Effects of polymer interference during acid generation on latent image quality of extreme ultraviolet resists

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 47, Issue 11, 2008, Pages 8328-8332

  Kozawa, Takahiro ^a   Tagawa, Seiichi ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

Chemically amplified resist; Dissociative electron attachment; EUV lithography; Line edge roughness; Sensitivity

Indexed keywords

ACIDS; ATOMS; DISSOCIATION; ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; ELECTRON ENERGY ANALYZERS; ELECTRONS; FLUORINE; HALOGENATION; IMAGE QUALITY; LASER PULSES; PHOTODISSOCIATION; PHOTORESISTORS; POLYMERS; RADIATION EFFECTS; ROUGHNESS MEASUREMENT; SUGAR (SUCROSE); ULTRAVIOLET DEVICES;

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST; DISSOCIATIVE ELECTRON ATTACHMENT; EUV LITHOGRAPHY; LINE EDGE ROUGHNESS; SENSITIVITY;

PHOTORESISTS;

EID: 58749096376     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.47.8328     Document Type: Article

References (45)

1. T. Itani, D. Kawamura, K. Kaneyama, and S. Kobayashi: J. Photopolym. Sci. Technol. 21 (2008) 409.
2. J. W. Thackeray, E. Aqad, M. F. Cronin, and K. Spear-Alfonso: J. Photopolym. Sci. Technol. 21 (2008) 415.
3. K. Yamashita, S. Kamimura, H. Takahashi, and N. Nishikawa: J. .Photopolym. Sci. Technol. 21 (2008) 439.
4. H. Oizumi, T. Kumise, and T. Itani: J. Photopolym. Sci. Technol. 21 (2008) 443.
5. A. M. Goethals, R. Jonckheere, G. F. Lorusso, J. Hermans, F. Van Roey, A. Myers, A. Niroomand, I. Kim, F. Iwamoto, N. Stepanenko, and K. Ronse: J. Photopolym. Sci. Technol. 20 (2007) 383.
6. D. Shimizu, K. Maruyama, A. Saitou, T. Kai, T. Shimokawa, K. Fujiwara, Y. Kikuchi, and I. Nishiyama: J. Photopolym. Sci. Technol. 20 (2007) 423.
7. S. Masuda, S. Tarutani, S. Kamimura, S. Hirano, W. Hoshino, and K. Mizutani: J. Photopolym. Sci. Technol. 20 (2007) 437.
8. T. Kozawa, S. Tagawa, H. Oizumi, and I. Nishiyama: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) L27.
9. R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) L979.
10. H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, and J. Onodera: Appl. Phys. Express 1 (2008) 047001.
11. T. Kozawa, S. Tagawa, and M. Shell: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) Ll 1.43.
12. R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: Appl. Phys. Express 1 (2008) 027004.
13. T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, and T. Itani: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 4926.
14. T. Kozawa, K. Okamoto, J. Nakamura, and S. Tagawa: Appl. Phys. Express .1 (2008) 067012.
15. J. L. Dektar and N. P. Hacker: J. Am. Chem. Soc. 112 (1990) 6004.
16. N. P. Hacker and K. M. Welsh: Structure-Property Relations in Polymers (American Chemical Society, Washington, D.C., 1993) Advances in Chemistry Series, Vol. 236, p. 557.
17. T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, and M. J. Leeson: J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2007) 2481.
18. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 4301.
19. T. Kozawa, A. Saeki, A. Nakano, Y. Yoshida, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 21 (2003) 3149.
20. A. Nakano, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Szreder, J. F. Wishart, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) L197.
21. T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) 3055.
22. T. H. Fedynyshyn, R. B. Coodman, and J. Roberts: Proc. SPIE 6923 (2008) 692319.
23. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Romano: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) L842.
24. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano: J. Vac. Sci. Technol. B 23 (2005) 2728.
25. H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) 1833.
26. H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) L648.
27. A. B. Ross: NSRDS-NBS (U.S. Department of Commerce, Washington, D.C., 1975) Suppl. 43.
28. A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 4363.
29. T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: J. Photopolym. Sci. Technol. 20 (2007) 577.
30. T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 8354.
31. T. Kozawa, A. Saeki, and S. Tagawa: Appl. Phys. Express 1 (2008) 027001.
32. T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, and T. Itani: J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2007) 2295.
33. T. Kozawa, A. Saeki, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 22 (2004) 3489.
34. S. Tanuma, C. J. Powell, and D. R. Penn: Surf. Interface Anal. 21 (1.994) 165.
35. K. Furukawa, T. Kozawa, S. Seki, and S. Tagawa: Appl. Phys. Express 1 (2008) 067001.
36. R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, D. Shimizu, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 7125.
37. W. D. Hinsberg, F. A. Houle, M. I. Sanchez, and G. M. Wallraff: IBM J. Res. Dev. 45 (2001) 667.
38. M. I. Sanchez, W. D. Hinsberg, F. A. Houle, J. A. Hoffnagle, H. Ito, and C. V. Nguyen: Proc. SPIE 3678 (1999) 160.
39. A. R. Pawloski, A. Acheta, I. Lalovic, B. L. Fontaine, and H. J. Levinson: Proc. SPIE 5376 (2004) 414.
40. A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, and M. J. Leeson: J. Micro/Nanolithogr. MEMS MOEMS 6 (2007) 043004.
41. T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, and T. Itani: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 4465.
42. W. Hinsberg, F. A. Houle, J. Hoffnagle, M. Sanchez, G. Wallraff, M. Morrison, and S. Frank: J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998) 3689.
43. S. C. Palmateer, S. G. Cann, J. E. Curtin, S. P. Doran, L. M. Eriksen, A. R. Forte, R. R. Kunz, T. M. Lyszczarz, M. B. Stern, and C. M. Nelson-Thomas: Proc. SPIE 3333 (1998) 634.
44. G. W. Reynolds and J. W. Taylor: J. Vac. Sci. Technol. B 17 (1999) 334.
45. J. Shin, G. Han, Y. Ma, K. Moloni, and F. Cerrina: J. Vac. Sci. Technol. B 19 (2001) 2890.