Radical-surface interactions during film deposition: A sticky situation?

Pure and Applied Chemistry

Volumn 78, Issue 6, 2006, Pages 1187-1202

  Liu, Dongping ^a   Martin, Ina T ^a   Zhou, Jie ^a   Fisher, Ellen R ^a  

^a Department of Ecosystem Science and Sustainability   (United States)

Author keywords

LIF; PECVD; Radicals; Surface reactivity

Indexed keywords

EID: 33745713620     PISSN: 00334545     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1351/pac200678061187     Document Type: Conference Paper

References (62)

1. J. C. Angus, P. Koidl, S. Domitz. In Plasma Deposited Thin Films, J. Mort, F. Jansen (Eds.), p. 89, CRC, Boca Raton, FL (1986).
2. J. Robertson. Surf. Coat. Technol. 50, 185 (1992).
3. H. Cachet, C. Deslouis, M. Chouiki, B. Saidani, N. M. J. Conway, C. Godet. J. Electrochem. Soc. 149, E233 (2002).
4. J. H. Kim, D. H. Ahn, Y. H. Kim, H. K. Baik. J. Appl. Phys. 82, 658 (1997).
5. D. J. Balazs, C. Hollenstein, H. J. Mathieu. Plasma Process. Polym. 2, 14 (2005).
6. R. d'Agostino, F. Cramarossa, F. Fracassi, F. Illuzzi. In Plasma Deposition, Treatment and Etching of Polymers, R. d'Agostino (Ed.), pp. 95-162, Academic Press, San Diego (1990).
7. M. Haidopoulous, S. Turgeon, G. Laroche, D. Mantovani. Plasma Process. Polym. 2, 441 (2005).
8. W. Beyer, R. Carius, M. Lejeune, J. Muller, B. Rech, U. Zastrow. J. Non-Crvst. Solids 338-340, 147 (2004).
9. Y. Hamakawa, W. Ma, H. Okamoto. In Plasma Deposition of Amorphous Silicon-Based Materials, G. Bruno, P. Cappezzuto, M. Madan (Eds.), pp. 283-314, Academic Press, San Diego (1995).
10. S. Jung, Y. Fujimura, T. Ito, H. Shirai. Solar Energy Mater. Solar Cells 74, 421 (2002).
11. G. Herzberg. The Spectra and Structures of Simple Free Radicals, Cornell University, Ithaca, NY (1971).
12. M. W. Kiehlbauch, D. B. Graves. J. Vac. Sci. Technol., A 21, 116 (2003).
13. J. Yun, D. S. Dandy. Diamond Relat. Mater. 14, 1432 (2005).
14. A. von Keudell, M. Meier, T. Schwarz-Selinger. Appl. Phys. A 72, 551 (2001).
15. A. von Keudell, M. Meier, T. Schwarz-Selinger, W. Jacob. J. Appl. Phys. 89, 2979 (2001).
16. A. Kono, N. Koike, H. Nomura, T. Goto. Jpn. J. Appl. Phys. 34, 307 (1995).
17. P. A. Longeway, H. A. Weakliem, R. D. Estes. J. Phys. Chem. 88, 3282 (1984).
18. T. Shirafuji, K. Tachibana, Y. Matsui. Jpn. J. Appl. Phys. 34, 4239 (1995).
19. A. Kono, S. Hirose, K. Kinoshita, T. Goto. Jpn. J. Appl. Phys. 37, 4588 (1998).
20. M. Horie. J. Vac. Sci. Technol., A 13, 2490 (1995).
21. S. J. Limb, C. B. Labelle, K. K. Gleason, D. J. Gleason. Appl. Phys. Lett. 68, 2810 (1996).
22. A. Milella, F. Palumbo, P. Favia, G. Cicala, R. d'Agostino. Pure Appl. Chem. 77, 399 (2005).
23. M. Hertl, J. Jolly. J. Phys. D: Appl. Phys. 33, 381 (2000).
24. J. Perrin, M. Shiratani, P. Kae-Nune, H. Videlot, J. Jolly, J. Guillon. J. Vac. Sci. Technol., A 16, 278 (1998).
25. J. P. Booth. Plasma Sources Sci. Technol. 8, 249 (2000).
26. M. Shiratani, H. Kawasaki, T. Fukuzawa, Y. Watanabe, Y. Yammamoto, M. Suganuma, M. Hori, T. Goto. J. Phys. D: Appl. Phys. 31, 776 (1998).
27. E. R. Fisher. Plasma Process. Polym. 1, 13 (2004).
28. E. R. Fisher. Plasma Sources Sci. Technol. 11, A105 (2002).
29. W. Hack, K. Rathmann. J. Phys. Chem. 94, 3636 (1990).
30. W. Hack, A. Wilms. J. Phys. Chem. 93, 3540 (1989).
31. P. R. McCurdy, K. H. A. Bogart, N. F. Dalleska, E. R. Fisher. Rev. Sci. Instrum. 68, 1684 (1997).
32. K. H. A. Bogart, J. P. Cushing, E. R. Fisher. J. Phys. Chem. B 101, 10016 (1997).
33. K. H. Becker, H. H. Brenig, T. Tatarczyk. Chem. Phys. Lett. 71, 242 (1980).
34. P. W. Fairchild, G. P. Smith, D. R. Crosley, J. B. Jeffries. Chem. Phys. Lett. 107, 181 (1984).
35. E. R. Fisher, P. Ho, W. G. Breiland, R. J. Buss. J. Phys. Chem. 96, 9855 (1992).
36. J. B. Halpern, G. Hancock, M. Lenzi, K. H. Welge. J. Chem. Phys. 63, 4808 (1975).
37. K. A. Mohamed, G. C. King, F. H. Read. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 12, 229 (1977).
38. D. S. King, P. K. Schenck, J. C. Stephenson. J. Mol. Spectrosc. 78, 1 (1979).
39. R. C. Sausa. A. M. Ronn. Chem. Phys. 96, 183 (1985).
40. I. T. Martin, E. R. Fisher. J. Vac. Sci Technol., A 22, 2168 (2004).
41. I. T. Martin, J. Zhou, E. R. Fisher. J. Vac. Sci. Technol., A (2006). In press.
42. J. Zhou. Ph.D. thesis. Colorado State University (2006).
43. J. Zhou, R. Ayers, E. Adams, I. T. Martin, D. Liu, E. R. Fisher. Plasma Sources Sci. Technol. (2006). Submitted for publication.
44. W. M. M. Kessels, P. R. McCurdy, K. L. Williams, G. R. Barker, V. A. Venturo, E. R. Fisher. J. Phys. Chem. B 106, 2680 (2002).
45. G. Lombardi, K. Hassouni, F. Benedic, F. Mohasseb, J. Ropcke, A. Gicquel. J. Appl. Phys. 96, 6739 (2004).
46. th International Symposium on Plasma Chemistry, Toronto, Canada, August 7-12 (2005), 1D13.
47. D. Liu, I. T. Martin, J. Zhou, E. R. Fisher. (2006). Manuscript in preparation
48. K. L. Williams, I. T. Martin, E. R. Fisher. J. Am. Soc. Mass. Spectrom. 13, 518 (2002).
49. I. T. Martin. Ph.D. thesis, Colorado State University (2005).
50. M. L. Steen, K. R. Kull, E. R. Fisher. J. Appl. Phys. 92, 55 (2002).
51. C. I. Butoi, M. L. Steen, J. R. D. Peers, E. R. Fisher. J. Phys. Chem. B 105, 5957 (2001).
52. P. R. McCurdy, C. I. Butoi, K. L. Williams, E. R. Fisher. J. Phys. Chem. B 103, 6919 (1999).
53. D. Liu, J. Zhou, I. T. Martin, E. R. Fisher. J. Appl. Phys. (2006). Manuscript in preparation.
54. K. L. Williams, C. I. Butoi, E. R. Fisher. J. Vac. Sci. Technol., A 21, 1688 (2003).
55. J. Zhang, E. R. Fisher. J. Appl. Phys. 96, 1094 (2004).
56. J. Zhang, E. R. Fisher. J. Phys. Chem. B 108, 9821 (2004).
57. J. Olah, F. De Proft, T. Veszpremi, P. Geerlings. J. Phys. Chem. A 109, 1608 (2005).
58. P. Perez. J. Phys. Chem. A 107, 522 (2003).
59. S. K. Shin, W. A. Goddard III, J. L. Beauchamp. J. Phys. Chem. 94, 6963 (1990).
60. G. P. Kota, D. B. Graves, J. W. Coburn. J. Vac. Sci. Technol., A 16, 270 (1998).
61. F. Seitz, D. Turnbull. Solid State Phys. 2, 305 (1956).
62. W. Bauer, K. H. Becker, R. Duren, C. Hubrich, R. Meuser. Chem. Phys. Lett. 108, 560 (1984).