Dendrimer-based self-assembled monolayers as resists for scanning probe lithography

Advanced Materials

Volumn 11, Issue 4, 1999, Pages 314-318

  Tully, David C ^a   Wilder, Kathryn ^b   Fréchet, Jean M J ^a   Trimble, Alexander R ^a   Quate, Calvin F ^b  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

^b STANFORD UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ACYLATION; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; BAND STRUCTURE; ETHERS; NANOTECHNOLOGY; OXIDATION; REACTIVE ION ETCHING; SEMICONDUCTING SILICON; SILICON WAFERS; SUBSTRATES; SURFACES; ULTRATHIN FILMS;

DENDRIMER BASED MONOLAYERS; PARK SCIENTIFIC INSTRUMENTS; SCANNING PROBE LITHOGRAPHY;

MONOLAYERS;

EID: 0033522047     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/(SICI)1521-4095(199903)11:4<314::AID-ADMA314>3.0.CO;2-E     Document Type: Article

References (23)

1. P. M. Saville, J. W. White, C. J. Hawker, K. L. Wooley, J. M. J. Fréchet, J. Phys. Chem. 1993, 97, 293.
2. P. M. Saville, P. A. Reynolds, J. W. White, C. J. Hawker, J. M. J. Fréchet, K. L. Wooley, J. Penfold, J. R. P. Webster, J. Phys. Chem. 1995, 99, 8283.
3. H. Tokuhisa, M. Zhao, L. A. Baker, V. T. Phan, D. L. Dermody, M. E. Garcia, R. F. Peez, R. M. Crooks, T. M. Mayer, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 4492.
4. M. C. Coen, K. Lorenz, J. Kressler, H. Frey, R. Mülhaupt, Macromolecules 1996, 29, 8069.
5. H. Sugimua, T. Uchida, N. Kitamura, H. Masuhara, J. Phys. Chem. 1994, 98, 4352.
6. E. S. Snow, P. M. Campell, P. J. McMarr, Appl. Phys. Lett. 1993 63, 749.
7. E. S. Snow, P. M. Campell, Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 1932.
8. L. Tsau, D. Wang, K. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 2133.
9. A. E. Gordon, R. T. Fayfield, D. D. Litfin, T. K. Higman, J. Vac. Sci. Technol. B 1995, 13, 2805.
10. N. Kramer, J. Jorritsma, H. Birk, C. Schönenberger, J. Vac. Sci. Technol B 1995, 13, 805.
11. P. Avouris, T. Hertel, R. Martel, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 285.
12. H. Sugimura, N. Nakagiri, J. Vac. Sci. Technol. A 1996, 14, 1223.
13. K. Wilder, H. T. Soh. A. Atalar, C. F. Quate, J. Vac. Sci. Technol. B. 1997, 15, 1811.
14. C. R. K. Marrian, R. J. Colton, Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 755.
15. H. C. Day, D. R. Allee, R. George, V. A. Burrows, Appl. Phys. Lett. 62, 1993, 1629.
16. T. R. Albrecht, M. M. Dovek, C. A. Lang, P. Grütter, C. F. Quate, S. W. J. Kuan, C. W. Frank, R. F. W. Pease, J. Appl. Phys. 1988, 64, 1178.
17. C. R. K. Marrian, F. K. Perkins, S. L. Brandow, T. S. Koloski, E. A. Dobisz, J. M. Calvert, Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 390.
18. M. J. Lercel, G. F. Redinbo, H. G. Craighead, C. W. Sheen, D. L. Allara, Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 974.
19. J. M. J. Fréchet, Science 1994, 263, 1710.
20. C. J. Hawker, J. M. J. Fréchet, J. Am. Chem. Soc. 1990, 112, 7638.
21. G. L'abbe, B. Forier, W. Dehean, Chem. Commun. 1996, 2143.
22. A. W. Neumann, R. J. Good, Surface and Colloid Science Vol. II: Experimental Methods. Plenum Press, New York 1979.
23. J. Xu, W. J. Choyke, J. T. Yates, Jr., J. Appl. Phys. 1997, 82, 6289.