, T. d. l.; Ney, A.; Becker, H. W.; Rogalla, D.; Winter, J.; Devi, A.; Fischer, R. A. Chem. Mater. 2011, 23, 1430
47. Bradley, D. C.; Thomas, I. M. J. Am. Chem. Soc. 1960, 3857
48. Sheldrick, G. M. SHELXL-97, Program for Refinement of Crystal Structures; University of Göttingen, Germany, 1997.
49. Kotai, E. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 1994, 85, 588
50. Elekes, Z.; Kiss, A. Z.; Biron, I.; Calligaro, T.; Salomon, J. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 2000, 168, 305
51. Kenney, A. P.; Yap, G. P. A.; Richeson, D. S.; Barry, S. T. Inorg. Chem. 2005, 44, 2926
52. Brazeau, A. L.; Wang, Z.; Rowley, C. N.; Barry, S. T. Inorg. Chem. 2006, 45, 2276
53. Scherrer, P. Göttinger Nachr. Math. Phys. 1918, 2, 98
54. Barreca, D.; Battiston, G. A.; Gerbasi, R.; Tondello, E.; Zanella, P. Surf. Sci. Spectra 2000, 7, 303
55. Samanipour, F.; Bayati, M. R.; Golestani-Fard, F.; Zargar, H. R.; Troczynski, T.; Mirhabibi, A. R. Colloids Surf. B 2011, 86, 14
56. Moulder, J. F.; Stickle, W. F.; Sobol, P. E.; Bomben, K. D. Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy; Chastain, J., Eds.; Perkin Elmer Corporation: Eden Prairie, MN, 1992.
57. Tsunekawa, S.; Asami, K.; Ito, S.; Yashima, M.; Sugimoto, T. Appl. Surf. Sci. 2005, 252, 1651
58. Siddiquey, I. A.; Furusawa, T.; Sato, M.; Bahadur, N. M.; Uddin, M. N.; Suzuki, N. Ceram. Int. 2011, 37, 1755
59. Briggs, D.; Seah, M. P. Practical Surface Analysis, 2 nd ed.; John Wiley and Sons: New York, 1990.
60. Milošev, I.; Strehblow, H.-H.; Navinšek, B.; Panjan, P. Surf. Sci. Spectra 1998, 5, 152
61. Rizzo, A.; Signore, M. A.; Mirenghi, L.; Piscopiello, E.; Tapfer, L. J. Phys. D 2009, 42, 235401
62. Prieto, P.; Galán, L.; Sanz, J. M. Surf. Interface Anal. 1994, 21, 395
63. Matsuoka, M.; Isotani, S.; Sucasaire, W.; Kuratani, N.; Ogata, K. Surf. Coat. Technol. 2008, 202, 3129
64. Wu, D.; Zhang, Z.; Fu, W.; Fan, X.; Guo, H. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1997, 64, 593
65. Hu, L.; Li, D.; Fang, G. Appl. Surf. Sci. 2003, 220, 367