Tunable nanosynthesis of composite materials by electron-impact reaction

Angewandte Chemie - International Edition

Volumn 49, Issue 47, 2010, Pages 8880-8884

  Bernau, Laurent ^a   Gabureac, Mihai ^a   Erni, Rolf ^a   Utke, Ivo ^a  

^a SWISS FEDERAL LABORATORIES FOR MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Switzerland)

Author keywords

adsorption; cobalt; electron microscopy; nanotechnology; surface chemistry

Indexed keywords

ADSORBATE SYSTEMS; DISSOCIATION REACTIONS; ELECTRON IMPACT DISSOCIATION; ELECTRON-IMPACT; EXPOSURE CONDITIONS; IMPACT FACTOR; PULSE PERIOD; PULSED ELECTRON;

ADSORBATES; ADSORPTION; CAPILLARITY; COBALT; DISSOCIATION; NANOTECHNOLOGY; SURFACE CHEMISTRY;

ELECTRONS;

EID: 78449246634     PISSN: 14337851     EISSN: 15213773     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/anie.201004220     Document Type: Article

References (40)

1. K. E. Gonsalves, L. Merhari, H. Wu, Y. Hu, Adv. Mater. 2001, 13, 703 - 714.
2. A. Turchanin, A. Beyer, C. T. Nottbohm, X. Zhang, R. Stosch, A. Sologubenko, J. Mayer, P. Hinze, T. Weimann, A. Gölzhäuser, Adv. Mater. 2009, 21, 1233 - 1237
3. T. R. Bedson, R. E. Palmer, J. P. Wilcoxon, Microelectron. Eng. 2001, 57-58, 837 - 841
4. E. U. Donev, J. T. Hastings, Nano Lett. 2009, 9, 2715 - 2718.
5. I. Utke, A. Gölzhäuser. Angew. Chem. 2010. DOI: 10.1002/ange.201002677.
6. I. Utke, A. Gölzhäuser, Angew. Chem. 2010, DOI:; Angew. Chem. Int. Ed. 2010, DOI
7. I. Utke, P. Hoffmann, J. Melngailis, J. Vac. Sci. Technol. B 2008, 26, 1197
8. W. van Dorp, J. Appl. Phys. 2008, 104, 081301
9. S. J. Randolph, J. D. Fowlkes, P. D. Rack, Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2006, 31, 55
10. A. Botman, J. J. L. Mulders, C. W. Hagen, Nanotechnology 2009, 20, 372001.
11. S. Graells, S. Acimovic, G. Volpe, R. Quidant, Plasmonics 2010, 5, 135 - 139
12. H. W. P. Koops, O. E. Hoinkis, M. E. W. Honsberg, R. Schmidt, R. Blum, G. Böttger, A. Kuligk, C. Liguda, M. Eich, Microelectron. Eng. 2001, 57-58, 995 - 1001.
13. K. Murakami, M. Takai, J. Vac. Sci. Technol. B 2004, 22, 1266 - 1268
14. T. Brintlinger, M. S. Fuhrer, J. Melngailis, I. Utke, T. Bret, A. Perentes, P. Hoffmann, M. Abourida, P. Doppelt, J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 23, 3174 - 3177
15. M. Gabureac, L. Bernau, I. Utke, G. Boero, Nanotechnology 2010, 21, 115503
16. A. Fernández-Pacheco, J. M. de Teresa, R. Cordoba, M. R. Ibarra, D. Petit, D. E. Read, L. O'Brien, E. R. Lewis, H. T. Zeng, R. P. Cowburn, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 192509
17. M. Huth, D. Klingenberger, C. Grimm, F. Porrati, R. Sachser, New J. Phys. 2009, 11, 033032
18. G. C. Gazzadi, S. Frabboni, J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 23, L1 - L3.
19. V. Friedli, I. Utke, K. Molhave, J. Michler, Nanotechnology 2009, 20, 385304
20. W. Ding, L. Calabri, X. Chen, K. M. Kohlhaas, R. S. Ruoff, Compos. Sci. Technol. 2006, 66, 1112 - 1124
21. S. Okada, T. Mukawa, R. Kobayashi, M. Ishida, Y. Ochiai, T. Kaito, S. Matsui, J.I Fujita, Jpn. J. Appl. Phys. 2006, 45, 5556 - 5559.
22. R. Sharma, E. Moore, P. Rez, M. M. J. Treacy, Nano Lett. 2009, 9, 689 - 694
23. Y. M. Lau, P. C. Chee, J. T. L. Thong, V. Ng, J. Vac. Sci. Technol. A 2002, 20, 1295 - 1302.
24. A. J. M. Mackus, J. J. L. Mulders, M. C. M. Van De Sanden, W. M. M. Kessels, J. Appl. Phys. 2010, 107, 116102.
25. H. Miyazoe, I. Utke, J. Michler, K. Terashima, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 043124.
26. R. C. Che, M. Takeguchi, M. Shimojo, W. Zhang, K. Furuya, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 223109.
27. T. Lukasczyk, M. Schirmer, H. P. Steinruck, H. Marbach, Small 2008, 4, 841
28. J. D. Wnuk, J. M. Gorham, S. G. Rosenberg, W. F. van Dorp, T. E. Madey, C. W. Hagen, D. H. Fairbrother, J. Appl. Phys. 2010, 107, 054301
29. M. W. Walz, M. Schirmer, F. Vollnhals, T. Lukasczyk, H. P. Steinruck, H. Marbach, Angew. Chem. 2010, 122, 4774 - 4778
30. Angew. Chem. Int. Ed. 2010, 49, 4669 - 4673.
31. C. J. Lobo, M. Toth, R. Wagner, B. L. Thiel, M. Lysaght, Nanotechnology 2008, 19, 025303
32. M. Toth, C. J. Lobo, G. Hartigan, W. R. Knowles, J. Appl. Phys. 2007, 101, 054309.
33. A. Perentes, G. Sinicco, G. Boero, B. Dwir, P. Hoffmann, J. Vac. Sci. Technol. B 2007, 25, 2228 - 2232.
34. V. Friedli, I. Utke, J. Phys. D 2009, 42, 125305.
35. L. G. Christophorou, J. K. Olthoff, Fundamental Electron Interactions with Plasma Processing Gases, Kluwer Academic, New York, 2004
36. J. D. Wnuk, J. M. Gorham, S. G. Rosenberg, W. F. van Dorp, T. E. Madey, C. W. Hagen, D. H. Fairbrother, J. Phys. Chem. C 2009, 113, 2487 - 2496.
37. A. Fernández-Pacheco, J. M. de Teresa, R. Cordoba, M. R. Ibarra, J. Phys. D 2009, 42, 055005
38. R. Córdoba, J. Sese, J. M. de Teresa, M. R. Ibarra, Microelectron. Eng. 2010, 87, 1550 - 1553.
39. T. Bret, S. Mauron, I. Utke, P. Hoffmann, Microelectron. Eng. 2005, 78-79, 300 - 306.
40. I. Utke, V. Friedli, M. Purrucker, J. Michler, J. Vac. Sci. Technol. B 2007, 25, 2219 - 2223.