Room-temperature ALD of metal oxide thin films by energy-enhanced ALD

ECS Transactions

Volumn 50, Issue 13, 2013, Pages 93-103

  Potts, S E ^a   Profijt, H B ^a   Roelofs, R ^a   Kessels, W M M ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINA; ALUMINUM OXIDE; METALS; OXIDE FILMS; SILICA;

ALD GROWTH; COREACTANTS; METAL OXIDE THIN FILMS; PLASMA PROCESS; SURFACE GROUPS; TEMPERATURE SENSITIVE SUBSTRATES; TRIMETHYLALUMINIUM;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84885479716     PISSN: 19385862     EISSN: 19386737     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1149/05013.0093ecst     Document Type: Conference Paper

References (50)

1. S. E. Potts, W. Keuning, E. Langereis, G. Dingemans, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Electrochem. Soc., 157, P66 (2010).
2. E. Langereis, M. Creatore, S. B. S. Heil, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, Appl. Phys. Lett., 89, 081915 (2006).
3. W. Keuning, P. van de Weijer, H. Lifka, W. M. M. Kessels, and M. Creatore, J. Vac. Sci. Technol. A, 30, 01A131 (2012).
4. D. H. Levy, D. Freeman, S. F. Nelson, P. J. Cowdery-Corvan, and L. M. Irving, Appl. Phys. Lett., 92, 192101 (2008).
5. S. Bang, S. Lee, S. Jeon, S. Kwon, W. Jeong, H. Kim, I. Shin, H. J. Chang, H. Park, and H. Jeon, Semicond. Sci. Technol., 24, 025008 (2009).
6. T. Murata, Y. Miyagawa, Y. Nishida, Y. Yamamoto, T. Yamashita, M. Matuura, K. Asai, and H. Miyatake, Jpn. J. Appl. Phys., 49, 04DB11 (2010).
7. J. Beynet, P. Wong, A. Miller, S. Locorotondo, D. Vangoidsenhoven, T.-H. Yoon, M. Demand, H.-S. Park, T. Vandeweyer, H. Sprey, Y.-M. Yoo, and M. Maenhoudt, Proc. SPIE, 7520, 75201J (2009).
8. J. Haisma, M. Verheijen, K. van den Heuvel, and J. van den Berg, J. Vac. Sci. Technol. B, 14, 4124 (1996).
9. J. Viheriälä, J. Tommila, T. Leinonen, M. Dumitrescu, L. Toikkanen, T. Niemi, and M. Pessa, Microelectron. Eng., 86, 321 (2009).
10. L. Sainiemi, J. Viheriälä, T. Sikanen, J. Laukkanen, and T. Niemi, J. Micromech. Eng., 20, 077001 (2010).
11. C. Peroz, S. Dhuey, M. Cornet, M. Vogler, D. Olynick, and S. Cabrini, Nanotechnology, 23, 015305 (2012).
12. M. D. Groner, F. H. Fabreguette, J. W. Elam, and S. M. George, Chem. Mater., 16, 639 (2004).
13. T. Nam, J.-M. Kim, M.-K. Kim, H. Kim, and W.-H. Kim, J. Korean Phys. Soc., 59, 452 (2011).
14. S. K. Kim, S. W. Lee, C. S. Hwang, Y.-S. Min, J. Y. Won, and J. Jong, J. Electrochem. Soc., 153, F69 (2006).
15. J. L. van Hemmen, S. B. S. Heil, J. H. Klootwijk, F. Roozeboom, C. J. Hodson, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Electrochem. Soc., 154, G165 (2007).
16. S. B. S. Heil, J. L. van Hemmen, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Appl. Phys., 103, 103302 (2008).
17. E. Langereis, M. Bouman, J. Keijmel, S. B. S. Heil, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, ECS Trans., 16, 247 (2008).
18. E. Langereis, J. Keijmel, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, Appl. Phys. Lett., 92, 231904 (2008).
19. A. Niskanen, K. Arstila, M. Ritala, and M. Leskelä, J. Electrochem. Soc., 152, F90 (2005).
20. X. Tang, L. A. Francis, P. Simonis, M. Haslinger, R. Delamare, O. Deschaume, D. Flandre, P. Defrance, A. M. Jonas, J. P. Vigneron, and J. P. Raskin, J. Vac. Sci. Technol. A, 30, 01A146 (2012).
21. S. E. Potts, G. Dingemans, C. Lachaud, and W. M. M. Kessels, J. Vac. Sci. Technol. A, 30, 021505 (2012).
22. M. Putkonen and L. Niinistö, Thin Solid Films, 514, 145 (2006).
23. J. W. Klaus and S. M. George, Surf. Sci., 447, 81 (2000).
24. J. D. Ferguson, E. R. Smith, A. W. Weimer, and S. M. George, J. Electrochem. Soc., 151, G528 (2004).
25. W. Gasser, Y. Uchida, and M. Matsumura, Thin Solid Films, 250, 213 (1994).
26. C.-S. Ku, J.-M. Huang, C.-M. Lin, and H.-Y. Lee, Thin Solid Films, 518, 1373 (2009).
27. Y.-M. Chang, J. Shieh, P.-Y. Chu, H.-S. Lee, C.-M. Lin, and J.-Y. Juang, ACS Appl. Mater. Interfaces, 3, 4415 (2011).
28. D. M. King, X. Liang, P. Li, and A. W. Weimer, Thin Solid Films, 516, 8517 (2008).
29. B. H. Lee, S. Cho, J. K. Hwang, S. H. Kim, and M. M. Sung, Thin Solid Films, 518, 6432 (2010).
30. W. M. M. Kessels, H. B. Profijt, S. E. Potts, and M. C. M. van de Sanden, Plasma Atomic Layer Deposition, p. 131, Wiley-VCH (2011).
31. W. M. M. Kessels and M. Putkonen, MRS Bull., 36, 907 (2011).
32. H. B. Profijt, S. E. Potts, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Vac. Sci. Technol. A, 29, 050801 (2011).
33. S. B. S. Heil, J. L. van Hemmen, C. J. Hodson, N. Singh, J. H. Klootwijk, F. Roozeboom, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Vac. Sci. Technol. A, 25, 1357 (2007).
34. E. Langereis, S. B. S. Heil, H. C. M. Knoops, W. Keuning, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Phys. D: Appl. Phys., 42, 073001 (2009).
35. G. Dingemans, C. A. A. van Helvoirt, D. Pierreux, W. Keuning, and W. M. M. Kessels, J. Electrochem. Soc., 159, H277 (2012).
36. M. Fulem, K. Růžička, V. Růžička, E. Hulicius, T. Šimeček, K. Melichar, J. Pangrǎc, S. A. Rushworth, and L. M. Smith, J. Cryst. Growth, 248, 99 (2003).
37. B. B. Burton, S. W. Kang, S. W. Rhee, and S. M. George, J. Phys. Chem. C, 113, 8249 (2009).
38. S. Haukka, E.-L. Lakomaa, and T. Suntola, Appl. Surf. Sci., 82/83, 548 (1994).
39. S. Haukka and T. Suntola, Interface Sci., 5, 119 (1997).
40. A. Rahtu, T. Alaranta, and M. Ritala, Langmuir, 17, 6506 (2001).
41. D. M. Goldstein, J. A. McCormick, and S. M. George, J. Phys. Chem. C, 112, 19530 (2008).
42. V. R. Rai, V. Vandalon, and S. Agarwal, Langmuir, 26, 13732 (2010).
43. B. Han, Q. Zhang, J. Wu, B. Han, E. J. Karwacki, A. Derecskei, M. Xiao, X. Lei, M. L. O'Neill, and H. Cheng, J. Phys. Chem. C, 116, 947 (2012).
44. J. Li, J. Wu, C. Zhou, B. Han, E. J. Karwacki, M. Xiao, X. Lei, and H. Cheng, J. Phys. Chem. C, 113, 9731 (2009).
45. R. Roelofs, M.Sc. Thesis, Eindhoven University of Technology (2012).
46. S.-J. Won, H.-S. Jung, S. Suh, Y. J. Choi, N.-I. Lee, C. S. Hwang, and H. J. Kim, J. Vac. Sci. Technol. A, 30, 01A126 (2012).
47. L. Spialter, L. Pazdernik, S. Bernstein, W. A. Swasinger, G. R. Buell, and M. E. Freeburger, J. Am. Chem. Soc., 93, 5682 (1971).
48. J. Cerkovnik, T. Tuttle, E. Kraka, N. Ledero, B. Plesničar, and D. Cremer, J. Am. Chem. Soc., 128, 4090 (2006).
49. F. K. Cartledge, Organometallics, 2, 425 (1983).
50. A. Ploom, A. Tuulmets, and J. Järv, Cent. Eur. J. Chem., 9, 910 (2011).