Surface effects in metal oxide-based nanodevices

Nanoscale

Volumn 7, Issue 47, 2015, Pages 19874-19884

  Lien, Der Hsien ^a   Durán Retamal, José Ramón ^a   Ke, Jr Jian ^a   Kang, Chen Fang ^a   He, Jr Hau ^a  

^a KING ABDULLAH UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Saudi Arabia)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRONIC PROPERTIES; METALS; SURFACE DEFECTS; SURFACE ROUGHNESS;

BENEFICIAL EFFECTS; DEVICE APPLICATION; DEVICE PERFORMANCE; ENVIRONMENTAL CONDITIONS; SURFACE BAND BENDING; SURFACE ENGINEERING; SURFACE ENVIRONMENTS; SURFACE-TO-VOLUME RATIO;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 84948658715     PISSN: 20403364     EISSN: 20403372     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c5nr06494e     Document Type: Review

References (105)

1. W. Park G. Jo W. K. Hong J. Yoon M. Choe S. Lee Y. Ji G. Kim Y. H. Kahng K. Lee D. Wang T. Lee Nanotechnology 2011 22 205204
2. C. Y. Chen J. R. D. Retamal I. W. Wu D. H. Lien M. W. Chen Y. Ding Y. L. Chueh C. I. Wu J. H. He ACS Nano 2012 6 9366 9372
3. Z. W. Pan Z. R. Dai Z. L. Wang Science 2001 291 1947 1949
4. Z. L. Wang J. Phys.: Condens. Matter 2004 16 R829 R858
5. Z. H. Dong X. Y. Lai J. E. Halpert N. L. Yang L. X. Yi J. Zhai D. Wang Z. Y. Tang L. Jiang Adv. Mater. 2012 24 1046 1049
6. Z. Fan J. G. Lu J. Nanosci. Nanotechnol. 2005 5 1561 1573
7. Y. H. Hsiao C. Y. Chen L. C. Huang G. J. Lin D. H. Lien J. J. Huang J. H. He Nanoscale 2014 6 2624 2628
8. H. Ko Z. Zhang K. Takei A. Javey Nanotechnology 2010 21 295305
9. E. Comini G. Faglia G. Sberveglieri Z. Pan Z. L. Wang Appl. Phys. Lett. 2002 81 1869 1871
10. M. Law H. Kind B. Messer F. Kim P. Yang Angew. Chem., Int. Ed. 2002 114 2511 2514
11. M. W. Chen J. R. D. Retamal C. Y. Chen J. H. He IEEE Trans. Electron Devices 2012 33 411 413
12. M. W. Chen C. Y. Chen D. H. Lien Y. Ding J. H. He Opt. Express 2010 18 14836 14841
13. P. Lin F. Yan Adv. Mater. 2012 24 34 51
14. C. D. Dimitrakopoulos P. R. L. Malenfant Adv. Mater. 2002 14 99 117
15. S. C. Lima S. H. Kima J. H. Leea M. K. Kima D. J. Kimb T. Zyunga Synth. Met. 2005 148 75 79
16. C. Soci A. Zhang B. Xiang S. A. Dayeh D. P. R. Aplin J. Park X. Y. Bao Y. H. Lo D. Wang Nano Lett. 2007 7 1003 1009
17. K. W. Liu M. Sakurai M. Y. Liao M. Aono J. Phys. Chem. C 2010 114 19835 19839
18. J. R. D. Retamal C. Y. Chen D. H. Lien M. R. S. Huang C. A. Lin C. P. Liu J. H. He ACS Photonics 2014 1 354 359
19. J. Zhou Y. D. Gu Y. F. Hu W. J. Mai P. H. Yeh G. Bao A. K. Sood D. L. Polla Z. L. Wang Appl. Phys. Lett. 2009 94 191103
20. Q. Yang X. Guo W. H. Wang Y. Zhang S. Xu D. H. Lien Z. L. Wang ACS Nano 2010 4 6285 6291
21. C. Y. Chen M. W. Chen C. Y. Hsu D. H. Lien M. J. Chen J. H. He IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 2012 18 1807 1811
22. C. Y. Yan N. Singh H. Cai C. L. Gan P. S. Lee ACS Appl. Mater. Interfaces 2010 2 1794 1797
23. C. Y. Hsu D. H. Lien S. Y. Lu C. Y. Chen C. F. Kang Y. L. Chueh W. K. Hsu J. H. He ACS Nano 2012 6 6687 6692
24. M. L. Brongersma Y. Cui S. H. Fan Nat. Mater. 2014 13 451 460
25. S. F. Leung Q. P. Zhang F. Xiu D. L. Yu J. C. Ho D. D. Li Z. Y. Fan J. Phys. Chem. Lett. 2014 5 1479 1495
26. H. P. Wang D. H. Lien M. L. Tsai C. A. Lin H. C. Chang K. Y. Lai J. H. He J. Mater. Chem. C 2014 2 3144 3171
27. C. H. Ho D. H. Lien H. C. Chang C. A. Lin C. F. Kang M. K. Hsing K. Y. Lai J. H. He Nanoscale 2012 4 7346 7349
28. Y. Yao J. Yao V. K. Narasimhan Z. C. Ruan C. Xie S. H. Fan Y. Cui Nat. Commun. 2012 3 664
29. T. C. Wei D. S. Tsai P. Ravadgar J. J. Ke M. L. Tsai D. H. Lien C. Y. Huang R. H. Horng J. H. He IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 2014 20 3802006
30. D. S. Tsai C. A. Lin W. C. Lien H. C. Chang Y. L. Wang J. H. He ACS Nano 2011 5 7748 7753
31. D. H. Lien Y. H. Hsiao S. G. Yang M. L. Tsai T. C. Wei S. C. Lee J. H. He Nano Energy 2015 11 104 109
32. G. I. Meijer Science 2008 319 1625 1626
33. D. H. Lien Z. K. Kao T. H. Huang Y. C. Liao S. C. Lee J. H. He ACS Nano 2014 8 7613 7619
34. R. Waser M. Aono Nat. Mater. 2007 6 833 840
35. K. Nagashima H. Koga U. Celano F. Zhuge M. Kanai S. Rahong G. Meng Y. He J. D. Boeck M. Jurczak W. Vandervorst T. Kitaoka M. Nogi T. Yanagida Sci. Rep. 2014 4 5532
36. J. R. D. Retamal C. F. Kang P. K. Yang C. P. Lee D. H. Lien C. H. Ho J. H. He Appl. Phys. Lett. 2014 105 182101
37. C. F. Kang W. C. Kuo W. Z. Bao C. H. Ho C. W. Huang W. W. Wu Y. H. Chu J. Y. Juang S. H. Tseng L. B. Hu J. H. He Nano Energy 2015 13 283 290
38. Y. Yang P. Gao L. Li X. Pan S. Tappertzhofen S. Choi R. Waser I. Valov W. D. Lu Nat. Commun. 2014 5 4232
39. U. Celano L. Goux A. Belmonte K. Opsomer A. Franquet A. Schulze C. Detavernier O. Richard H. Bender M. Jurczak W. Vandervorst Nano Lett. 2014 14 2401 2406
40. Y. T. Huang S. Y. Yu C. L. Hsin C. W. Huang C. F. Kang F. H. Chu J. Y. Chen J. C. Hu L. T. Chen J. H. He W. W. Wu Anal. Chim. Acta 2013 85 3955 3960
41. Y. C. Lai F. C. Hsu J. Y. Chen J. H. He T. C. Chang Y. P. Hsieh T. Y. Lin Y. J. Yang Y. F. Chen Adv. Mater. 2013 25 27332 22739
42. C. H. Huang J. S. Huang S. M. Lin W. Y. Chang J. H. He Y. L. Chueh ACS Nano 2012 6 8407 8414
43. A. Sawa Mater. Today 2008 11 28 36
44. S. L. Li J. Li Y. Zhang D. N. Zhengand K. Tsukagoshi Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2011 103 21 26
45. W. Shen R. Dittmann R. Waser J. Appl. Phys. 2010 107 094506
46. J. A. Rodriguez J. C. Hanson A. I. Frenkel J. Y. Kim M. Pe'rez J. Am. Chem. Soc. 2002 124 346 354
47. S. Wang M. Awano K. Maeda J. Electrochem. Soc. 2003 150 D209 D214
48. D. H. Kwon K. M. Kim J. H. Jang J. M. Jeon M. H. Lee G. H. Kim X. S. Li G. S. Park B. Lee S. Han M. Kim C. S. Hwang Nat. Nanotechnol. 2010 5 148 153
49. G. H. Kim J. H. Lee J. Y. Seok S. J. Song J. H. Yoon K. J. Yoon M. H. Lee K. M. Kim H. D. Lee S. W. Ryu T. J. Park C. S. Hwang Appl. Phys. Lett. 2011 98 262901
50. H. W. Huang C. F. Kang F. I. Lai J. H. He S. J. Lin Y. L. Chueh Nanoscale Res. Lett. 2013 8 483
51. P. K. Yang W. Y. Chang P. Y. Teng S. F. Jeng S. J. Lin P. W. Chiu J. H. He Proc. IEEE 2013 101 1732 1739
52. J. J. Ke Z. J. Liu C. F. Kang S. J. Lin J. H. He Appl. Phys. Lett. 2011 99 192106
53. T. H. Huang W. Y. Chang J. F. Chien C. F. Kang P. K. Yang M. J. Chen J. H. He J. Mater. Chem. C 2013 1 7593 7597
54. T. H. Huang P. K. Yang D. H. Lien C. F. Kang M. L. Tsai Y. L. Chueh J. H. He Sci. Rep. 2014 4 4402
55. J. Zhou N. Xu Z. L. Wang Adv. Mater. 2006 18 2432 2435
56. F. J. Pern R. Noufi B. To C. DeHart X. Li S. H. Glick Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2008 70480
57. T. Minami S. Takata H. Sato H. Sonohara J. Vac. Sci. Technol., A 1995 13 1095 1099
58. M. Osada T. Sasaki Adv. Mater. 2012 24 210 228
59. Y. Shi C. Hamsen X. Jia K. K. Kim A. Reina M. Hofmann A. L. Hsu K. Zhang H. Li Z. Y. Juang M. S. Dresselhaus L. J. Li J. Kong Nano Lett. 2010 13 4134 4139
60. B. Alem'an W. Regan S. Aloni V. Altoe N. Alem C. Girit B. Geng L. Maserati M. Crommie F. Wang A. Zettl ACS Nano 2010 4 4762 4768
61. D. H. Lien J. S. Kang M. Amani K. Chen M. Tosun H. P. Wang T. Roy M. Eggleston M. Wu S. C. Lee J. H. He A. Javey Nano Lett. 2015 15 1356
62. Y. Shi K. K. Kim A. Reina M. Hofmann L. J. Li J. Kong ACS Nano 2010 5 2689 2694
63. L. Gomez De Arco Y. Zhang C. W. Schlenker K. Ryu M. E. Thompson C. Zhou ACS Nano 2010 4 2865 2873
64. P. Avouris Nano Lett. 2010 10 4285 4294
65. Y. Shi W. Fang K. Zhang W. Zhang L. J. Li Small 2009 5 2005 2011
66. S. Bae H. Kim Y. Lee X. Xu J. S. Park Y. Zheng J. Balakrishnan T. Lei H. R. Kim Y. Song Y. J. Kim K. S. Kim B. Ozyilmaz J. H. Ahn B. H. Hong S. Iijima Nat. Nanotechnol. 2010 5 574 578
67. J. R. Durán Retamal C. F. Kang C. H. Ho J. J. Ke W. Y. Chang J. H. He Appl. Phys. Lett. 2014 105 253111
68. C. Y. Chen M. W. Chen J. J. Ke C. A. Lin J. R. D. Retamal J. H. He Pure Appl. Chem. 2010 82 2055 2073
69. Y. Hu J. Zhou P. H. Yeh Z. Li T. Y. Wei Z. L. Wang Adv. Mater. 2010 22 3327 3332
70. J. H. He P. H. Chang C. Y. Chen K. D. Tsai Nanotechnology 2009 20 135701
71. P. C. Chen G. Shen C. Zhou IEEE Trans. Nanotechnol. 2008 7 668 682
72. P. S. Cho K. W. Kim J. H. Lee J. Electroceram. 2006 17 975 978
73. G. S. Devi V. B. Subrahmanyam S. C. Gadkari S. K. Gupta Anal. Chim. Acta 2006 568 41 46
74. H. Gong J. Q. Hu J. H. Wang C. H. Ong F. R. Zhu Sens. Actuators, B 2006 115 247 251
75. H. T. Wang B. S. Kang F. Ren L. C. Tien P. W. Sadik D. P. Norton S. J. Pearton J. Lin Appl. Phys. Lett. 2005 86 243503
76. X. H. Wang Y. F. Ding J. Zhang Z. Q. Zhu S. Z. You S. Q. Chen J. Z. Zhu Sens. Actuators, B 2006 115 421 427
77. S. Christoulakis M. Suchea E. Koudoumas M. Katharakis N. Katsarakis G. Kiriakidis Appl. Surf. Sci. 2006 252 5351 5354
78. C. H. Wang X. F. Chu M. W. Wu Sens. Actuators, B 2006 113 320 323
79. T. F. Xue J. F. Hu H. W. Qin Y. Zhou K. An L. Zhang T. Han Y. X. Li Rare Met. Mater. Eng. 2004 33 1006 1008
80. E. Comini C. Baratto G. Faglia M. Ferroni G. Sberveglieri J. Phys. D: Appl. Phys. 2007 40 7255 7259
81. Q. H. Li Y. X. Liang Q. Wan T. H. Wang Appl. Phys. Lett. 2004 85 6389 6391
82. Z. Y. Fan D. W. Wang P. C. Chang W. Y. Tseng J. G. Lu Appl. Phys. Lett. 2004 85 5923 5925
83. C. Y. Lu S. P. Chang S. J. Chang T. J. Hsueh C. L. Hsu Y. Z. Chiou C. Chen IEEE Sens. J. 2009 9 485 489
84. E. Comini G. Faglia G. Sberveglieri Z. W. Pan Z. L. Wang Appl. Phys. Lett. 2002 81 1869 1871
85. G. Kwak K. J. Yong J. Phys. Chem. C 2008 112 3036 3041
86. R. K. Joshi Q. Hu F. Am N. Joshi A. Kumar J. Phys. Chem. C 2009 113 16199 16202
87. T. J. Hsueh Y. W. Chen S. J. Chang S. F. Wang C. L. Hsu Y. R. Lin T. S. Lin I. C. Chen J. Electrochem. Soc. 2007 154 J393 J396
88. L. Liao H. B. Lu J. C. Li C. Liu D. J. Fu Y. L. Liu Appl. Phys. Lett. 2007 91 173110
89. L. C. Tien P. W. Sadik D. P. Norton L. F. Voss S. J. Pearton H. T. Wang B. S. Kang F. Ren J. Jun J. Lin Appl. Phys. Lett. 2005 87 222106
90. Q. Wan Q. H. Li Y. J. Chen T. H. Wang X. L. He J. P. Li C. L. Lin Appl. Phys. Lett. 2004 84 3654 3656
91. J. S. Park W.-J. Maeng H.-S. Kim J.-S. Park Thin Solid Films 2012 520 1679 1693
92. E. Fortunato P. Barquinha R. Martins Adv. Mater. 2012 24 2945 2986
93. L. Wei X. Ping C. M. Lieber IEEE Trans. Electron Devices 2008 55 2859 2876
94. R. JoséRamónDurán, C. Cheng-Ying, L. Kun-Yu and H. Jr-Hau, in Handbook of Zinc Oxide and Related Materials, Taylor & Francis, 2012, pp. 133-174
95. K. Nomura H. Ohta K. Ueda T. Kamiya M. Hirano H. Hosono Science 2003 300 1269 1272
96. K. Nomura H. Ohta A. Takagi T. Kamiya M. Hirano H. Hosono Nature 2004 432 488 492
97. J. F. Conley IEEE Trans. Electron Devices 2010 10 460 475
98. J. K. Jeong H. Won Yang J. H. Jeong Y.-G. Mo H. D. Kim Appl. Phys. Lett. 2008 93 3513
99. D. Kang H. Lim C. Kim I. Song J. Park Y. Park J. Chung Appl. Phys. Lett. 2007 90 192101
100. C. Ming-Wei J. R. D. Retamal C. Cheng-Ying H. Hau IEEE Electron Device Lett. 2012 33 411 413
101. M. E. Lopes H. L. Gomes M. C. R. Medeiros P. Barquinha L. Pereira E. Fortunato R. Martins I. Ferreira Appl. Phys. Lett. 2009 95 063502
102. Y.-C. Chen T.-C. Chang H.-W. Li T.-Y. Hsieh T.-C. Chen C.-P. Wu C.-H. Chou W.-C. Chung J.-F. Chang Y.-H. Tai Appl. Phys. Lett. 2012 101 041908
103. P. Liu T. P. Chen X. D. Li Z. Liu J. I. Wong Y. Liu K. C. Leong Appl. Phys. Lett. 2013 103 202110
104. K. Takechi M. Nakata T. Eguchi H. Yamaguchi S. Kaneko J. Appl. Phys. 2009 48 010203
105. S. P. Chang B.-K. Ju J. Adv. Smart Convergence 2012 1 61 64