Synthesis, characterization, and materials chemistry of group 4 silylimides

Inorganic Chemistry

Volumn 50, Issue 23, 2011, Pages 12053-12063

  Cosham, S D ^a   Johnson, A L ^a   Molloy, K C ^a   Kingsley, Andrew J ^b  

^a University of Bath   (United Kingdom)

^b SAFC Hitech   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 82355164609     PISSN: 00201669     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ic2015644     Document Type: Article

References (90)

1. International Technology Roadmap for Semiconductors, 2009 Edition. http://www.itrs.net (accessed Oct 2011).
2. Gupta, T. Copper Interconect Technology; Springer: New York, 2009.
3. Eisenbraun, E.; Upham, A.; Dash, R.; Zeng, W. X.; Hoefnagels, J.; Lane, S.; Anjum, D.; Dovidenko, K.; Kaloyeros, A.; Arkles, B.; Sullivan, J. J. J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 2011
4. Bracht, H. Mat. Sci. Semicon. Proc. 2004, 7, 113
5. Bracht, H.; Stolwijk, N. A.; Mehrer, H. Phys. Rev. B 1991, 43, 14465
6. Carmalt, C. J.; Newport, A.; Parkin, I. P.; Mountford, P.; Sealey, A. J.; Dubberley, S. R. J. Mater. Chem. 2003, 13, 84
7. Carmalt, C. J.; Newport, A. C.; Parkin, I. P.; White, A. J. P.; Williams, D. J. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 2002, 4055
8. Parkin, I. P.; Newport, A.; Carmalt, C. J.; O'Neill, S. A. J. Mater. Chem. 2002, 12, 1906
9. Carmalt, C. J.; Cowley, A. H.; Culp, R. D.; Jones, R. A.; Sun, Y. M.; Fitts, B.; Whaley, S.; Roesky, H. W. Inorg. Chem. 1997, 36, 3108
10. Lewkebandara, T. S.; Sheridan, P. H.; Heeg, M. J.; Rheingold, A. L.; Winter, C. H. Inorg. Chem. 1994, 33, 5879
11. Winter, C. H.; Lewkebandara, T. S.; Proscia, J. W.; Rheingold, A. L. Inorg. Chem. 1994, 33, 1227
12. Winter, C. H.; Sheridan, P. H.; Lewkebandara, T. S.; Heeg, M. J.; Proscia, J. W. J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 1095
13. Fischer, R. A.; Baunemann, A.; Kim, Y.; Winter, M. Dalton Trans. 2006, 121
14. Fix, R.; Gordon, R. G.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 1991, 3, 1138
15. Musgrave, C.; Somani, S.; Mukhopadhyay, A. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 11507
16. Hoffman, D. M.; Lehn, J. S. B. M.; van der Heide, P.; Wang, Y. Q.; Suh, S. J. Mater. Chem. 2004, 14, 3239
17. Carmalt, C. J.; Hasan, P.; Potts, S. E.; Palgrave, R. G.; Davies, H. O. Polyhedron 2008, 27, 1041
18. Mountford, P.; Dubberley, S. R.; Evans, S.; Boyd, C. L. Dalton Trans. 2005, 1448
19. Kaloyeros, A. E.; Eisenbraun, E. Annu. Rev. Mater. Sci. 2000, 30, 363
20. Rawal, S.; Norton, D. P.; Ajmera, H.; Anderson, T. J.; McElwee-White, L. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 051913
21. Winkelmann, A.; Cairney, J. M.; Hoffman, M. J.; Martin, P. J.; Bendavid, A. Surf. Coat. Technol. 2006, 200, 4213
22. Chang, C.-L.; Lin, C.-T.; Tsai, P.-C.; Ho, W.-Y.; Liu, W.-J.; Wang, D.-Y. Surf. Coat. Technol. 2008, 202, 5516
23. Winter, C. H. Aldrichimica Acta 2000, 33, 3
24. Hübner, R.; Hecker, M.; Mattern, N.; Hoffmann, V.; Wetzig, K.; Heuer, H.; Wenzel, C. H.; Engelmann, H.-J.; Gehre, D.; Zschech, E. Thin Solid Films 2006, 500, 259
25. Jun, K.; Shimogaki, Y. Sci. Technol. Adv. Mater. 2004, 5, 549
26. Guo, C. T.; Lee, D.; Chen, P. C. Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 3130
27. Shalish, I.; Shapira, Y. J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 1999, 17, 166
28. Sun, S. C.; Yap, H. K.; Chen, C. A.; Lin, P. Solid-State and Integrated-Circuit Technology, Proceedings; 2001.
29. Vomiero, A.; Boscolo Marchi, E.; Quaranta, A.; Della Mea, G.; Brusa, R. S.; Mariotto, G.; Felisari, L.; Frabboni, S.; Tonini, R.; Ottaviani, G.; Mattei, G.; Scandurra, A.; Puglisi, O. J. Appl. Phys. 2007, 102, 033505
30. Wen, H. C.; Alshareef, H. N.; Luan, H.; Choi, K.; Lysaght, P.; Harris, H. R.; Huffman, C.; Brown, G. A.; Bersuker, G.; Zeitzoff, P.; Huff, H.; Majhi, P.; Lee, B. H. Symposium on VLSI Technology, Digest of Technical Papers; 2005; p 46.
31. Sandu, C. S.; Benkahoul, M.; Sanjinés, R.; Lévy, F. Surf. Coat. Technol. 2006, 201, 2897
32. Aouadi, S. M.; Namavar, F.; Gorishnyy, T. Z.; Rohde, S. L. Surf. Coat. Technol. 2002, 160, 145
33. Prindle, C.; Brennan, B.; Denning, D.; Shahvandi, I.; Guggilla, S.; Chen, L.; Marcadal, C.; Deyo, D.; Bhandary, U. Proceedings of the IEEE International Interconnect Technology Conference; 2002; p 182.
34. Perez-Mariano, J.; Lau, K.-H.; Sanjurjo, A.; Caro, J.; Casellas, D.; Colominas, C. Surf. Coat. Technol. 2006, 201, 2217
35. Luan, H.; Alshareef, H. N.; Harris, H. R.; Wen, H. C.; Choi, K.; Senzaki, Y.; Majhi, P.; Lee, B.-H. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 142113
36. Varesi, E.; Pavia, G.; Zenkevich, A.; Lebedinskii, Y.; Besana, P.; Giussani, A.; Modelli, A. J. Phys. Chem. Solids 2007, 68, 1046
37. Vepřek, S.; Reiprich, S. Thin Solid Films 1995, 268, 64
38. Blanquet, E.; Dutron, A. M.; Ghetta, V.; Bernard, C.; Madar, R. Microelectron. Eng. 1997, 37/38, 189
39. Park, H.-L.; Byun, K.-M.; Lee, W.-J. Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, 6153
40. Min, J. S.; Park, J. S.; Park, H. S.; Kang, S. W. J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 3868
41. Park, J. S.; Kang, S. W. Electrochem. Solid-State Lett. 2004, 7, C87
42. Park, J. S.; Kang, S. W.; Kim, H. J. J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct. 2006, 24, 1327
43. Kim, M.-K.; Han, Y.-S.; Kim, M.-S.; Yang, S.-H.; Lei, X. Air Products and Chemicals, U.S. Pat. Appl. Publ. (2008), US 20080318443, A1 20081225.
44. Lei, X.; Thridandam, H.; Cuthill, K. S.; Hochberg, A. K. Air Products and Chemicals, Eur. Pat. Appl. (2006), EP 1691400, A1 20060816.
45. Lei, X.; Thridandam, H.; Xiao, M.; Bowen, H. R.; Gaffney, T. R. Air Products and Chemicals, U.S. Pat. Appl. Publ. (2008), US 20080145535, A1 20080619.
46. Lei, X.; Xiao, M.; Thridandam, H.; Cuthill, K. S. Air Products and Chemicals, U.S. Pat. Appl. (2006), US 7064224, B1 20060620.
47. Norman, J.A. T.; Lei, X. Air Products and Chemicals, Eur. Pat.Appl. (2007), EP 1772460, A1 20070411.
48. McElwee-White, L. Dalton Trans. 2006, 5327
49. Park, J. W.; Lee, C. H.; La, Y. H.; Park, S. J. Organometallics 1998, 17, 3648
50. Daniele, S.; Hitchcock, P. B.; Lappert, M. F. Chem. Commun. 1999, 1909
51. Xue, Z. L.; Yu, X. H. Inorg. Chem. 2005, 44, 1505
52. Heyduk, A. F.; Blackmore, K. J.; Ketterer, N. A.; Ziller, J. W. Inorg. Chem. 2005, 44, 468
53. Xue, Z. L.; Yu, X. G.; Chen, S. J.; Wang, X. P.; Chen, X. T. Organometallics 2009, 28, 4269
54. Jordan, R. F.; Lococo, M. D.; Lee, H. J. Mol. Struct. 2009, 920, 363
55. Hoffman, D. M.; Jimenez, E. D.; Javed, S. Inorg. Chim. Acta 2009, 362, 385
56. Male, N. A. H.; Thornton-Pett, M.; Bochmann, M. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1997, 2487
57. Liu, D. S.; Li, J. F.; Weng, L. H.; Huang, S. P.; Tong, H. B. Acta Crystallogr., Sect. E 2002, 58, M510
58. Kim, K.; Jeon, Y. M.; Heo, J.; Lee, W. M.; Chang, T. H. Organometallics 1999, 18, 4107
59. Gibson, V. C.; Kimberley, B. S.; White, A. J. P.; Williams, D. J.; Howard, P. Chem. Commun. 1998, 313
60. Choquette, D. M.; Timm, M. J.; Hobbs, J. L.; Rahim, M. M.; Ahmed, K. J.; Planalp, R. P. Organometallics 1992, 11, 529
61. Bowser, J. R.; Neilson, R. H.; Wells, R. L. Inorg. Chem. 1978, 17, 1882
62. Bradley, J. S.; Cheng, F.; Archibald, S. J.; Supplit, R.; Rovai, R.; Lehmann, C. W.; Krüger, C.; Lefebvre, F. Dalton Trans. 2003, 1846
63. Farrugia, L. J. J. Appl. Crystallogr. 1999, 32, 837
64. Edwards, D. A.; Harker, R. M.; Mahon, M. F.; Molloy, K. C. J. Mater. Chem. 1999, 9, 1771
65. Lorber, C.; Choukroun, R.; Vendier, L. Eur. J. Inorg. Chem. 2006, 4503
66. Thorn, D. L.; Nugent, W. A.; Harlow, R. L. J. Am. Chem. Soc. 1981, 103, 357
67. Collier, P. E.; Blake, A. J.; Mountford, P. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1997, 2911
68. Gao, M.; Tang, Y.; Xie, M.; Qian, C.; Xie, Z. Organometallics 2006, 25, 2578
69. Hughes, A. K.; Meetsma, A.; Teuben, J. H. Organometallics 1993, 12, 1936
70. Wagner, O.; Jansen, M.; Baldus, H. P. Z. Anorg. Allg. Chem. 1994, 620, 366
71. Ren, G. M.; Shang, D. L.; Guo, J. P. Acta Crystallogr., Sect. E 2007, 63, m793
72. Atagi, L. M.; Hoffman, D. M.; Smith, D. C. Inorg. Chem. 1993, 32, 5084
73. Walther, D.; Schramm, F.; Theyssen, N.; Beckert, R.; Gorls, H. Z. Anorg. Allg. Chem. 2002, 628, 1938
74. Chen, J. Acta Crystallogr., Sect. E 2008, 64, M938
75. Schumann, H.; Gottfriedsen, J.; Dechert, S.; Girgsdies, F. Z. Anorg. Allg. Chem. 2000, 626, 747
76. Chen, J.; Cao, K. N.; Guo, J. Acta Crystallogr., Sect. E 2007, 63, M3107
77. Chen, J. Acta Crystallogr., Sect. E 2009, 65, M1307
78. Fix, R. M.; Gordon, R. G.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 1990, 2, 235
79. García-González, L.; Hernández-Torres, J.; Mendoza-Barrera, C.; Meléndez-Lira, M.; García-Ramírez, P. J.; Martínez-Castillo, J.; Sauceda, A.; Herrera-May, A. L.; Saldaña, J. M.; Espinoza-Beltrán, F. J. J. Mater. Eng. Perform. 2008, 17, 580
80. Kamiyama, S.; Kurosawa, E.; Nara, Y. J. Electrochem. Soc. 2008, 155, H373
81. Ramqvist, L.; Hamrin, K.; Johansson, G.; Fahlman, A.; Nordling, C. J. Phys. Chem. Solids 1969, 30, 1835
82. Yang, G.-R.; Zhao, Y.-P.; Hu, Y. Z.; Chow, T. P.; Gutmann, R. J. Thin Solid Films 1998, 333, 219
83. Zhang, L. S.; Terauchi, S.-Y.; Azuma, Y.; Fujimoto, T. Surf. Interface Anal. 2008, 40, 1701
84. Miloŝev, I.; Strehblow, H.-H.; Navinŝek, B. Surf. Interface Anal. 1998, 26, 242
85. Lu, F.-H.; Chen, H.-Y. Thin Solid Films 1999, 355-356, 374
86. Jiang, N.; Zhang, H. J.; Bao, S. N.; Shen, Y. G.; Zhou, Z. F. Physica B 2004, 352, 118
87. Prieto, P.; Galán, L.; Sanz, J. M. Phys. Rev. B 1993, 47, 1613
88. Kato, H.; Nango, T.; Miyagawa, T.; Katagiri, T.; Seol, K. S.; Ohki, Y. J. Appl. Phys. 2002, 92, 1106
89. Renault, O.; Samour, D.; Damlencourt, J.-F.; Blin, D.; Martin, F.; Marthon, S.; Barrett, N. T.; Bresson, P. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3627
90. Watanabe, Y.; Yoshida, S.; Kita, Y.; Shimura, T.; Watanabe, H.; Yasutake, K.; Akasaka, Y.; Nara, Y.; Yamada, K. Sci. Technol. Adv. Mater. 2007, 8, 219