Evaluation and comparison of novel precursors for atomic layer deposition of Nb 2O 5 thin films

Chemistry of Materials

Volumn 24, Issue 6, 2012, Pages 975-980

  Blanquart, Timothee ^a   Niinistö, Jaakko ^a   Heikkilä, Mikko ^a   Sajavaara, Timo ^b   Kukli, Kaupo ^a   Puukilainen, Esa ^a   Xu, Chongying ^c   Hunks, William ^c   Ritala, Mikko ^a   Leskelä, Markku ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^b UNIVERSITY OF JYVÄSKYLÄ   (Finland)

^c ENTEGRIS INC   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AS-DEPOSITED STATE; ATOMIC FORCE MICROSCOPIES (AFM); CONSTANT GROWTH RATES; DEPOSITION TEMPERATURES; DIELECTRIC CHARACTERISTICS; ELASTIC RECOIL DETECTION ANALYSIS; GROWTH MODES; HIGH PURITY; NOVEL PRECURSORS; OXYGEN SOURCES; PERMITTIVITY VALUES; ROOM TEMPERATURE; TEMPERATURE REGIONS; TIME OF FLIGHT;

AMORPHOUS FILMS; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; NIOBIUM OXIDE; OZONE; THIN FILMS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84859129314     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm2026812     Document Type: Article

References (48)

1. Emmenegger, F.; Robinson, M. L. A. J. Phys. Chem. Solids 1968, 29, 1673
2. Jacob, S.; Schaper, L. W.; Benamara, M. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2009, 1158E
3. Cho, K.; Lee, J.; Lim, J.; Lim, H.; Lee, J.; Park, S.; Yoo, C.; Kim, S.; Chung, U.; Moon, J. Microelectron. Eng. 2005, 80, 317
4. Ma, D.; Park, S.; Seo, B.; Choi, S.; Lee, N.; Lee, J. J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 23, 80
5. Brazis, R.; Pipinys, P. J. Appl. Phys. 2003, 93, 10146
6. Braga, V. S.; Dias, J. A.; Dias, S. C. L.; de Macedo, J. L. Chem. Mater. 2005, 17, 690
7. Gao, X.; Wachs, I. E.; Wong, M. S.; Ying, J. Y. J. Catal. 2001, 203, 18
8. Martin, C.; Solana, G.; Malet, P.; Rives, V. Catal. Today 2003, 78, 365
9. Popovici, M.; Kim, M.; Tomida, K.; Swerts, J.; Tielens, H.; Moussa, A.; Richard, O.; Bender, H.; Franquet, A.; Conard, T.; Altimime, L.; Van Elshocht, S.; Kittl, J. A. Microelectron. Eng. 2011, 88, 1517
10. Menou, N.; Popovici, M.; Clima, S.; Opsomer, K.; Polspoel, W.; Kaczer, B.; Rampelberg, G.; Tomida, K.; Pawlak, M. A.; Detavernier, C.; Pierreux, D.; Swerts, J.; Maes, J. W.; Manger, D.; Badylevich, M.; Afanasiev, V.; Conard, T.; Favia, P.; Bender, H.; Brijs, B.; Vandervorst, W.; Van Elshocht, S.; Pourtois, G.; Wouters, D. J.; Biesemans, S.; Kittl, J. A. J. Appl. Phys. 2009, 106, 094101/1
11. Rosenfeld, D.; Sanjines, R.; Levy, F.; Buffat, P. A.; Demarne, V.; Grisel, A. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 135
12. Pignolet, A.; Rao, G. M.; Krupanidhi, S. B. Thin Solid Films 1995, 261, 18
13. Sim, H.; Choi, D.; Lee, D.; Hasan, M.; Samantaray, C. B.; Hwang, H. Microelectron. Eng. 2005, 80, 317
14. Romero, R.; Ramos-Barrado, J. R.; Martin, F.; Leinen, D. Surf. Interface Anal. 2004, 36, 888
15. Cho, N. H.; Kang, H. B.; Kim, Y. H. Ferroelectrics 1994, 152, 391
16. Yotsuya, T.; Chiba, H.; Furukawa, T.; Yamamoto, T.; Inaba, K.; Tada, K.; Suzuki, T.; Fujimoto, K.; Funakubo, H.; Yamakawa, T.; Oshima, N. ECS Trans. 2008, 16, 243
17. Leskelä, M.; Ritala, M. Thin Solid Films 2002, 409, 138
18. Ritala, M.; Niinistö, J. In Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications; Jones, A. C.; Hitchman, M. L., Eds.; Royal Society of Chemistry: Cambridge, 2008; pp 158-206.
19. Niinistö, J.; Kukli, K.; Heikkilä, M.; Ritala, M.; Leskelä, M. Adv. Eng. Mater. 2009, 11, 223
20. Niinistö, L. Proc. Est. Acad. Sci. Phys. Math. 2003, 52, 266
21. Aarik, J.; Kukli, K.; Aidla, A.; Pung, L. Appl. Surf. Sci. 1996, 103, 331
22. Hill, C. W.; Derderian, G. J.; Sandhu, G. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, G386
23. Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Forsgren, K.; Sundqvist, J.; Hårsta, A.; Uustare, T.; Maendar, H.; Kiisler, A. A. Chem. Mater. 2001, 13, 122
24. Lintanf-Salaün, A.; Mantoux, A.; Djurado, E.; Blanquet, E. Microelectron. Eng. 2010, 87, 373
25. Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Sajavaara, T.; Keinonen, J.; Gilmer, D.; Bagchi, S.; Prabhu, L. J. Non-Cryst. Solids 2002, 303, 35
26. Alen, P.; Vehkamäki, M.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, G304
27. Maeng, W. J.; Park, S.; Kim, H. J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 2276
28. Dezelah, C. L.; Wiedmann, M. K.; Mizohata, K.; Baird, R. J.; Niinistö, L.; Winter, C. H. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 12370
29. Hausmann, D. M.; de Rouffignac, P.; Smith, A.; Gordon, R.; Monsma, D. Thin Solid Films 2003, 443, 1
30. Wiedmann, M. K.; Karunarathne, M. C.; Baird, R. J.; Winter, C. H. Chem. Mater. 2010, 22, 4400
31. Wang, T.; Ekerdt, J. G. J. Electrochem. Soc. 2011, 158, G185
32. Burton, B. B.; Lavoie, A. R.; George, S. M. J. Electrochem. Soc. 2008, 155, D508
33. Ishizaka, T. U.S. Patent 20070218670, 2007.
34. Deloffre, E.; Wyon, C.; Gros-Jean, M. Proc. Electrochem. Soc. 2005, 2005-01, 510
35. Elers, K.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Rauhala, E. Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 468
36. Knapas, K.; Rahtu, A.; Ritala, M. Chem. Vap. Deposition 2009, 15, 269
37. Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Lappalainen, R. Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 29
38. Rooth, M.; Kukli, K.; Hårsta, A. Proc. Electrochem. Soc. 2005, 2005-09, 598
39. Blomberg, T.; Wenger, C.; Baristiran Kaynak, C.; Ruhl, G.; Baumann, P. Microelectron. Eng. 2011, 88, 2447
40. Hinz, J.; Bauer, A. J.; Thiede, T.; Fischer, R. A.; Frey, L. Semicond. Sci. Technol. 2010, 25, 045009/1
41. Ritala, M.; Leskelä, M. In Handbook of Thin Film Materials; Nalwa, H. S., Ed.; Academic Press: San Diego, 2001; Vol. 1, pp 103-159.
42. Romero, R.; Dalchiele, E. A.; Martín, F.; Leinen, D.; Ramos-Barrado, J. R. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2009, 93, 222
43. Kumagai, N.; Tanno, K.; Nakajima, T.; Watanabe, N. Electrochim. Acta 1983, 28, 17
44. Masse, J. P.; Szymanowski, H.; Zabeida, O.; Amassian, A.; Klemberg-Sapieha, J. E.; Martinu, L. Thin Solid Films 2006, 515, 1674
45. Ramírez, G.; Rodil, S. E.; Muhl, S.; Turcio-Ortega, D.; Olaya, J. J.; Rivera, M.; Camps, E.; Escobar-Alarcón, L. J. Non-Cryst. Solids 2010, 2714
46. Patil, P. S.; Patil, A. R.; Mujawar, S. H.; Sadale, S. B. J. Mater. Sci. 2005, 16, 35
47. Venkataraj, S.; Drese, R.; Liesch, C.; Kappertz, O.; Jayavel, R.; Wuttig, M. J. Appl. Phys. 2002, 91, 4863
48. Logacheva, V. A.; Divakova, N. A.; Tikhonova, Y. A.; Dolgopolova, E. A.; Khoviv, A. M. Inorg. Mater. 2007, 43, 1230