Ohmic contacts to p -type GaN based on TaN, TiN, and ZrN

Applied Physics Letters

Volumn 90, Issue 21, 2007, Pages

  Voss, L F ^a   Stafford, L ^a   Khanna, R ^a   Gila, B P ^a   Abernathy, C R ^a   Pearton, S J ^a   Ren, F ^a   Kravchenko, I I ^b  

^a University of Florida   (United States)

^b NONE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING TEMPERATURES; CONTACT PROPERTIES; DEGREE OF INTERMIXING;

ANNEALING; CONTACT RESISTANCE; GALLIUM NITRIDE; METALLIZING; MORPHOLOGY; NICKEL COMPOUNDS; THERMODYNAMIC STABILITY;

OHMIC CONTACTS;

EID: 34249738082     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2742572     Document Type: Article

References (35)

1. M. Suzuki, T. Kawakami, T. Arai, S. Kobayashi, Yasuo Koide, T. Uemura, N. Shibata, and M. Murakami, Appl. Phys. Lett. 74, 275 (1999).
2. J. K. Kim, J.-L. Lee, J. W. Lee, H. Shin, Y. J. Park, and T. Kim, Appl. Phys. Lett. 73, 2953 (1998).
3. A. P. Zhang, B. Luo, J. W. Johnson, F. Ren, J. Han, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 79, 3636 (2001).
4. C.-S. Lee, Y.-J. Lin, and C.-T. Lee, Appl. Phys. Lett. 79, 3815 (2001).
5. T. Gessmann, Y.-L. Li, E. L. Waldron, J. W. Graff, E. F. Schubert, and J. K. Sheu, Appl. Phys. Lett. 80, 986 (2002).
6. H. W. Jang, W. Urbanek, M. C. Yoo, and J.-L. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 2937 (2002).
7. L. Zhou, W. Lanford, A. T. Ping, I. Adesida, J. W. Yang, and A. Khan, Appl. Phys. Lett. 76, 3451 (2000).
8. J.-S. Jang, I.-S. Chang, H.-K. Kim, T.-Y. Seong, S. Lee, and S.-J. Park, Appl. Phys. Lett. 74, 70 (1999).
9. C.-F. Chu, C. C. Yu, Y. K. Wang, J. Y. Tsai, F. I. Lai, and S. C. Wang, Appl. Phys. Lett. 77, 3423 (2000).
10. J. K. Sheu, Y. K. Su, G. C. Chi, P. L. Koh, M. J. Jou, C. M. Chang, C. C. Liu, and W. C. Hung, Appl. Phys. Lett. 74, 2340 (1999).
11. J.-O. Song, J. S. Kwak, Y. Park, and T.-Y. Seong, Appl. Phys. Lett. 86, 062104 (2005).
12. E.-J. Yang, D.-K. Hwang, J.-H. Yang, J.-Y. Oh, and S.-J. Park, Appl. Phys. Lett. 87, 042109 (2005).
13. T. Maeda, Y. Koide, and M. Murakami, Appl. Phys. Lett. 75, 4145 (1999).
14. J. Narayan, H. Wang, T.-H. Oh, H. K. Choi, and J. C. C. Fan, Appl. Phys. Lett. 81, 3978 (2002).
15. H. Tang, J. A. Bardwell, J. B. Webb, S. Rolfe, Y. Liu, S. Moisa, and I. Sproule, Appl. Phys. Lett. 82, 736 (2003).
16. Y.-J. Lin, Z.-D. Li, C.-W. Hsu, F.-T. Chien, C.-T. Lee, S.-T. Shao, and H.-C. Chang, Appl. Phys. Lett. 82, 2817 (2003).
17. J.-O. Song, D.-S. Leem, and T.-Y. Seong, Appl. Phys. Lett. 83, 3513 (2003).
18. Y.-L. Li, E. F. Schubert, J. W. Graff, A. Osinsky, and W. F. Schaff, Appl. Phys. Lett. 76, 2728 (2000).
19. K. Kumakura, T. Makimoto, and N. Kobayashi, Appl. Phys. Lett. 79, 2588 (2001).
20. C. Huh, S.-W. Kim, H.-M. Kim, D.-J. Kim, and S.-J. Park, Appl. Phys. Lett. 78, 1942 (2001).
21. H. W. Jang, K. H. Kim, J. K. Kim, S.-W. Hwang, J. J. Yang, K. J. Lee, S.-J. Son, and J.-L. Lee, Appl. Phys. Lett. 79, 1822 (2001).
22. J.-O. Song, D.-S. Leem, J. S. Kwak, S. N. Lee, O. H. Nam, Y. Park, and T.-Y. Seong, Appl. Phys. Lett. 84, 1504 (2004).
23. V. Adivarahan, A. Lunev, M. Asif Khan, J. Yang, G. Simin, M. S. Shur, and R. Gaska, Appl. Phys. Lett. 78, 2781 (2001).
24. G.-T. Chen, C.-C. Pan, C.-S. Fang, T.-C. Huang, J.-I. Chyi, M.-N. Chang, S.-B. Huang, and J.-T. Hsu, Appl. Phys. Lett. 85, 2797 (2004).
25. H. W. Jang and J.-L. Lee, Appl. Phys. Lett. 85, 5920 (2004).
26. J. Lim, D.-K. Hwang, H.-S. Kim, J.-Y. Oh, J.-H. Yang, R. Navamathavan, and S.-J. Park, Appl. Phys. Lett. 85, 6191 (2004).
27. H. Omiya, F. A. Ponce, H. Marui, S. Tanaka, and T. Mukai, Appl. Phys. Lett. 85, 6143 (2004).
28. J.-O. Song, J. S. Kwak, and T.-Y. Seong, Appl. Phys. Lett. 86, 062103 (2005).
29. X. A. Cao, S. J. Pearton, F. Ren, and J. R. Lothian, Appl. Phys. Lett. 73, 942 (1998).
30. L. Voss, R. Khanna, S. J. Pearton, F. Ren, and I. Kravchenko, Appl. Phys. Lett. 88, 012104 (2006).
31. L. Voss, R. Khanna, S. J. Pearton, F. Ren, and I. I. Kravchenko, Appl. Surf. Sci. 253, 1255 (2006).
32. S. M. Rossnagel and H. Kim, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2550 (2003).
33. Chang Seok Kang, H.-J. Cho, Y. H. Kim, R. Choi, K. Onishi, A. Shahriar, and J. C. Lee, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2026 (2003).
34. V. R. Reddy, Mater. Chem. Phys. 93, 286 (2005).
35. Binary Alloy Phase Diagrams, edited by, T. B. Massalski, (ASM International, Ohio, 1990) Vol. 7, pp. 71-73.