Volatility and high thermal stability in tantalum complexes containing imido, amidinate, and halide or dialkylamide ligands

Inorganic Chemistry

Volumn 48, Issue 12, 2009, Pages 5382-5391

  Wiedmann, Monika K ^a   Heeg, Mary Jane ^a   Winter, Charles H ^a  

^a WAYNE STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 67149102545     PISSN: 00201669     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ic900454g     Document Type: Article

References (99)

1. Chanehere, C., Autran, J. L.; Dcvme, R. A. B.; Balland, B. Mater. Sci. Eng. R 1998, 22, 269-322.
2. Yoon, D.-S.; Roh, J. S.; Baik, H. K.; Lee, S.-M. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2002, 27, 143-226.
3. (a) Janicki, V.; Sancho-Parramon, J.; Stcnzel, O.; Lappschies, M.; Gortz, B.; Rickers, C.; Polenzky, C.; Richter, U. Appl. Opt. 2007, 46, 6084-6091.
4. (b) Janicki, V.; Gäblcr, D.; Wilbrandt, S.; Lcitel, R.; Stcnzel, O.; Kaiser, N.; Lappschies, M.; Görtz, B.; Ristau, D.; Rickers, C.; Vergöhl, M. Appl. Opt. 2006, 45, 7851-7857.
5. (c) Koc, K.; Tepehan, F. Z.; Tepehan, G. G. J. Mater, Sci. 2005, 40, 1363-1366.
6. (a) Lahoz, F.; Shepherd, D. P.; Wilkinson, J. S.; Hassan, M. A. Opt. Commun. 2008, 281, 3691-3694.
7. (b) Schmitt, K.; Schirmer, B.; Hoffmann, C., Brandenburg, A.; Meyrueis, P. Biosens. Bioelectron. 2007, 22, 2591-2597.
8. (a) Tai, C.-Y.; Wu, J.-Y. J. Phys. D: Appl. Phys. 2008, 41, 065303.
9. (b) Ozer, N.; Lampert, C. M. J. Sol-Gel Sci. Technol. 1997, 8, 703-709.
10. Kwon, D.-H.; Cho, B.-W.; Kim, C.-S.; Sohn, B.-K. Sens. Actuators B 1996, 34, 441-445.
11. (a) Kimura, M. Sens. Actuators A 1996, 55, 7-11.
12. (b) Eranna, G.; Joshi, B. C., Runthala, D. P.; Gupta, R. P. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2004, 29, 111-188.
13. Gillies, M. F.; Kuiper, A. E. T.; van Zon, J. B. A.; Sturm, J. M. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 3496-3498.
14. Winter, C. H. Aldrichim. Acta 2000, 33, 3-12.
15. Singer. P. Semicond. Int. 2002, 25(5). 46-53.
16. Peters, L. Semicond. Int. 2003, 26(3). 50-54.
17. (a) Whittle, K. R.; Hyatt, N. C.; Rcaney, I. M. Chem. Mater. 2008, 20, 6427-6433.
18. (b) Condorelli, G. G.; Favazza, M.; Bedoya, C.; Baeri, A.; Anastasi, G.; Lo Nigro, R.; Menou, N.; Muller, C.; Lisoni, J. G.; Wouters, D.; Fragalà, I. L. Chem. Mater. 2006, 18, 1016-1022.
19. (c) Schumacher, M.; Lindner, J.; Baumann, P. K.; Schienle, F.; Solayappan, N.; Joshi, V.; Araujo, C. A.; McMillan, L. D. Mater. Sci. Semicond. Proc. 2003, 5, 85-91.
20. (d) Ramesh, R.; Aggarwal, S.; Auciello, O. Mater. Sci. Eng. R 2001, 32, 191-236.
21. (c) Paz, C. A.; Cuchiaro, J. D.; McMillan, L. D.; Scott, M. C.; Scott, J. F. Nature 1995, 374, 627-629.
22. (a) Lan, D.; Xiao, D.; Xu, Z.; Chen, Y.; Chen, Q.; Yue, X.; Zhu, J. J. Electroceram. 2008, 21, 621-624.
23. (b) Huang, Z.; Donohue, P. P.; Zhang, Q.; Williams, D.; Anthony, C. J.; Todd, M. A.; Whatmore, R. W. Integr. Ferroelectr. 2002, 45, 79-87.
24. (a) Pierson, H. O. Handbook of Chemical Vapor Deposition (CVD); Noyes Publications/William Andrew Publishing: Norwich, NY, 1999.
25. (b) Hitchman, M. L.; Jenson, K. F. Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications; Academic Press: London, 1993.
26. (a) Ritala, M.; Leskelä, M. In Handbook of Thin Film Materials; Nalwa, H. S., Ed.; Academic Press: San Diego, CA, 2002; Vol. 1, pp 103-159.
27. (b) Leskelä, M.; Ritala, M. Angew. Chem., Int Ed. 2003, 42, 5548-5554.
28. (c) Niinist, L.; Päiväsaari, J.; Niinist, J.; Putkonen, M.; Nieminen, M. Phys. Status Solidi A 2004, 201, 1443-1452.
29. (d) Putkonen, M.; Niinist, L. Top. Organomet. Chem. 2005, 9, 125-145.
30. (a) Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Electrochem, Soc. 1995, 142, 1670-1675.
31. (b) Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Siimon, H.; Ritala, M.; Leskelä, M. Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 236-242.
32. (c) Rahtu, A.; Kukli, K.; Ritala, M. Chem. Mater. 2001, 13, 817-823.
33. (d) Alén, P.; Vehkamäki, M.; Ritala, M.; Leskela, M. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, G304-G308.
34. (a) Hausmann, D. M.; de RoufGgnac, P.; Smith, A.; Gordon, R.; Monsma, D. Thin Solid Films 2003, 443, 1-4.
35. (b) Maeng, W. J.; Kim, H. Electrochem. Solid-State Lett. 2006, 9, G191-G194.
36. (c) Maena, W. J.; Park, S.-J.; Kim, H. J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 2276-2281.
37. (a) van der Straten, O.; Zhu, Y.; Dunn, K.; Eisenbraun, E. T.; Kaloyeros, A. E. J. Mater. Res. 2004, 19, 447-453.
38. (b) Burton, B. B.; Lavoie, A. R.": George, S. M. J. Electrochem. Soc. 2008, 155, D508-D516.
39. (c) Song, M.-K.; Rhee, S.-W. J. Electrochem. Soc. 2008, 155, H823-H828.
40. Dezelah, C. L. IV; Wiedmann, M. K.; Mizohata, K.; Baird, R. J.; Niinisto, L.; Winter, C. H. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 12370-12371.
41. (a) Hiltunen, L.; Leskelä, M.; Makelä, M.; Niinistö, L.; Nykänen, E.; Soinen, P. Thin Solid Films 1988, 166, 149-154.
42. (b) Fix, R.; Gordon, R.G.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 1993, 5, 614-619.
43. (c) Winter, C. H.; Jayaratne, K. C: Proscia, J. W. Mater. Res. Soc. Syp. Proc. 1994, 327, 103-108.
44. (d) Han, C.-H.; Cho, K.-N.; Oh, J.-E.; Pack, S.-H.; Park, C.-S.; Lee, S.-L.; Lee, M. Y.; Lee, J. G. Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, 2646-2651.
45. (e) Cho, K.-N.; Han, C.-H.; Noh, K.-B.; Oh, J.-E.; Paek, S.-H.; Park, C.-S.; Lee, S.-L.; Lee, M. Y.; Lee, J. G. Jpn. J. Appl. Phvs. 1998, 37, 6502-6505.
46. (f) Jun, G.-C.; Cho, S.-L.; Kim, K.-B.; Shin, H.-K.; Kim, D.-H. Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, L30-L32.
47. (g) Ritala, M.; Kalsi, P.; Riihelä, D.; Kukli, K.; Leskelä, M.; Jokinen, J. Chem. Mater. 1999, 11, 1712-1718.
48. (h) Kim, H.; Lavoie, C., Copel, M.; Narayanan, V.; Park, D.-G.; Rossnagel, S. M. J. Appl. Phys. 2004, 95, 5848-5855.
49. (i) Wu, Y. Y.; Kohn, A.; Eizenberg, M. J. Appt. Phys. 2004, 95, 6167-6174.
50. (j) Lchn, J.-S. M.; van der Heide, P.; Wang, Y.; Suh, S.; Hoffman, D. M. J. Mater. Chem. 2004, 14, 3239-3245.
51. (k) Kim, D.-K.; Kim, B.-H.; Woo, H.-G.; Kim, D.-H.; Shin, H. K. J. Nanosci. Nanotechnol. 2006, 6, 3392-3395.
52. (l) Chung, H.-S.; Kwon, J.-D.; Kang, S.-W. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, C751-C754.
53. x by ALD. see: Kim, H. J. Vac Sci. Technol. B 2003, 21, 2231-2261, and references therein.
54. For a review, see: Barker, J.; Kilner, M. Coord. Chem. Rev. 1994, 133, 219-300.
55. For recent selected examples, see: (a) Schmidt, J. A. R.; Arnold, J. Chem. Commun. 1999, 2149-2150.
56. (b) Foley, S. R.; Yap, G. P. A.; Richeson, D. S. Organometallies 1999, 18, 4700-4705.
57. (c) Foley, S. R.; Zhou, Y.; Yap, G. P. A.; Richeson, D. S. Inorg. Chem. 2000, 39, 924-929.
58. (d) Blais, P.; Chivcrs, T.; Downard, A.; Parvez, M. Can. J. Chem. 2000, 78, 10-15.
59. (e) Dagorne, S.; Guzei, I. A.; Coles, M. P.; Jordan, R. F. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 274-289.
60. (f) Lim, B. S.; Rahtu, A.; Park, J.-S.; Gordon, R. G. Inorg. Chem. 2003, 42, 7951-7958.
61. (g) Sadique, A. R.; Heeg, M. J.; Winter, C. H. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 7774-7775.
62. (a) Lim, B. S.; Rahtu, A.; Gordon, R. G. Nat. Mater. 2003, 2, 749-754.
63. (b) Päiväsaari, J.; Dezelah, C. L. IV; Back, D.; El-Kaderi, H. M.; Heeg, M. J.; Putkonen, M.; Niinistö, L.; Winter, C. H. J. Mater. Chem. 2005, 15, 4224-4233.
64. (c) de Rouffignac, P.; Park, J.-S.; Gordon, R. G. Chem. Mater. 2005, 17, 4808-4818.
65. (d) Li, Z.; Rahtu, A.; Gordon, R. G. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, C787-C794.
66. (e) de Rouffignac, P.; Yousef, A. P.; Kim, K. H.; Gordon, R. G. Electrochem. Mid State Lett. 2006, 9, F45-F48.
67. Baunemann, A.; Rische, D.; Milanov, A.; Kim, Y.; Winter, M.; Gemel, C.; Fischer, R. A. Dalton Trans. 2005. 3051-3055.
68. Baunemann, A.; Winter, M.; Csapek, K.; Gemel, C.; Fischer, R. A. Eur. J. Inorg. Chem. 2006, 4665-4672.
69. (a) Drew, M. G. B.; Wilkins, J. D. J. Chem. Soc, Dalton Trans. 1974, 1579-1582.
70. (b) Drew, M. G. B.; Wilkins, J. D. J. Chem. Soc, Dalton Trans. 1974, 1973-1977.
71. (c) Wilkins, J. D. J. Organomet. Chem. 1974, 80, 349-355.
72. (d) Drew, M. G. B.; Wilkins, J. D. J. Chem. Soc, Dalton Trans. 1975, 2611-2617.
73. (e) Drew, M. G. B.; Wilkins, J. D. Acta Crystallogr. 1975, B31, 177-182.
74. (f) Drew, M. G. B.; Wilkins, J. D. Acta Crystallogr. 1975, B31, 2642-2648.
75. (g) Leboeuf, J. F.; Leblanc, J. C., Moise. C. J. Organomet. Chem. 1987, 335, 331-337.
76. (h) Cotton, F. A.; Matonic, J. H.; Murillo, C. A.; Wang, X. Bill. Soc Chim. Fr. 1996, 133, 711-720.
77. (i) Cotton, F. A.; Daniels, L. M.; Murillo, C. A.; Wang, X. J. Am. Chem. Soc 1996, 118, 4830-4833.
78. (j) Cotton, F. A.; Daniels, L. M.; Murillo, C. A.; Wang, X. Inorg. Chem. 1997, 36, 896-901.
79. (k) Cotton, F. A.; Daniels, L. M.; Matonic, J. H.; Wang, X.; Murillo, C. A. Polyhedron 1997, 16, 1177-1191.
80. (l) Dawson, D. Y.; Arnold, J. Organometallics 1997, 16, 1111-1113.
81. (m) Decker, J. M.; Geib, S. J.; Meyer, T." Y. Organometallics 1999, 18, 4417-4420.
82. (n) Chen, C.-T.; Doerrer, L. H.; Williams, V. C., Green, M. L. H. Dalton Trans. 2000. 967-974.
83. (o) Chen, C.-T.; Rees, L. H.; Cowley, A. R.; Green, M. L. H. Dalton Trans. 2001, 1761-1767.
84. (p) Anderson, L. L.; Schmidt, J. A. R.; Arnold, J.; Bergman, R. G. Organometallics 2006, 25, 3394-3406.
85. (q) Epshteyn, A.; Zavalij, P. Y.; Sita, L. R. J. Am Chem. Soc. 2006, 128, 16052-16053.
86. (a) Wigley, D. E. Prog. Inorg. Chem. 1994, 42, 239-482.
87. (b) Bates, P. A.; Nielson, A. J.; Water, J. M. Polyhedron 1985, 4, 1391-1401.
88. McElwee-White, L. Dalton Trans. 2006, 5327-5333.
89. Bradley, D. C: Thomas, I. M. Can. J. Chem. 1962, 40, 1355-1360.
90. (a) Dezelah, C. L. IV; El-Kadri, O. M.; Szilágyi, I.; Campbell, J. M.; Arstila, K.; Niinistö. L.; Winter, C., H. J. Am, Chem. Soc. 2006, 128, 9638-9639.
91. (b) Dezelah, C. L. IV; El-Kadri, O. M.; Kukli, K.; Arstila, K.; Baird, R. J.; Lu, J.; Niinistö. L.; Winter, C. H. J. Mater. Chem. 2007, 17, 1109-1116.
92. Wiedmann, M. K.; Baird, R. J.; Winter, C. H., manuscript in preparation.
93. (a) Coles, M. P.; Swenson, D. C.; Jordan, R. F.; Young, V. G. Jr. Organometallics 1997, 16, 5183-5194.
94. (b) Simpson, R. D.; Marshall, W. J. Organometallks 1997, 16, 3719-3722.
95. Stubbert, B. D.; Stern, C. L.; Marks, T. J. Organometallks 2003, 22, 4836-4838.
96. Chiu, H.-T.; Chuana, S.-H.; Tsai, C.-E.; Lee, G.-H.; Pens, S.-M. Polyhedron 1998, 17, 2187-2190.
97. g N M R; Adept Scientific PLC: Amor Way. Letchworth. Herts. SG6 IZA. U.K., 2000.
98. APEX 1J collection and processing programs, distributed by the manufacturer; Bruker AXS Inc.; Madison WI, 2005.
99. Sheldrick, G. SHELX-97; University of Göttingcn: Göttingen, Germany, 1997.