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Applied Surface Science

Volumn 254, Issue 16, 2008, Pages 5211-5215

RF-sputtered CrB2 diffusion barrier for Ni/Au Ohmic contacts on p-CuCrO2

(7) Lim, W T a Sadik, P W a Norton, D P a Gila, B P a Pearton, S J a Kravchenko, I I b Ren, F a

a J Crayton Pruitt Family Department of Biomedical Engineering (United States)

b University of Florida (United States)

Author keywords

CuCrO2; Ohmic contacts

Indexed keywords

ANNEALING; AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; CHROMIUM COMPOUNDS; CONTACT RESISTANCE; COPPER COMPOUNDS; DEPTH PROFILING; OHMIC CONTACTS;

ANNEALING TEMPERATURE; CONTACT STACKS;

DIFFUSION BARRIERS;

EID: 43049167408 PISSN: 01694332 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1016/j.apsusc.2008.02.028 Document Type: Article

Times cited : (2)

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