Investigation of structural, electrical, and optical properties for Al-doped ZnO films deposited at different substrate temperatures and H 2 ratios

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 159, Issue 5, 2012, Pages

  Zhu, B L ^a   Wang, J ^a   Zhu, S J ^a   Wu, J ^a   Zeng, D W ^b   Xie, C S ^b  

^a WUHAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (China)

^b HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AL-DOPED ZNO; CRYSTALLINITIES; DEPOSITED FILMS; DIFFERENT SUBSTRATES; FLOW RATIOS; HYDROGEN DOPING; INTERSTITIAL HYDROGEN; PREFERRED ORIENTATIONS; RF-MAGNETRON SPUTTERING; TRANSPORT MECHANISM; VISIBLE REGION; ZNO; ZNO:AL FILMS;

ALUMINUM; CARRIER CONCENTRATION; ELECTRIC PROPERTIES; HYDROGEN; MAGNETRON SPUTTERING; METALLIC FILMS; OPTICAL PROPERTIES; ZINC OXIDE;

SEMICONDUCTOR DOPING;

EID: 84859328506     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.022206jes     Document Type: Article

References (48)

1. C. G. Van de Walle, Phys. Rev. Lett., 85, 1012 (2000). 10.1103/PhysRevLett.85.1012
2. L. Y. Chen, W. H. Chen, J. J. Wang, F. C. N. Hong, and Y. K. Su, Appl. Phys. Lett., 85, 5628 (2004). 10.1063/1.1835991
3. Y. R. Park, J. Kim, and Y. S. Kim, Appl. Surf. Sci., 256, 1589 (2009). 10.1016/j.apsusc.2009.09.026
4. S. J. Tark, Y. W. Ok, M. G. Kang, H. J. Lim, W. M. Kim, and D. Kim, J. Electroceram., 23, 548 (2009). 10.1007/s10832-008-9532-0
5. S. Takeda and M. Fukawa, Thin Solid Films, 468, 234 (2004). 10.1016/j.tsf.2004.05.137
6. Z. Zhou, K. Kato, T. Komaki, M. Yoshino, H. Yukawa, and M. Morinaga, Internat. J. Hydrogen Energ., 29, 323 (2004). 10.1016/S0360-3199(03)00213-1
7. P. F. Cai, J. B. You, X. W. Zhang, J. J. Dong, X. L. Yang, Z. G. Yin, and N. F. Chen, J. Appl. Phys., 105, 83713 (2009). 10.1063/1.3108543
8. B. Y. Oh, M. C. Jeong, and J. M. Myoung, Appl. Surf. Sci., 253, 7157 (2007). 10.1016/j.apsusc.2007.02.181
9. W. F. Liu, G. T. Du, Y. F. Sun, J. M. Bian, Y. Cheng, T. P. Yang, Y. C. Chang, and Y. B. Xu, Appl. Surf. Sci., 253, 2999 (2007). 10.1016/j.apsusc.2006. 06.049
10. S. H. Lee, T. S. Lee, K. S. Lee, B. Cheong, Y. D. Kim, and W. M. Kim, J. Phys. D: Appl. Phys., 41, 95303 (2008). 10.1088/0022-3727/41/9/095303
11. X. T. Hao, F. R. Zhu, K. S. Ong, and L. W. Tan, Semicond. Sci. Technol., 21, 48 (2006). 10.1088/0268-1242/21/1/009
12. C. S. Moon, Y. M. Chung, W. S. Jung, and J. G. Han, Surf. Coat. Technol., 201, 5035 (2007). 10.1016/j.surfcoat.2006.07.147
13. D. H. Kim, S. H. Lee, G. H. Lee, H. B. Kim, K. H. Kim, Y. G. Lee, and T. H. Yu, J. Appl. Phys., 108, 23520 (2010). 10.1063/1.3456527
14. Y. F. Sun, W. F. Liu, Z. D. He, S. L. Liu, Z. Y. Zou, and G. T. Du, Vacuum, 80, 981 (2006). 10.1016/j.vacuum.2005.12.011
15. J. N. Duenow, T. A. Gessert, D. M. Wood, A. C. Dillon, and T. J. Coutts, J. Vac. Sci. Technol. A, 26, 692 (2008). 10.1116/1.2891261
16. S. Eisermann, A. Kronenberger, M. Dietrich, S. Petznick, A. Laufer, A. Polity, and B. K. Meyer, Thin Solid Films, 518, 1099 (2009). 10.1016/j.tsf.2009.05.050
17. R. Das, K. Adhikary, and S. Ray, Jpn. J. Appl. Phys., 47, 1501 (2008). 10.1143/JJAP.47.1501
18. A. Janotti and C. G. Van de Walle, Nat. Mater., 6, 44 (2007). 10.1038/nmat1795
19. S. Z. Karazhanov, E. S. Marstein, and A. Holt, J. Appl. Phys., 105, 33712 (2009). 10.1063/1.3074304
20. M. G. Wardle, J. P. Goss, and P. R. Briddon, Phys. Rev. Lett., 96, 205504 (2006). 10.1103/PhysRevLett.96.205504
21. J. Bang and K. J. Chang, Appl. Phys. Lett., 92, 132109 (2008). 10.1063/1.2906379
22. F. Oba, A. Togo, I. Tanaka, J. Paier, and G. Kresse, Phys. Rev. B, 77, 245202 (2008). 10.1103/PhysRevB.77.245202
23. M. D. McCluskey and S. J. Jokela, J. Appl. Phys., 106, 71101 (2009). 10.1063/1.3216464
24. T. Ong, L. Xu, T. A. van der Laan, S. Xu, and K. Ostrikov, Appl. Surf. Sci., 257, 9986 (2011). 10.1016/j.apsusc.2011.06.121
25. Y. R. Park, J. Kim, and Y. S. Kim, Appl. Surf. Sci., 255, 9010 (2009). 10.1016/j.apsusc.2009.06.083
26. D. Dimova-Malinovska, H. Nichev, O. Angelov, V. Grigorov, and M. Kamenova, Superlattices Microstruct., 42, 123 (2007). 10.1016/j.spmi.2007.04.025
27. W. W. Liu, B. Yao, Y. F. Li, B. H. Li, Z. Z. Zhang, C. X. Shan, D. X. Zhao, J. Y. Zhang, D. Z. Shen, and X. W. Fan, Thin Solid Films, 518, 3923 (2010). 10.1016/j.tsf.2009.12.099
28. O. Kappertz, R. Drese, and M. Wuttig, J. Vac. Sci. Technol. A, 20, 2084 (2002). 10.1116/1.1517997
29. B. C. Mohanty, Y. H. Jo, D. H. Yeon, I. J. Choi, and Y. S. Cho, Appl. Phys. Lett., 95, 62103 (2009). 10.1063/1.3202399
30. M. L. Addonizio, A. Antonaia, G. Cantele, and C. Privato, Thin Solid Films, 349, 93 (1999). 10.1016/S0040-6090(99)00186-8
31. J. Grym, Semiconductor Technologies, InTech (2010).
32. Z. Y. Zhang, C. G. Bao, W. J. Yao, S. Q. Ma, L. L. Zhang, and S. Z. Hou, Superlattices Microstruct., 49, 644 (2011). 10.1016/j.spmi.2011.04.002
33. M. J. Lee and Y. S. Yoon, Integr. Ferroelectr., 69, 431 (2005). 10.1080/10584580590899982
34. J. H. Lee, Curr. Appl. Phys., 10, S515 (2010). 10.1016/j.cap.2010.02.021
35. T. Minami, H. Sato, H. Imamoto, and S. Takata, Jpn. J. Appl. Phys., 31, L257 (1992). 10.1143/JJAP.31.L257
36. J. Hong, H. Paik, H. Hwang, S. Lee, A. J. deMello, and K. No, Phys. Status Solidi A, 206, 697 (2009). 10.1002/pssa.200824291
37. R. T. Wen, L. S. Wang, X. Wang, G. H. Yue, Y. Z. Chen, and D. L. Peng, J. Alloy. Compd., 508, 370 (2010). 10.1016/j.jallcom.2010.08.034
38. W. M. Kim, Y. H. Kim, J. S. Kim, J. Jeong, Y. J. Baik, J. K. Park, K. S. Lee, and T. Y. Seong, J. Phys. D: Appl. Phys., 43, 365406 (2010). 10.1088/0022-3727/43/36/365406
39. K. Ellmer and R. Mientus, Thin Solid Films, 516, 4620 (2008). 10.1016/j.tsf.2007.05.084
40. K. Ellmer, J. Phys. D: Appl. Phys., 34, 3097 (2001). 10.1088/0022-3727/ 34/21/301
41. A. V. Singh, R. M. Mehra, A. Yoshida, and A. Wakahara, J. Appl. Phys., 95, 3640 (2004). 10.1063/1.1667259
42. A. Bowen, J. Li, J. Lewis, K. Sivaramakrishnan, T. L. Alford, and S. Iyer, Thin Solid Films, 519, 1809 (2011). 10.1016/j.tsf.2010.10.019
43. Y. M. Chung, C. S. Moon, W. S. Jung, and J. G. Han, Thin Solid Films, 515, 567 (2006). 10.1016/j.tsf.2005.12.170
44. R. B. H. Tahar and N. B. H. Tahar, J. Appl. Phys., 92, 4498 (2002). 10.1063/1.1509083
45. W. J. Jeong and G. C. Park, Sol. Energ. Mat. Sol. C., 65, 37 (2001). 10.1016/S0927-0248(00)00075-1
46. J. G. Lu, S. Fujita, T. Kawaharamura, H. Nishinaka, Y. Kamada, Y. Ohshima, Z. Z. Ye, Y. J. Zeng, Y. Z. Zhang, L. P. Zhu, H. P. He, and B. H. Zhao, J. Appl. Phys., 101, 83705 (2007). 10.1063/1.2721374
47. C. E. Kim, P. Moon, S. Kim, J. M. Myoung, H. W. Jang, J. Bang, and I. Yun, Thin Solid Films, 518, 6304 (2010). 10.1016/j.tsf.2010.03.042
48. J. C. Nie, J. Y. Yang, Y. Piao, H. Li, Y. Sun, Q. M. Xue, C. M. Xiong, R. F. Dou, and Q. Y. Tu, Appl. Phys. Lett., 93, 173104 (2008). 10.1063/1.3010376