Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 23, Issue 6, 2005, Pages 2716-2720

  Kozawa, Takahiro ^a   Yamamoto, Hiroki ^a   Saeki, Akinori ^a   Tagawa, Seiichi ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMPLIFICATION; ELECTRON BEAMS; NEGATIVE IONS; PHOTOLITHOGRAPHY; PROTONS; SURFACE ROUGHNESS;

ANION DISTRIBUTION; ELECTRON BEAM RESISTS; LINE EDGE ROUGHNESS (LER); LINE WIDTH ROUGHNESS (LWR);

PHOTORESISTS;

EID: 29044442383     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2131875     Document Type: Article

References (46)

1. W. Hinsberg, F. A. Houle, J. Hoffnagle, M. Sanchez, G. Wallraff, M. Morrison, and S. Frank, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3689 (1998).
2. S. C. Palmateer, S. G. Cann, J. E. Curtin, S. P. Doran, L. M. Eriksen, A. R. Forte, R. R. Kunz, T. M. Lyszczarz, and M. B. Stern, Proc. SPIE 3333, 634 (1998).
3. G. W. Reynolds and J. W. Taylor, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 334 (1999).
4. J. Shin, G. Han, Y. Ma, K. Moloni, and F. Cerrina, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2890 (2001).
5. Y. Ma, G. Tsvid, and F. Cerrina, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 3124 (2003).
6. M. Kotera, T. Yamada, and Y. Ishida, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 4150 (2002).
7. L. H. A. Leunissen, M. Ercken, and G. P. Patsis, Microelectron. Eng. 78-79, 2 (2005).
8. H. Fedynyshyn, M. F. Cronin, and C. R. Szmanda, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 3380 (1991)
9. J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi, and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 30, 2619 (1991).
10. H. Fukuda, Jpn. J. Appl. Phys. 42, 3748 (2003).
11. D. He and F. Cerrina, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3748 (1998).
12. M. Yoshizawa and S. Moriya, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 1342 (2002).
13. E. K. Lin, C. L. Soles, D. L. Goldfarb, B. C. Trinque, S. D. Burns, R. L. Jones, J. L. Lenhart, M. Angelopoulos, C. G. Willson, S. K. Satija, and W. Wu, Science 297, 372 (2002).
14. T. Yamaguchi and H. Namatsu, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 1037 (2004).
15. S. Yasin, D. G. Hasko, M. N. Khalid, D. J. Weaver, and H. Ahmed, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 574 (2004).
16. G. M. Schmid, M. D. Smith, C. A. Mack, V. K. Singh, S. D. Burns, and C. G. Willson, Proc. SPIE 4345, 1037 (2001).
17. T. Yamaguchi, K. Yamazaki, M. Nagase, and H. Namatsu, Jpn. J. Appl. Phys. 42, 3755 (2003).
18. Y. Ma, J. Shin, and F. Cerrina, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 112 (2003).
19. S. Mori, T. Morisawa, N. Matsuzawa, Y. Kaimoto, M. Endo, T. Matsuo, K. Kuhara, and M. Sasago, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3739 (1998).
20. T. Yamaguchi, K. Yamazaki, and H. Namatsu, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 2604 (2004).
21. H. Shiraishi, T. Yoshimura, T. Sakamizu, T. Ueno, and S. Okazaki, J. Vac. Sci. Technol. 12, 3895 (1994).
22. T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto, and S. Okazaki, Appl. Phys. Lett. 63, 764 (1993).
23. T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto, and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys. 32, 6065 (1993).
24. T. Yamaguchi, H. Namatsu, M. Nagase, K. Yamazaki, and K. Kurihara, Appl. Phys. Lett. 71, 2388 (1997).
25. M. Ishida, K. Kobayashi, J. Fujita, Y. Ochiai, H. Yamamoto, and S. Tono, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 4228 (2002).
26. M. Yoshizawa, S. Moriya, H. Nakano, Y. Shirai, T. Morita, T. Kitagawa, and Y. Miyamoto, Jpn. J. Appl. Phys. 43, 3739 (2004).
27. S. Tagawa, S. Nagahara, T. Iwamoto, M. Wakita, T. Kozawa, Y. Yamamoto, D. Werst, and A. D. Trifunac, Proc. SPIE 3999, 204 (2000).
28. T. Kozawa, A. Saeki, A. Nakano, Y. Yoshida, and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 3149 (2003).
29. R. J. Hawryluk, A. M. Hawryluk, and H. I. Smith, J. Appl. Phys. 45, 2551 (1974).
30. K. Murata, D. F. Kyser, and C. H. Ting, J. Appl. Phys. 52, 4396 (1981).
31. M. Bohn, U. Hofmann, W. Hoppe, C. Progler, and M. Ryzhoukhin, Proc. SPIE 5256, 695 (2003).
32. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 4301 (1992).
33. T. Kozawa. A. Saeki, and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 3489 (2004).
34. A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 4213 (2002).
35. K. Okamoto, A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida, and S. Tagawa, Chem. Lett. 32, 834 (2003).
36. S. Tsuji, T. Kozawa, Y. Yamamoto, and S. Tagawa, J. Photopolym. Sci. Technol. 13, 733 (2000).
37. T. Kozawa and S. Tagawa, Proc. SPIE 5753, 361 (2005).
38. G. C. Abel and K. Funabashi, J. Chem. Phys. 58, 1079 (1973).
39. T. Goulet, I. Mattel, and J. P. Jay-Gerin, Can. J. Phys. 68, 912 (1990).
40. V. A. Rassolov and A. Mozumder, J. Phys. Chem. B B105, 1430 (2001).
41. L. Onsager, Phys. Rev. 54, 554 (1938).
42. T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 4208 (2002).
43. T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Nakano, A. Saeki, K. Okamoto, and S. Tagawa, J. Photopolym. Sci. Technol. 17, 449 (2004).
44. T. Kozawa, S. Nagahara, Y. Yoshida, and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 2582 (1997).
45. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Ando, M. Sato, H. Komano, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 43, L848 (2004).
46. A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 43, 4363 (2004).