Stabilization of amide-based complexes of niobium and tantalum using malonates as chelating ligands: Precursor chemistry and thin film deposition

Chemistry of Materials

Volumn 19, Issue 25, 2007, Pages 6077-6087

  Hellwig, Malte ^a   Milanov, Andrian ^a   Barreca, Davide ^b   Deborde, Jean Laurent ^a   Thomas, Reji ^c   Winter, Manuela ^a   Kunze, Ulrich ^a   Fischer, Roland A ^a   Devi, Anjana ^a  

^a RUHR UNIVERSITY BOCHUM   (Germany)

^b UNIVERSITY OF PADOVA   (Italy)

^c FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHELATION; LIGANDS; METAL COMPLEXES; NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE; SINGLE CRYSTALS; X RAY DIFFRACTION;

PRECURSOR CHEMISTRY; SECONDARY NEUTRAL MASS SPECTROMETRY; THIN FILM DEPOSITION;

THIN FILMS;

EID: 38049177415     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm0630441     Document Type: Article

References (77)

1. (a) WiIk, U. U.; Wallace, K. M.; Anthony, J. M. J. Appl Phys. 2001, 89, 5243.
2. (b) Lee, J. S.; Chang, S. J.; Chen, F.; Sun, S. C.; Liu, C. H.; Liaw, U. H. Mater. Chem. Phys. 2003, 77, 242.
3. (c) Alers, G. B.; Werder, D. J.; Chabal, Y.; Lu, H. C.; Gusev, E. P.; Garfunkel, T.; Gustafsson, T.; Urdahl, R. S. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1187.
4. (d) Yun, J. Y.; Rhee, S. W. J. Vac. Sci. Technol 2000, 18, 2822.
5. (a) Rubio, J. J. Vac. Sci. Technol. 1982, 21, 1043.
6. (b) Ozer, N.; Lampert, C. M. J. Sol-Gel Sci. Technol. 1997, 8, 703.
7. (c) Granqvist, C. G. Handbook of Inorganic Electromic Materials; Elsevier: Amsterdam, 1995.
8. (d) Doumuki, T.; Tamada, H.; Saitoh, M. Appl. Phys. Lett. 1994, 54, 3533.
9. (a) Araujo, C. A.; Cuchiaro, J. D.; McMillan, L. D.; Scott, M. C.; Scott, J. F. Nature (London) 2002, 374, 627.
10. (b) Condorelli, G. G.; Favazza, M.; Bedoya, C.; Baeri, A.; Anastasi, G.; Lo Nigro, R.; Menou, N.; Muller, C.; Lisoni, J. G.; Wouters, D.; Fragala, I. L. Chem. Mater. 2006, 18, 1016.
11. (c) Ramesh, R.; Aggarwal, S.: Auciello, O. Mater. Sci. Eng., R 2001, 32.
12. (d) Polla, D. L. Microelectron. Eng. 1995, 29, 51.
13. (a) Sullivan, B. T.; Clarke, G. A:; Akiyama, T.; Osborne, N.; Ranger, M.; Dobrowolski, J. A.; Howe, L.; Matsumoto, A.; Yizhou, S.; Kikuchi, Appl. Opt. 2000, 39, 157.
14. (b) Agarwal, G.; Reddy, G. B. J. Mater. Set: Mater. Electron. 2005, 16, 21.
15. (a) Pollard, K. D.; Puddephatt, R. J. Chem. Mater. 1999, 11, 1069.
16. (b) Pinzelli, L.; Gros-Jean, M.; Brechet, Y.; Volpi, F.; Bajolet, A.; Giraudin, J. C. Microlectron. Reliab. 2007, 47, 700.
17. (c) Zeng, W.; Eisenbraun, E.; Frisch, H.; Sullivan, J. J.; Kaloyeros, A. E.; Margalit, J.; Beck, K. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, F172.
18. (d) Li, H.; Dawson, W. A.; Roose, J.; Hoppert, B. D.; Grobe, G.; Leineguth, E. Chem. Vap. Deposition, Proc. 11th Int. Conf. (EUROCVD-11) 1997, 811.
19. (e) Desu, S. B. Mater. Chem. Phys. 1992, 31, 341.
20. Porporati, A.; Roitti, S.; Sbaizero, O. J. Eur. Ceram. Soc. 2003, 23, 247.
21. (a) Kukli, K.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Mater. 2000, 12, 1914.
22. (b) Maeng, W. J.; Park, S.-J.; Kim, H. J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 2276.
23. (c) Maeng, W. J.; Kim, H. Electrochem. Soc. Solid-State Lett. 2006, 9, G191.
24. (d) Rooth, M.; Kukli, K.; Haarsta, A. Proc. Electrochem. Soc. 2005, 9, 598.
25. (a) Zhang, J.-Y.; Fang, Q.; Boyd, I. W. Appl. Surf. Sci. 1999, 138-139, 320.
26. (b) Kinsel, G., Jr. Microporous Mesoporous Mater. 1999, 28, 111.
27. (c) Sim, H.; Choi, D.; Dongsoo, S.; Lee, S.; Jae-Myong, Y.; Yoo, I.; Hwang, H. IEEE Electron Device Lett. 2005, 26, 292.
28. (a) Ezhlilvalavan, S.; Tseng, T. Y. J. Appl. Phys. 1998, 83, 4797.
29. (b) Wu, A. M.; Wu, P. K.; Rymaszewski, Appl Phys. Lett. 1993, 62, 3264.
30. (c) Boughhaba, S.; Islam, M.; McCaffrey, J. P.; Sproule, G. I.; Graham, M. J. Thin Solid Films 2000, 371, 119.
31. (d) Chaput, F.; Boilot, J.-P. J. Am. Ceram. Soc. 1989, 72, 1335.
32. (e) Robert, S.; Ryan, J.; Nesbit, L. J. Electrochem. Soc. 1986, 147, 1405.
33. (f) Chao, N. H.; Kang, H. B.; Kim, Y. H. Ferroelectrics 1994, 152, 39.
34. (a) Forsgren, K.; Harsta, A. Thin Solid Films 1998, 343-344, 111.
35. (b) Kobyakov, V. P. Inorg. Chem. 2002, 38, 895.
36. (c) Kukli, K.; Ritala, M.; Lesklea, M.; Lappalainen, R. Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 29.
37. (d) Briand, D.; Modnin, G.; Jenny, S.; van der Wal; Jeannret, S.; de Rooij, N.; Banakh, O.; Keppner, H. Thin Solid Films 2005, 493, 6.
38. (e) Senzaki, Y.; Hochberg, A.; Norman, J. Adv. Mater. Opt. Electron. 2000, 10, 93.
39. (a) Chiu, H. T.; Wang, C. N.; Chaung, S. H. Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 223.
40. (b) Hausmann, D. M.; Rouffignac, P.; Smith, A.; Gordon, R. G.; Monsma, D. Thin Solid Films 2003, 443, 1.
41. (c) Bailey, P. J.; Pace, S. Coord. Chem. Rev. 2001, 214, 91.
42. (d) Machida, H.; Hoshino; Suzuki, T.; Ogura, A.; Oshita, Y. J. Cryst. Growth 2002, 237, 586.
43. (a) Liu, X. L.; Babock, R.; Lane, A. M.; Belot, J. A.; Ott, W. A.; Metz, V. M.; Kannenwurf, C. R.; Chang, P. H. R.; Marks, T. J. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 25.
44. (b) Gau, W. C.; Wu, C. W.; Chang, T. C.; Liu, P. T.; Chu, C. J.; Chen, C. H.; Chen, L. J. Thin Solid Films 2002, 420-421, 548.
45. (a) Maeng, W. J.; Park, S. J.; Kim, H. J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 2276.
46. (b) Maeng, W. J.; Kim, H. Electrochem. Solid State Lett. 2006, 9, G191.
47. (d) Maeng, W. J.; Lim, S. J.; Kwon, S. J.; Kim, H. Appl Phys. Lett. 2007, 90, 062009.
48. (a) Son, K. A.; Mao, A. Y.; Sun, Y. M.; Kim, Y.; Liu, F.; Kamath, A. Appl Phys. Lett. 1998, 72, 1187.
49. (b) Chiu, H. T.; Wang, C. N.; Chaung, S. H. Chem. Vap. Deposition 2000, 6 (5), 223.
50. (c) Pinzelli, L.; GrosJean, M.; Brechet, Y.; Volpi, F.; Bajolet, A.; Giraudinm, J.C.Microelectron. Reliab. 2007, 47, 700.
51. (a) Thomas, R.; Milanov, A.; Bhakta, R.; Patil, R.; Winter, M.; Ehrhart, P.; Waser, R.; Devi, A. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 295.
52. (b) Milanov, A.; Bhakta, R.; Thomas, R.; Ehrhart, P.; Winter, M.; Waser, R.; Devi, A. J. Mater. Chem. 2006, 16, 437.
53. (a) Milanov, A.; Bhakta, R.; Baunemann, A.; Becker, H.-W.; Thomas, R.; Ehrhart, P.; Winter, M.; Devi, A. Inorg. Chem. 2006, 45, 11008.
54. (b) Devi, A.; Bhakta, R.; Milanov, R.; Hellwig, M.; Barreca, D.; Tondello, E.; Thomas, R.; Ehrhart, P.; Winter, M.; Fischer, R. A. Dalton Trans. 2007, 17, 1671.
55. (a) Williams, P. A.; Jones, A. C.; Wright, P. J.; Crosbie, M. J.; Bickley, J., F.; Steiner, A.; Davies, H. O.; Leedham, T. J. Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 110.
56. (b) Lim, S.; Lee, J. C.; Sohn, S.; Lee, W. I.; Lee, I. Chem. Mater. 2002, 14, 1548.
57. Bradley, D. C.; Thomas, I. M. Can. J. Chem. 1962, 40, 449.
58. Devi, A.; Rogge, W.; Wohlfart, A.; Hipler, F.; Becker, H. W.; Fischer, R. A. Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 245.
59. Kótai, E. Nucl. Instrum. Methods 1994, B85, 588.
60. Baving, P.; Becker, H. W.; Rolfs, C.; Zabel, H. Nucl, Instrum. Methods 2002, B194, 363-368.
61. Baunemann, A.; Hellwig, M.; Varade, A.; Bhakta, R.; Winter, M.; Shivashankar, S. A.; Fischer, R. A.; Devi, A. Dalton Trans. 2006, 28, 3485.
62. Masse, J.-P.; Szymanowski, Zabbeida, A.; Amassian, A.; KlembergSapieha, J. E.; Martinu, L. Thin Solid Films 2006, 515, 1674.
63. Hara, J.; Takahashi, E.; Yoon, J. H.; Sugimoto, K. J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 1669.
64. O'Neill, S. A.; Parkin, I. P.; Clark, J. H. E.; Mills, A.; Elliott, N. J. Mater. Chem. 2003, 13, 2952.
65. Lee, J. S.; Change, J.; Chen, J. F.; Sun, C. H.; Liu, H.; Liaw, U. H. Mater. Chem. Phys. 2003, 77, 243.
66. (a) Geyer-Lippmann, J.; Simon, A.; Stollmaier, F. Z. Anorg. Allg. Chem. 1984, 516, 55.
67. (b) Fontaine, R.; Caillat, R.; Feve, L.; Guittet, M. J. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1977, 10, 349.
68. (a) Nefedov, V. I.; Gati, D.; Dzhurinskii, B. F.; Sergushin, N. P.; Salyn, Y. V. Zh. Neorg. Khim. 1975, 20, 2307.
69. (b) Nefedov, V. I.; Firsov, M. N.; Shaplygin, I. S. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1982, 26, 65.
70. Ho, S. F.; Contarini, S.; Rabalais, J. W. J. Phys. Chem. 1987, 91, 4779.
71. (a) Nefedov, V. I.; Gati, D.; Dzhurinskii, B. F.; Sergushin, N. P.; Salyn, Y. V. Zh. Neorg. KMm. 1975, 20, 2307.
72. (b) Atanassova, E.; Spassov, D. Surf. Sci. Spectra 2000, 7, 143.
73. (c) Sarma, D. D.; Rao, C. N. R. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1980, 20, 25.
74. Choudhury, T.; Saied, S. O.; Sullivan, J. L.; Abbot, A. M. J. Phys. D: Appl. Phys. 1989, 22, 1185.
75. Chiu, F.; Wang, J.; Lee, Y.; Wu, S. J. Appl. Phys. 1997, 81, 6911.
76. Pignolet, A.; Rao, G. M.; Krupanidhi, S. B. Thin Solid Films 1995, 261, 18.
77. Thomas, R.; Ehrhart, P.; Milanov, A.; Bhakta, R.; Baunemann, A.; Devi, A.; Fischer, R. A.; Waser, R. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, G77.