Electron dynamics in chemically amplified resists

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 17, Issue 3, 2004, Pages 449-452

  Kozawa, Takahiro ^a   Yamamoto, Hiroki ^a   Nakano, Atsuko ^a   Saeki, Akinori ^a   Okamoto, Kazumasa ^a   Tagawa, Seiichi ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

Chemically amplified resist; Electron beam lithography; Electron dynamics

Indexed keywords

ANION; AROMATIC COMPOUND; BENZENE DERIVATIVE; POLY(4 HYDROXYSTYRENE); POLY(METHYL METHACRYLATE); POLYMER; PROTON; UNCLASSIFIED DRUG;

ACIDITY; ARTICLE; CHEMICAL REACTION; CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST; ELECTRON; ELECTRON BEAM; IONIZATION; IONIZING RADIATION; MOLECULAR DYNAMICS; RADIATION ENERGY; REACTION ANALYSIS;

EID: 3142514192     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.17.449     Document Type: Article

References (27)

1. H. G. Craighead, R. E. Howard, L. D. Jackel and P. M. Mankiewich, Appl. Phys. Lett. 42 (1983) 38; W. Chen and H. Ahmed, J. Vac. Sci. Technol. B11 (1993) 2519; S. Yashi, D. G. Hasko and H. Ahmed, Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 2760; D. R. S. Cumming, S. Thoms, S. P. Beaumont and J. M. R. Weaver, Appl. Phys. Lett. 68 (1996) 322.
2. H. G. Craighead, R. E. Howard, L. D. Jackel and P. M. Mankiewich, Appl. Phys. Lett. 42 (1983) 38; W. Chen and H. Ahmed, J. Vac. Sci. Technol. B11 (1993) 2519; S. Yashi, D. G. Hasko and H. Ahmed, Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 2760; D. R. S. Cumming, S. Thoms, S. P. Beaumont and J. M. R. Weaver, Appl. Phys. Lett. 68 (1996) 322.
3. H. G. Craighead, R. E. Howard, L. D. Jackel and P. M. Mankiewich, Appl. Phys. Lett. 42 (1983) 38; W. Chen and H. Ahmed, J. Vac. Sci. Technol. B11 (1993) 2519; S. Yashi, D. G. Hasko and H. Ahmed, Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 2760; D. R. S. Cumming, S. Thoms, S. P. Beaumont and J. M. R. Weaver, Appl. Phys. Lett. 68 (1996) 322.
4. H. G. Craighead, R. E. Howard, L. D. Jackel and P. M. Mankiewich, Appl. Phys. Lett. 42 (1983) 38; W. Chen and H. Ahmed, J. Vac. Sci. Technol. B11 (1993) 2519; S. Yashi, D. G. Hasko and H. Ahmed, Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 2760; D. R. S. Cumming, S. Thoms, S. P. Beaumont and J. M. R. Weaver, Appl. Phys. Lett. 68 (1996) 322.
5. R. Shimizu, T. Ikuta, T. E. Everhart and W. J. DeVore, J. Appl. Phys. 46 (1975) 1581; M. Khoury and D. K. Ferry, J. Vac. Sci. Technol. B14 (1996) 75; E. A. Dobisz, S. L. Brandow, R. Bass and J. Mitterender, J. Vac. Sci. Technol. B18 (2000) 107; D. G. Hasko, S. Yasin and A. Mumtaz, J. Vac. Sci. Technol. B18 (2000) 3441.
6. R. Shimizu, T. Ikuta, T. E. Everhart and W. J. DeVore, J. Appl. Phys. 46 (1975) 1581; M. Khoury and D. K. Ferry, J. Vac. Sci. Technol. B14 (1996) 75; E. A. Dobisz, S. L. Brandow, R. Bass and J. Mitterender, J. Vac. Sci. Technol. B18 (2000) 107; D. G. Hasko, S. Yasin and A. Mumtaz, J. Vac. Sci. Technol. B18 (2000) 3441.
7. R. Shimizu, T. Ikuta, T. E. Everhart and W. J. DeVore, J. Appl. Phys. 46 (1975) 1581; M. Khoury and D. K. Ferry, J. Vac. Sci. Technol. B14 (1996) 75; E. A. Dobisz, S. L. Brandow, R. Bass and J. Mitterender, J. Vac. Sci. Technol. B18 (2000) 107; D. G. Hasko, S. Yasin and A. Mumtaz, J. Vac. Sci. Technol. B18 (2000) 3441.
8. R. Shimizu, T. Ikuta, T. E. Everhart and W. J. DeVore, J. Appl. Phys. 46 (1975) 1581; M. Khoury and D. K. Ferry, J. Vac. Sci. Technol. B14 (1996) 75; E. A. Dobisz, S. L. Brandow, R. Bass and J. Mitterender, J. Vac. Sci. Technol. B18 (2000) 107; D. G. Hasko, S. Yasin and A. Mumtaz, J. Vac. Sci. Technol. B18 (2000) 3441.
9. H. Fedynyshyn, M. F. Cronin and C. R. Szmanda, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 3380; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 278; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 3132; J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 2619; T. Itani, H. Yoshino, M. Fujimoto and K. Kasama, J. Vac. Sci. Technol. B13 (1995) 3026; T. H. Fedynyshyn, J. W. Thackeray, J. H. George and M. D. Denison, J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3888; T. Yoshimura, H. Shiraishi and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6786.
10. H. Fedynyshyn, M. F. Cronin and C. R. Szmanda, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 3380; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 278; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 3132; J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 2619; T. Itani, H. Yoshino, M. Fujimoto and K. Kasama, J. Vac. Sci. Technol. B13 (1995) 3026; T. H. Fedynyshyn, J. W. Thackeray, J. H. George and M. D. Denison, J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3888; T. Yoshimura, H. Shiraishi and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6786.
11. H. Fedynyshyn, M. F. Cronin and C. R. Szmanda, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 3380; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 278; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 3132; J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 2619; T. Itani, H. Yoshino, M. Fujimoto and K. Kasama, J. Vac. Sci. Technol. B13 (1995) 3026; T. H. Fedynyshyn, J. W. Thackeray, J. H. George and M. D. Denison, J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3888; T. Yoshimura, H. Shiraishi and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6786.
12. H. Fedynyshyn, M. F. Cronin and C. R. Szmanda, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 3380; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 278; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 3132; J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 2619; T. Itani, H. Yoshino, M. Fujimoto and K. Kasama, J. Vac. Sci. Technol. B13 (1995) 3026; T. H. Fedynyshyn, J. W. Thackeray, J. H. George and M. D. Denison, J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3888; T. Yoshimura, H. Shiraishi and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6786.
13. H. Fedynyshyn, M. F. Cronin and C. R. Szmanda, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 3380; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 278; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 3132; J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 2619; T. Itani, H. Yoshino, M. Fujimoto and K. Kasama, J. Vac. Sci. Technol. B13 (1995) 3026; T. H. Fedynyshyn, J. W. Thackeray, J. H. George and M. D. Denison, J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3888; T. Yoshimura, H. Shiraishi and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6786.
14. H. Fedynyshyn, M. F. Cronin and C. R. Szmanda, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 3380; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 278; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 3132; J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 2619; T. Itani, H. Yoshino, M. Fujimoto and K. Kasama, J. Vac. Sci. Technol. B13 (1995) 3026; T. H. Fedynyshyn, J. W. Thackeray, J. H. George and M. D. Denison, J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3888; T. Yoshimura, H. Shiraishi and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6786.
15. H. Fedynyshyn, M. F. Cronin and C. R. Szmanda, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 3380; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 278; L. Schlegel, T. Ueno, N. Hayashi and T. Iwayanagi, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 3132; J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 2619; T. Itani, H. Yoshino, M. Fujimoto and K. Kasama, J. Vac. Sci. Technol. B13 (1995) 3026; T. H. Fedynyshyn, J. W. Thackeray, J. H. George and M. D. Denison, J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3888; T. Yoshimura, H. Shiraishi and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6786.
16. T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4208.
17. S. Tagawa, S. Nagahara, T. Iwamoto, M. Wakita, T. Kozawa, Y. Yamamoto, D. Werst and A. D. Trifunac, Proc. SPIE 3999 (2000) 204.
18. A. N. Broers: IBM J. Res. Dev. 32 (1988) 502.
19. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 4301; S. Tsuji, T. Kozawa, Y. Yamamoto and S. Tagawa, J. Photopolym. Sci. Technol. 13 (2000) 733.
20. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 4301; S. Tsuji, T. Kozawa, Y. Yamamoto and S. Tagawa, J. Photopolym. Sci. Technol. 13 (2000) 733.
21. Y. Yoshida, T. Ueda, T. Kobayashi, H. Shibata and S. Tagawa, Nucl. Instrum. Meth. A327 (1993) 41.
22. A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4213.
23. T. Kozawa, Y. Mizutani, M. Miki, T. Yamamoto, S. Suemine, Y. Yoshida and S. Tagawa, Nucl. Instrum. Meth. A440 (2000) 251.
24. A. Mozumder, J. Phys. Chem. A106 (2002) 7062; J. P. J. Gerin, T. Goulet and I. Billard, Can. J. Chem. 71 (1993) 287.
25. A. Mozumder, J. Phys. Chem. A106 (2002) 7062; J. P. J. Gerin, T. Goulet and I. Billard, Can. J. Chem. 71 (1993) 287.
26. K. Okamoto, A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida and S. Tagawa, Chem. Lett. 32 (2003) 834.
27. T. Kozawa, A. Saeki, A. Nakano, Y. Yoshida and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Teahnol. B21 (2003) 3149.