Chemical vapor deposition of tantalum oxide from tetraethoxo(β-diketonato)tantalum(V) complexes

Chemistry of Materials

Volumn 11, Issue 4, 1999, Pages 1069-1074

  Pollard, Kimberly D ^a   Puddephatt, Richard J ^a  

^a UNIVERSITY OF WESTERN ONTARIO   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001616845     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm981047a     Document Type: Article

References (76)

1. Devine, R. A. B.; Chaneliere, C.; Autran, J. L.; Balland, B.; Paillet, P.; Leray, J. L. Microelectron. Eng. 1997, 36, 61.
2. Oehrlein, G. S. J. Appl. Phys. 1986, 59, 1587.
3. Kaplan, E.; Balog, M.; Frohman-Bentchkowsky, D. J. Electrochem. Soc. 1976, 123, 1570.
4. (a) Nam, K. J.; Park, S. K.; Lee, Y. P.; Hong, J. H. Hańguk Chaelyo Hakhoechi 1995, 5, 42.
5. (b) Kamyama, S. Japan. Pat. 07,161,-931, 1995.
6. (c) Kwon, K. W.; Kang, C. S.; Park, T. S.; Sun, Y. B.; Sandler, N.; Tribula, D. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1993, 284, 505.
7. (d) Nishioka, Y.; Shinrili, H.; Mukai, K. J. Electrochem. Soc. 1987, 134, 410.
8. (e) Tanimoto, S.; Matsui, M.; Aoyagi, M.; Kagaku, K.; Kuroiwa, K.; Tarui, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1991, 30, L330.
9. (f) Ingrey, S. J.; Westwood, W. D.; Cheng, Y. C.; Wei, J. Appl. Opt. 1975, 14, 2194.
10. Ohta, K.; Yamada, K.; Shimizu, K.; Tarui, Y. IEEE Trans. Electron Devices 1962, 29, 368.
11. (b) Tiku, S. K. IEEE Trans. Electron Devices 1984, 31, 105.
12. Asai, S. IEDM Technol. Dig. 1984, 1, 6.
13. Kofstad, P. J. Electrochem. Soc. 1962, 109, 776.
14. Revesz, A. G.; Allison, J. F.; Reynolds, J. H. Comsat. Technol. Rev. 1967, 6, 57.
15. (a) Hensler, D. H.; Cuthbert, J. D.; Martin, R. J.; Tien, P. K. Appl. Opt. 1971, 10, 1037.
16. (b) Terui, H.; Kobayashi, M. Appl. Phys. Lett. 1978, 32, 666.
17. Choi, G. M.; Tuller, H. L.; Haggerty, J. S. J. Electrochem. Soc. 1989, 136, 835.
18. (a) Oehrlein, G. S.; Reisman, A. J. Appl. Phys. 1983, 54, 6502.
19. (b) Oehrlein, G. S.; d'Heurle, F. M.; Reisman, A. J. Appl. Phys. 1984, 55, 3715.
20. Young, L.; Smith, D. J. J. Electrochem. Soc. 1979, 126, 765.
21. (b) Montero, I.; Albella, J. M.; Martinez-Duart, J. M. J. Electrochem. Soc. 1985, 132, 814.
22. (a) Wu, A. M.; Wu, P. K.; Lu, T. M.; Rymaszewski, E. J. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 3264.
23. (b) Nishioka, Y.; Shinriki, H.; Mukai, K. J. Electrochem. Soc. 1989, 16, 872.
24. (c) Robert, S.; Ryan, J.; Nesbit, L. J. Electrochem. Soc. 1986, 133, 1405.
25. Mohammed, M. A.; Morgan, D. V. Thin Solid Films 1989, 176, 45.
26. Ohishi, T.; Maekawa, S.; Katoh, A. J. Non-Cryst. Solids 1992, 147, 493.
27. (a) Kim, I.; Kim, J.-S.; Kwon, O.-S.; Ahn, S.-T.; Chun, J. S.; Lee, W.-J. J. Electron. Mater. 1995, 24, 1435.
28. (b) Watanabe, A.; Mukaida, M.; Osato, K.; Imai, Y.; Kameyama, T.; Fukuda, K. J. Mater. Sci. 1995, 30, 4603.
29. (c) Tominaga, K.; Muhammet, R.; Kobayashi, I.; Okada, M. Jpn. J. Appl. Phys. Part 2 1992, 31, L585.
30. (d) Park, S.-K.; Yun, J.-H.; Nam, K.-J. Hańguk Chaelyo Hakhoechi 1996, 6, 106.
31. (e) Tago K. Jpn. Pat. 07,307,294, 1995.
32. (f) Hasegawa, T. Jpn. Pat. 07,-263,431, 1995.
33. (g) Burte, E. P.; Rausch, N. J. Non-Cryst. Solids 1995, 187, 425.
34. (h) An, C. H.; Sugimoto, K. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 1956.
35. (i) Davies, H. O.; Jones, A. C.; Leedham, T. J.; O'Brien, P.; White,A. J. P.; Williams, D. J. J. Mater. Chem. In press.
36. Tominaga, K.; Muhammet, R.; Kobayashi, I.; Okada, M. Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, L585.
37. Koyama, H.; Tanimoto, S.; Kuroiwa, K.; Tarui, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, 6291.
38. Suzuki, T.; Mori, H.; Nakamura, K. Jpn. Pat. 133424a, 1994.
39. (a)Narula, A. K.; Singh, B.; Kapoor, P. N.; Kapoor, R. N. Synth. React. Inorg. Met.-Org. Chem. 1983, 13, 887.
40. (b) Mehrotra, R. C. J. Ind. Chem. Soc. 1978, 1.
41. (c) Mehrotra, R. C.; Rai, A. K.; Kapoor, P. N.; Bohra, R. Inorg. Chim. Acta 1976, 16, 237.
42. (d) Kapoor, P. N.; Mehrotra, R. C. J. Less-Common Met. 1965, 8, 339.
43. (e) Gut, R.; Buser, H.; Schmid, E. Helv. Chim. Acta 1965, 48, 878.
44. (a) Bradley, D. C. Chem. Rev. 1989, 89, 1317.
45. (b) Kirlin, P. S.; Vaartstra, B. A.; Gordon, D.; Glassman, T. E. WO 96 08587, 1996; Chem. Abstr. 1996, 125, 72508u.
46. Yuan, Z.; Dryden, N. H.; Vittal, J. J.; Puddephatt, R. J. Chem. Mater. 1995, 7, 1696.
47. McGuire, G. E.; Schweitzer, G. K.; Carlson, T. A. Inorg. Chem. 1973, 12, 2450.
48. Moulder, J. F.; Stickle, W. F.; Sobol, P. E.; Bomben, K. D. In Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy; Chastain, J., Ed.; Perkin-Elmer Corporation Physical Electronic Division: Minnesota, 1992.
49. (a)Cerveny, L. Catalytic Hydrogenation; Elsevier: The Netherlands, 1986.
50. (b) Rylander, P. N. Catalytic Hydrogenation in Organic Synthesis; Academic Press: New York, 1979.
51. (c) Precious Metals: Science and Technology; Benner, L. S., Suzuki, T., Meguro, K., Tanaka, S., Eds.; I.V. Nielsen Historical Publications: Austin, TX, 1991.
52. Kimura, S.-I.; Nishioka, Y.; Shintani, A.; Mukai, K. J. Electrochem. Soc. 1983, 130, 2414.
53. Spencer, J. T. Prog. Inorg. Chem. 1994, 41, 145.
54. (b) The Chemistry of Metal CVD; Kodas, T. T., Hampden-Smith, M. J., Eds.; VCH: New York, 1994.
55. (c) Puddephatt, R. J. Polyhedron 1994, 13, 1233.
56. Lau, W. S.; Khaw, K. K.; Qian, P. W.; Sandler, N. P.; Chu, P. K. Jpn. J. Appl. Phys. 1996, 35, 2599.
57. Crystal Data Determinative Tables, 3rd ed.; Vol. 4, Inorganic Compounds; Ondik, H. M., Mighell, A. D., Mrose, M. E., Robbins, C. R., Stalick, J. K., Eds.; U.S. Department of Commerce, National Bureau of Standards and the JCPDS International Centre for Diffraction Data: Swarthmore, PA, 1978.
58. (a)Chiu, F.-C.; Wang, J.-J.; Lee, J. Y.-M.; Wu, S. C. J. Appl. Phys. 1997, 81, 6911.
59. (b) Hudner, J.; Hellberg, P.-E.; Kusche, D.; Ohls, H. Thin Solid Films 1996, 281, 415.
60. (c) Kattelus, H.; Ylilammi, M.; Salmi, J.; Ranta-Ano, T.; Nykanen, E.; Suni, I. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1993, 284, 511.
61. Owens, J. M.; Somekh, R. E. Phys. Conf. Ser. 1995, 148, 819.
62. (a) Cava, R. J.; Peck, W. F.; Krajewski, J. J.; Roberts, G. L.; Barber, B. P.; O'Bryan, H. M.; Gammel, P. L. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1396.
63. (b) Hill, N. E.; Vaughan, W.; Price, A. H.; Davies, M. Dielectric Properties and Molecular Behavior; Van Nostrand Reinhold Co.: London, 1969.
64. (a) Zhang, Y.; Choi, S. W.-K.; Puddephatt, R. J. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 9295.
65. (b) Gladfelter, W. L. Chem. Mater. 1993, 5, 1372.
66. (a) Zinn, A. A.; Brandt, L.; Kaesz, H. D.; Hicks, R. F. In The Chemistry of Metal CVD; Kodas, T. T., Hampden-Smith, M. J., Eds.; VCH: New York, 1994; pp 329-355.
67. (b) Xu, C. Y.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T. Chem. Mater. 1995, 7, 1539.
68. (c) Lin, W. B.; Warren, T. H.; Nuzzo, R. G.; Girolami, G. S. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 11644.
69. (d) Lin, W. B.; Wiegand, B. C.; Nuzzo, R. G.; Girolami, G. S. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 5977.
70. (e) Lehmann, O.; Stuke, M. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 2027.
71. (f) Yuan, Z.; Jiang, D. T.; Naftel, S. J.; Sham, T. K.; Puddephatt, R. J. Chem. Mater. 1994, 6, 2151.
72. Xue, Z.; Vaartstra, B. A.; Caulton, K. G.; Chisholm, M. H.; Jones, D. C. Eur. J. Solid State Inorg. Chem. 1992, 29, 213.
73. (b) Schultz, D. L.; Hinds, B. J.; Stern, C. L.; Marks, T. J. Inorg. Chem. 1993, 32, 249.
74. (a)Minkoff, G. J.; Tipper, C. F. H. Chemistry of Combustion Reactions; Butterworths: London, 1962.
75. (b) Cullis, C. F.; Newitt, E. J. Proc. R. Soc. London 1956, A237, 530
76. Proc. R. Soc. London; 1957, A242, 516.