Atomic layer deposition of Ta-based thin films: Reactions of alkylamide precursor with various reactants

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 24, Issue 5, 2006, Pages 2276-2281

  Maeng, W J ^a   Park, Sang Joon ^a   Kim, H ^a  

^a Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMMONIA; CARBON; NITROGEN; OXYGEN; TANTALUM; THERMAL EFFECTS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; HYDROGEN PLASMA; TA-BASED THIN FILMS;

THIN FILMS;

EID: 33749362041     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2345205     Document Type: Article

References (36)

1. K. Holloway, P. M. Fryer, C. Cabral, Jr., J. M. E. Haper, P. J. Bailey, and K. H. Keileher, J. Appl. Phys. 71, 5433 (1992).
2. X. Yu, C. Zhu, M. F. Li, A. Chin, M. B. Yu, and D. L. Kwong, IEEE Electron Device Lett. 25, 501 (2004).
3. G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 89, 5243 (2001).
4. G. B. Alers, D. J. Werder, Y. Chabal, H. C. Lu, E. P. Gusev, E. Garfunkel, T. Gustafsson, and R. S. Urdahl, Appl. Phys. Lett. 73, 1517 (1998).
5. K. A. Son, A. Y. Mao, Y. M. Sun, B. Y. Kim, F. Liu, A. Kamath, J. M. White, D. L. Gwong, D. A. Roberts, and R. N. Vrtis, Appl. Phys. Lett. 72, 1187 (1998).
6. W. Zeng, E. Eisenbraun, H. Frisch, J. J. Sullivan, A. E. Kaloyeros, J. Margalit, and K. Beckd, J. Electrochem. Soc. 151, F172 (2004).
7. S. Boughaba, M. Islam, J. P. McCaffrey, G. I. Sprouele, and M. J. Graham, Thin Solid Films 371, 119 (2000).
8. M. Leskela and M. Ritala, Angew. Chem., Int. Ed. 42, 5548 (2003).
9. H. Kim, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2231 (2003).
10. K. Kukli, M. Leskela, and M. Ritala, Chem. Mater. 12, 1914 (2000).
11. J. Sundqvist, H. Hogberg, and A. Harsta, Chem. Vap. Deposition 9, 245 (2003).
12. C. W. Hill, G. J. Derderian, and G. Sanju, J. Electrochem. Soc. 152, 0386 (2005).
13. D. M. Hausmnn, P. Rouffignac, A. Smith, R. Gordon, and D. Monsma, Thin Solid Films 443, 1 (2003).
14. K. E. Ellers, J. Winkler, K. Weeks, and S. Markus, J. Electrochem. Soc. 152, G589 (2005).
15. H. Kim, C. Detavenier, O. Van der Straten, S. M. Rossnagel, A. J. Kellock, and D. G. Park, J. Appl. Phys. 98, 014308 (2005).
16. J. W. Elam, M. Schuisky, J. D. Ferguson, and S. M. Gorge, Thin Solid Films 436, 145 (2003).
17. J. J. Park, W. J. Lee, G. H. Lee, I. S. Kim, B. C. Shin, and S. G. Yoon, Integr. Ferroelectr. 68, 129 (2004).
18. J. S. Becker, E. Kim, and R. G. Gordon, Chem. Mater. 16, 3497 (2004).
19. W. J. Maeng and H. Kim, Electrochem. Solid-State Lett. 9, G191 (2006).
20. K.-A. Son, A. Y. Mao, B. Y. Kim, F. Liu, E. D. Pylant, D. A. Hess, J. M. White, D. L. Kwong, D. A. Roberts, and R. N. Vrtis, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 1670 (1998).
21. J. C. Kwak, Y. H. Lee, and B. H. Choi, Appl. Surf. Sci. 230, 249 (2004).
22. Y. Masuda, S. Wakamatsu, and K. Koumoto, J. Eur. Ceram. Soc. 24, 301 (2004).
23. K. Kukli, M. Ritala, R. Matero, and M. Leskela, J. Cryst. Growth 212, 459 (2000).
24. H. Kim, C. Lavoie, M. Copel, V. Narayanan, D. G. Park, and S. M. Rossnagel, J. Appl. Phys. 95, 5348 (2004).
25. J. Kim, S. Kim, H. Jeon, M.-H. Cho, K.-B. Chung, and C. Bae, Appl. Phys. Lett. 87, 053108 (2005).
26. X. Zhao, N. P. Magatoto, and J. A. Kelber, Thin Solid Films 478, 188 (2005).
27. Z. Wang, H. Sakaue, S. Shingubara, and T. Takahagi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 42, 1843 (2003).
28. Y. Y. Wu, A. Kohn, and M. Eizenberg, J. Appl. Phys. 95, 6167 (2004).
29. C. H. Han, K. N. Cho, J. E. Oh, S. H. Paek, C. S. Park, S. I. Lee, M. Y. Lee, and J. G. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 2646 (1998).
30. X. Liu, S. Ramanathan, A. Longdergan, A. Sivastava, D. Lee, T. E. Siedel, J. T. Barton, D. Pang, and R. G. Gordon, J. Electrochem. Soc. 3, G213 (2005).
31. K. Kukli, M. Ritala, T. Sajavara, J. Keinonen, and M. Leskela, Chem. Vap. Deposition 8, 199 (2002).
32. S. J. Yun, J. W. Lim, and J. H. Lee, Electrochem. Solid-State Lett. 7, F81 (2004).
33. R. Puurunen, Chem. Vap. Deposition 9, 327 (2003).
34. J. Aarik, A. Aidla, V. Sammelselg, H. Siimon, and T. Uustare, J. Cryst. Growth 169, 496 (1996).
35. S. X. Lao, R. M. Martin, and J. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 488 (2005).
36. J. A. Dean, Lange's Handbook of Chemistry, 15th ed. (McGraw-Hill, New York, 2001).