Diazonaphthoquinone molecular glass photoresists: Patterning without chemical amplification

Chemistry of Materials

Volumn 19, Issue 15, 2007, Pages 3780-3786

  Bratton, Daniel ^a,c   Ayothi, Ramakrishnan ^a   Deng, Hai ^b   Cao, Heidi B ^b   Ober, Christopher K ^a  

^a Cornell University   (United States)

^b INTEL CORPORATION   (United States)

^c UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL AMPLIFICATION; FUNCTIONALIZATION; MOLECULAR GLASS PHOTORESISTS;

CROSSLINKING; GLASS; KETONES; WET ETCHING; X RAY DIFFRACTION;

PHOTORESISTS;

EID: 34547675885     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm062967t     Document Type: Article

References (40)

1. Introduction to Microlithography, 2nd ed.; Thompson, L. F., Willson, C. G., Bowden, M. J., Ed.; American Chemical Society: Washington, DC, 1994.
2. Blumenstock, G. M.; Meinen, C.; Farrar, N. R.; Yen, A. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2005, 5645, 188.
3. Cao, H. B.; Roberts, J. M.; Dalin, J.; Chandhok, M.; Meagley, R. P.; Panning, E. M.; Shell, M. K.; Rice, B. J. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2003, 5039, 484.
4. Brainard, R. L.; Cobb, J.; Cutler, C. A. J. Photopolym. Sci. Technol. 2003, 16, 401.
5. Shirota, Y. J. Mater. Chem. 2000, 10, 1.
6. Shirota, Y. J. Mater. Chem. 2005, 15, 75.
7. Alig, I.; Braun, D.; Langendorf, R.; Wirth, H. O.; Voigt, M.; Wendorff, J. H. J. Mater. Chem. 1998, 8, 847.
8. Tsuchiya, K.; Chang, S. W.; Felix, N. M.; Ueda, M.; Ober, C. K. J. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 431.
9. Yoshiiwa, M.; Kageyama, H.; Shirota, Y.; Wakaya, F.; Gamo, K.; Takai, M. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 2605.
10. Yoshiiwa, M.; Kageyama, H.; Wakaya, F.; Takai, M.; Gamo, K.; Shirota, Y. J. Photopolym. Sci. Technol. 1996, 9, 57.
11. Kadota, T.; Kageyama, H.; Wakaya, F.; Gamo, K.; Shirota, Y. Chem. Lett. 2004, 33, 706.
12. Kadota, T.; Yoshiiwa, M.; Kageyama, H.; Wakaya, F.; Gamo, K.; Shirota, Y. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2001, 4345, 891.
13. Kadota, T.; Kageyama, H.; Wakaya, F.; Gamo, K.; Shirota, Y. Mater. Sci. Eng., C 2001, C16, 91.
14. Kadota, T.; Kageyama, H.; Wakaya, F.; Gamo, K.; Shirota, Y. J. Photopolym. Sci. Technol. 1999, 12, 375.
15. Fedynyshyn, T. H.; Sinta, R. F.; Pottebaum, I.; Cabral, A. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2005, 5753, 281.
16. Trimble, A. R.; Tully, D. C.; Fréchet, J. M. J.; Medeiros, D. R.; Angelopoulos, M. Polym. Prepr. (Am. Chem. Soc., Div. Polym. Chem.) 2000, 41, 325.
17. Tully, D. C.; Trimble, A. R.; Fréchet, J. M. J. Adv. Mater. (Weinheim, Germany) 2000, 12, 1118.
18. Tully, D. C.; Trimble, A. R.; Fréchet, J. M. J. Polym. Prepr. (Am. Chem. Soc., Div. Polym. Chem.) 2000, 41, 142.
19. Sooriyakumaran, R.; Truong, H.; Sundberg, L.; Morris, M.; Hinsberg, B.; Ito, H.; Allen, R.; Huang, W.-S.; Goldfarb, D.; Burns, S.; Pfeiffer, D. J. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 425.
20. Sooriyakumaran, R.; Truong, H.; Sundberg, L.; Morris, M.; Hinsberg, B.; Ito, H.; Allen, R.; Huang, W.-S.; Goldfarb, D.; Bums, S.; Pfeiffer, D. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2005, 5753, 329.
21. Kim, J. B.; Oh, T. H.; Kim, K. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2005, 5753, 603.
22. Kim, J. B.; Oh, T. H.; Kwon, Y. G. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2002, 4690, 549.
23. Kim, J. B.; Kwon, Y. G.; Yun, H. J.; Choi, J. H. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2002, 4690, 837.
24. Fujita, J.; Ohnishi, Y.; Ochiai, Y.; Matsui, S. Appl. Phys. Lett. 1996, 65, 1297.
25. Ishida, M.; Fujita, J.-i.; Ogura, T.; Ochiai, Y.; Ohshima, E.; Momoda, J. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 2003, 42, 3913.
26. Haba, O.; Haga, K.; Ueda, M.; Morikawa, O.; Konishi, H. Chem. Mater. 1999, 11, 427.
27. Nakayama, T.; Haga, K.; Haba, O.; Ueda, M. Chem. Lett. 1997, 3, 265.
28. Nakayama, T.; Nomura, M.; Haga, K.; Ueda, M. Bull. Chem. Soc. Jpn. 1998, 71, 2979.
29. Chang, S. W.; Felix, N.; Yang, D.; Ramakrishnan, A.; Ober, C. K. PMSE Prepr. 2005, 92, 131.
30. Chang, S. W.; Ayothi, R.; Bratton, D.; Yang, D.; Felix, N.; Cao, H. B.; Deng, H.; Ober, C. K. J. Mater. Chem. 2006, 16, 1470.
31. Yang, D.; Chang, S. W.; Ober, C. K. J.. Mater. Chem. 2006, 16, 1693.
32. Reichmanis, E.; Houlihan, F. M.; Nalamasu, O.; Neenan, T. X. Chem. Mater. 1991, 3, 394.
33. Van Steenwinckel, D.; Lammers, J. H.; Leunissen, L. H. A.; Kwinten, J. A. J. M. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2005, 5753, 269.
34. Gallatin, G. M. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2005, 5754, 38.
35. Schmid, G. M.; Stewart, M. D.; Wang, C.-Y.; Vogt, B. D.; Prabhu, V. M.; Lin, E. K.; Willson, C. G. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2004, 5376, 333.
36. Nakayama, T.; Ueda, M. J. Mater. Chem. 1999, 9, 697.
37. Tunstad, L. M.; Tucker, J. A.; Dalcanale, E.; Weiser, J.; Bryant, J. A.; Sherman, J. C.; Helgeson, R. C.; Knobler, C. B.; Cram, D. J. J. Org. Chem. 1989, 54, 1305.
38. Urano, Y.; Miyazaki, M.; Katsuya, K.; Kikuchi, H. J. Photopolym. Sci. Technol. 1993, 6, 53.
39. Pacansky, J.; Waltman, R. J. J. Phys. Chem. 1988, 92, 4558.
40. Seeger, D. IBM J. Res. Dev. 1993, 37, 435.