Recent advances in chemical vapor deposition

Current Organic Chemistry

Volumn 10, Issue 9, 2006, Pages 1021-1033

  Fahlman, Bradley D ^a  

^a CENTRAL MICHIGAN UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

Aforementioned precursors; Atomic layer deposition (ALD); Metal cyclopentadienyl complexes; Self assembled monolayers (SAMs); Silicon thin films; Sol gel (S G) techniques

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITION; FILM GROWTH; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS; SILICON; SOL-GELS; THIN FILMS; YARN;

AFOREMENTIONED PRECURSOR; ATOMIC LAYER DEPOSITION; ATOMIC-LAYER DEPOSITION; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PRECURSORS; CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION; CYCLOPENTADIENYL COMPLEXES; METAL CYCLOPENTADIENYL COMPLEX; SELF-ASSEMBLED MONOLAYER; SILICON THIN FILM; SOL-GEL TECHNIQUE;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

KETONE DERIVATIVE; METAL COMPLEX; NANOPARTICLE; ORGANOMETALLIC COMPOUND;

CHEMICAL REACTION; CHEMICAL STRUCTURE; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; FILM; METHODOLOGY; REVIEW; SOLID STATE; STRUCTURE ANALYSIS; TECHNIQUE;

EID: 33744758317     PISSN: 13852728     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2174/138527206777435481     Document Type: Review

References (165)

1. Blank, E. Semiconductors and Semimetals 2003, 76, 49.
2. b) Amaral, M.; Oliveira, F. J.; Belmonte, M.; Fernandes, A. J. S.; Costa, F. M.; Silva, R. F. Surface Engineering 2003, 19, 410.
3. c) Chang, C.; Liao, Y.; Wang, G. Z.; Ma, Y. R.; Fang, R. C. Cryst. Growth Technol. 2003, 93.
4. d) Ronning, C. Appl. Phys. A 2003, 77, 39.
5. e) Carlisle, J. A.; Auciello, O. Electrochem. Soc. Interface 2003, 12, 28.
6. f) Nebel, C. E. Semiconductor Science and Technology 2003, 18, S1.
7. g) Butler, J. E. Electrochem. Soc. Interface 2003, 12, 22.
8. h) Bergonzo, P.; Tromson, D.; Mer, C. Semiconductor Science and Technology 2003, 18, S105.
9. i) Marinkovic, S. N. Chem. Phys. Carbon 2004, 29, 71.
10. j) Nesladek, M. Semiconductor Science and Technology 2005, 20, R19.
11. k) Spitsyn, B. V. NATO Science Series, II: Mathematics, Physics and Chemistry 2004, 155, 123-136.
12. l) Ralchenko, V.; Vlasov, I.; Frolov, V.; Sovyk, D.; Karabutov, A.; Gogolinsky, K.; Yunkin, V. NATO Science Series, II: Mathematics, Physics and Chemistry (2004), 155, 209.
13. m) Adam, W.; Berdermann, E.; Bergonzo, P.; de Boer, W.; Bogani, F.; Borchi, E.; Brambilla, A.; Bruzzi, M.; Colledani, C.; Conway, J.; D'Angelo, P.; Dabrowski, W.; Delpierre, P.; Dulinski, W.; Doroshenko, J.; van Eijk, B.; Fallou, A.; Fischer, P.; Fizzotti, F.; Furetta, C.; Gan, K. K.; Ghodbane, N.; Grigoriev, E.; Hallewell, G.; Han, S.; Hartjes, F.; Hrubec, J.; Husson, D.; Kagan, H.; Kaplon, J.; Kass, R.; Keil, M.; Knoepfle, K. T.; Koeth, T.; Krammer, M.; Logiudice, A.; Lu, R.; Mac Lynne, L.; Manfredotti, C.; Meier, D.; Menichelli, D.; Meuser, S.; Mishina, M.; Moroni, L.; Noomen, J.; Oh, A.; Pernicka, M.; Perera, L.; Potenza, R.; Riester, J. L.; Roe, S.; Rudge, A.; Sala, S.; Sampietro, M.; Schnetzer, S.; Sciortino, S.; Stelzer, H.; Stone, R.; Sutera, C.; Trischuk, W.; Tromson, D.; Tuve, C.; Vincenzo, B.; Weilhammer, P.; Wermes, N.; Wetstein, M.; Zeuner, W.; Zoeller, M. Eur. Phys. J. C 2004, 33, 1014.
14. Geng, J.; Johnson, B. F. G. Nanotechnol. Catalysis 2004, 1, 159.
15. b) Zheng, B.; Liu, J. Chem. Nanostructured Mater. 2003, 101.
16. c) Maruyama, S.; Murakami, Y.; Shibuta, Y.; Miyauchi, Y.; Chiashi, S. J. Nanoscience Technol. 2004, 4, 360.
17. d) Gavillet, J.; Thibault, J.; Stephan, O.; Amara, H.; Loiseau, A.; Bichara, Ch.; Gaspard, J. -P.; Ducastelle, F. J. Nanoscience Technol. 2004, 4, 346.
18. e) Hayashi, T.; Dresselhaus, M. S. New Diamond and Frontier Carbon Technol. 2004, 14, 1.
19. f) Liu, X.; Lee, C.; Han, S.; Li, C.; Zhou, C. Mol. Nanoelectronics 2003, 179.
20. g) Moisala, A.; Nasibulin, A. G.; Kauppinen, E. I. J. Physics B 2003, 15, S3011.
21. h) Hernadi, K.; Couteau, E.; Umek, P.; Miko, C.; Seo, J. W.; Forro, L.; Croci, M.; Klinke, C.; Chauvin, P.; Bonard, J. M. Chimia 2003, 56, 547.
22. i) Vajtai, R.; Wei, B. Q.; Zhang, Z. J.; Jung, Y.; Ramanath, G.; Ajayan, P. M. Smart Mater. Struct. 2002, 11, 691.
23. j) Wei, B. Q.; Vajtai, R.; Zhang, Z. J.; Ward, J. W.; George, T. F.; Ramanath, G.; Ajayan, P. M. Mod. Topics Chem. Phys. 2002, 125.
24. k) Ye, X.; Wai, C. M. J. Chem. Ed. 2003, 80, 198.
25. l) Gao, Y. In Handbook of Nanophase and Nanostructured Materials; Wang, Z. L.; Liu, Y.; Zhang, Z., Ed.; Kluwer: New York, 2003, 102-144.
26. m) Ando, Y.; Zhao, X; Sugai, T.; Kumar, M. Materials Today 2004, 7, 22.
27. n) Melechko, A. V.; Merkulov, V. I.; McKnight, T. E.; Guillorn, M. A.; Klein, K. L.; Lowndes, D. H.; Simpson, M. L. J. Appl. Phys. 2005, 97, 41301.
28. Nasibulin, A. G.; Shurygina, L. I.; Kauppinen, E. I. Colloid Journal 2005, 67, 1 and references therein.
29. b) Suzuki, K.; Kijima, K. Jap. Jour. Appl. Phys. 2005, 44, 2081.
30. c) Chen, R. S.; Huang, Y. S.; Liang, Y. M.; Tsai, D. S.; Tiong, K. K. J. Alloys Compounds 2004, 383, 273.
31. d) Wang, Y. Q.; Chen, J. H.; Yoo, W. J.; Yeo, Y-C. Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 2005, 830, 269.
32. Rakesh, L.; Hough, R.; Fahlman, B. D., manuscript in preparation.
33. For example, http://www.tystar.com/additional_3.htm
34. Dai, H. J.; Rinzler, A. G.; Nikolaev, P.; Thess, A.; Colbert, D. T.; Smalley, R. E. Chem. Phys. Lett. 1996, 260, 471.
35. b) Kong, J.; Cassell, A. M.; Dai, H. Chem. Phys. Lett. 1998, 292, 567
36. http://www.nanoonline.net/nanotubesuppliers.htm
37. For recent examples, see: a) Geng, J.; Li, H.; Golovko, V. B.; Shephard, D. S.; Jefferson, D. A.; Johnson, B. F. G.; Hofmann, S.; Kleinsorge, B.; Robertson, J.; Ducati, C. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 18446.
38. b) Li, Y.; Mann, D.; Rolandi, M.; Kim, W.; Ural, A.; Hung, S.; Javey, A.; Can, J.; Wang, D.; Yenilmez, E.; Wang, Q.; Gibbons, J. F.; Nishi, Y.; Dai, H. Nano Lett. 2004, 4, 317.
39. For a recent description, see: Zhu, Z.; Chen, T.-L.; Go, Y.; Warren, J.; Osgood, R. M. Chem. Mater. 2005, 17, 4227.
40. Raty, J. -Y.; Gygi, F.; Galli, G. Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 096103.
41. Povolny, H. S.; Deng, X. Thin Solid Films 2003, 430, 125.
42. Schropp, R. E. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, 762, 479.
43. b Schropp, R. E. Thin Solid Films 2004, 451, 455.
44. c Lau, K. K. S.; Murthy, S. K.; Lewis, H. G.; Pryce, C.; Jeffrey, A.; Gleason, K. K. J. Fluorine Chem. 2003, 122, 93.
45. d Mahan, A. H. Solar Energy Materials and Solar Cells 2003, 78, 299.
46. e Stannowski, B.; Rath, J. K.; Schropp, R. E. Thin Solid Films 2003, 430, 220.
47. f Schroeder, B. Thin Solid Films 2003, 430, 1.
48. g Duan, H. L.; Zaharias, G. A.; Bent, S. E. Curr. Opin. Solid State Mater. Sci. 2002, 6, 471.
49. h Masuda, A.; Izumi, A.; Umemoto, H.; Matsumura, H. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2002, 715, 111.
50. i Mahan, A. H. Solar Energy 2004, 77, 931.
51. j Matsumura, H.; Umemoto, H.; Masuda, A. J. Non-Crystalline Solids 2004, 338, 19.
52. Fahlman, B. D.; Barron, A. R. Adv. Mater. Opt. Electron. 2000, 10, 135.
53. Richards, V. N.; Vohs, J. K.; Williams, G. L.; Fahlman, B. D. J. Am. Ceram. Soc. 2005, 88, 1973.
54. Zhang, W. J.; Bello, I.; Lifshitz, Y.; Chan, K. M.; Meng, X. M.; Wu, Y.; Chan, C. Y.; Lee, S. T. Adv. Mater. 2004, 16, 1405.
55. Zhang, W. J.; Meng, X. M.; Chan, C. Y.; Chan, K. M.; Wu, Y.; Bello, I.; Lee, S. T. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 16005.
56. Yip, A. C.-K.; Lam, F. L.-Y.; Hu, X. Ind. Eng. Chem. Res. 2005, 44, 7983.
57. Weckenmann, U.; Mittler, S.; Kramer, S.; Aliganga, A. K. A.; Fischer, R. A. Chem. Mater. 2004, 16, 621.
58. b Aliganga, A. K. A.; Wang, Z.; Mittler, S. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 10949.
59. c Kashammer, J.; Wohlfart, P.; Weiss, J.; Winter, C.; Fischer, R. A.; Mittler- Neher, S. Opt. Mater. 1998, 9, 406.
60. d Winter, C.; Weckenmann, U.; Fischer, R. A.; Kashammer, J.; Scheumann, V.; Mittler, S. Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 199.
61. e Wohlfart, P.; Weiss, J.; Kashammer, J.; Winter, C.; Scheumann, V.; Fischer, R. A.; Mittler-Neher, S. Thin Solid Films 1999, 340, 274.
62. Armelao, L.; Barreca, D.; Bottaro, G.; Gasparotto, A.; Tondello, E.; Ferroni, M.; Polizzi, S. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 257.
63. b Armelao, L.; Barreca, D.; Bottaro, G.; Gasparotto, A.; Maragno, C.; Tondello, E. Chem. Mater. 2005, 17, 427.
64. Barreca, D.; Massignan, C.; Daolio, S.; Fabrizio, M.; Piccirillo, C.; Armelao, L.; Tondello, E. Chem. Mater. 2001, 13, 588.
65. For some recent articles on ALD, see a Xiong, G.; Elam, J. W.; Feng, H.; Han, C. Y.; Wang, H.-H.; Iton, L. E.; Curtiss, L. A.; Pellin, M. J.; Kung, M.; Kung, H.; Stair, P. C. J. Phys. Chem. B. 2005, 109, 14059.
66. b Niinisto, J.; Rahtu, A.; Putkonen, M.; Ritala, M.; Leskela, M.; Niinisto, L. Langmuir 2005, 21, 7321.
67. c Sechrist, Z. A.; Fabreguette, F. H.; Heintz, O.; Phung, T. M.; Johnson, D. C.; George, S. M. Chem. Mater. 2005, 17, 3475.
68. d Reijnen, L.; Meester, B.; de Lange, F.; Schoonman, J.; Goossens, A. Chem. Mater. 2005, 17, 2724.
69. e Matero, R.; Rahtu, A.; Ritala, M. Langmuir 2005, 21, 3498.
70. f Min, Y.-S.; Cho, Y. J.; Hwang, C. S. Chem. Mater. 2005, 17, 626.
71. g Go, W.; Tripp, C. P. Langmuir 2005, 21, 211.
72. Reijnen, L.; Meester, B.; Goossens, A.; Schoonman, J. Chem. Mater. 2005, 17, 4142.
73. b Bloem, J.; Giling, L. J. VLSI Electron.: Microstruct. Sci. 1985, 12, 89.
74. c Maruizume, T.; Ushio, J.; Takemura, Y.; Kobayashi, N. Proc.-Electrochem. Soc. 1997, 97, 115.
75. Hansen, B. N.; Hybertson, B. M.; Barkley, R. M.; Sievers, R. E. Chem. Mater. 1992, 4, 749.
76. b Lagalante, A. F.; Hansen, B. N.; Bruno, T. J.; Sievers, R. E. Inorg. Chem. 1995, 34, 5781.
77. c Fernandes, N. E.; Fisher, S. M.; Poshusta, J. C.; Vlachos, D. G.; Tsapatsis, M.; Watkins, J. J. Chem. Mater. 2001, 13, 2023.
78. d Cabanas, A.; Long, D. P.; Watkins, J. J. Chem. Mater. 2004, 16, 2028.
79. e Blackburn, J. M.; Long, D. P.; Watkins, J. J. Chem. Mater. 2000, 12, 2625.
80. f Blackburn, J. M.; Long, D. P.; Cabanas, A.; Watkins, J. J. Science 2001, 294, 141.
81. g Cabanas, A.; Blackburn, J. M.; Watkins, J. J. Microelectron. Eng. 2002, 64, 53.
82. h Ohde, H.; Kramer, S.; Moore, S.; Wai, C. M. Chem Mater. 2004, 16, 4028.
83. Xie, B.; Finstad, C. C.; Muscat; A. J. Chem. Mater. 2005, 17, 1753.
84. Bessel, C. A.; Denison, G. M.; DeSimone, J. M.; DeYoung, J.; Gross, S. M.; Schauer, C. K.; Visintin, P. M. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 4980
85. Blackman, C. S.; Parkin, I. P. Chem. Mater. 2005, 17, 1583.
86. Fahlman, B. D.; Barron, A. R. Adv. Mater. Opt. Electron. 2000, 10, 223.
87. Schmaderer, F.; Huber, R.; Oetzmann, H.; Wahl, G. Appl. Surf. Sci. 1990, 46, 53.
88. b Becht, M.; Gerfin, T.; Dahmen, K. H. Chem. Mater. 1993, 5, 137.
89. c McAleese, J.; Plakatouras, J. C.; Steele, B. C. H. Thin Solid Films 1996, 280, 152.
90. Bedoya, C.; Condorelli, G. G.; Anastasi, G.; Baeri, A.; Scerra, F.; Fragala, I. L. Chem. Mater. 2004, 16, 3176.
91. For example, see Lecohler, B.; Calpini, B.; Philippoz, J.-M.; Stumm, T.; van den Bergh, H. Appl. Phys. Lett. 1992, 236, 97.
92. Studebaker, D. B.; Neumayer, D. A.; Hinds, B. J.; Stern, C. L.; Marks, T. J. Inorg. Chem. 2000, 39, 3148
93. Widmer, M.; van den Bergh, H. J. Appl. Phys. 1995, 77, 5464.
94. Machado, E.; Kaczmarski, M.; Ordejon, P.; Garg, D.; Norman, J.; Cheng, H. Langmuir 2005, 21, 7608.
95. Xu, C.; Baum, T. H.; Rheingold, A. L. Inorg. Chem. 2004, 43, 1568.
96. Chen, H.-W.; Huang, T.-Y.; Landheer, D.; Wu, X.; Moisa, S.; Sproule, G. I.; Kim, J. K.; Lennard, W. N.; Chao, T.-S. J. Electrochem. Soc. 2003, 150, C465.
97. For a recent review, see: Serp, P.; Kalck, P.; Feurer, R. Chem. Rev. 2002, 102, 3085.
98. Boyle, T. J.; Ward, T. L.; De'Angeli, S. M.; Xu, H.; Hammetter, W. F. Chem. Mater. 2003, 15, 765.
99. Suh, S.; Guan, J.; Miinea, L. A.; Lehn, J-S. M.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 2004, 16, 1667.
100. Valet M.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 2001, 13, 2135.
101. Edleman, N. L.; Wang, A.; Belot, J. A.; Metz, A. W.; Babcock, J. R.; Kawaoka, A. M.; Ni, J.; Metz, M. V.; Flaschenriem, C. J.; Stern, C. L.; Liable-Sands, L. M.; Rheingold, A. L.; Markworth, P. R.; Chang, R. P. H.; Chudzik, M. P.; Kannewurf, C. R.; Marks, T. J. Inorg. Chem. 2002, 41, 5005.
102. b Tung, Y-L.; Tseng, W-C.; Lee, C-Y.; Hsu, P-F.; Chi, Y.; Peng, S-M.; Lee, G-H. Organometallics 1999, 18, 864.
103. c Matthew, J. S.; Just, O.; Obi-Johnson, B.; Rees, W. S. Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 129.
104. d Rees, W. S.; Just, O.; Castro, S. L.; Matthews, J. S. Inorg. Chem. 2000, 39, 3736.
105. Bourget-Merle, L.; Lappert, M. F.; Severn, J. R. Chem. Rev. 2002, 102, 3031.
106. Guiducci, A. E.; Cowley, A. R.; Skinner, M. E. G.; Mountford, P. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 2001, 1392, and references therein.
107. b Edelmann, F. T. Coord. Chem. Rev. 1994, 133, 219.
108. c Meter, R. J.; Koglin, R. J. Phys. Chem. A 2001, 105, 3867, and references therein.
109. Gardiner, R. A.; Gordon, D. C.; Stauf, G. T.; Vaarstra, B. A.; Ostrander, R. L.; Rheingold, L. Chem. Mater. 1994, 6, 1967.
110. Shin, H. K.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T.; Rheingold, A. L. J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1992, 217.
111. b Gerfin, T.; Bechi, M.; Dahmen, K. H. Mater. Sci. Eng. 1993, B17, 97.
112. Doherty, S.; Errington, R. J.; Housley, N.; Ridland, J.; Clegg, W.; Elsegood, M. R. J. Organometallics 1999, 18, 1018, and references therein.
113. Franceschini, P. L.; Morstein, M.; Berke, H.; Schmalle, H. W. Inorg. Chem. 2003, 42, 7273.
114. Studebaker, D. B.; Neumayer, D. A.; Hinds, B. J.; Stern, C. L.; Marks, T. J. Inorg. Chem. 2000, 39, 3148.
115. Schulz, D. L.; Hinds, T. J.; Neumayer, D. A.; Stern, C. L.; Marks, T. J. Chem. Mater. 1993, 5, 1605.
116. b Schulz, D. L.; Hinds, B. J.; Stern, C. L.; Marks, T. J. Inorg. Chem. 1993, 32, 249.
117. McAleese, J.; Plakatouras, J. C.; Steele, B. C. H. Thin Solid Films 1996, 280, 152.
118. Chadwick, D.; McAleese, J.; Senkiw, K.; Steele, B. C. H. Appl. Surf. Sci. 1996, 99, 417.
119. Lim, S.; Lee, J. C.; Sohn, D. S.; Lee, W. L; Lee, I.-M. Chem. Mater. 2002, 14, 1548.
120. Lai, Y. H.; Chou, T. Y.; Song, Y. H.; Liu, C. S.; Chi, Y.; Carty, A. J.; Peng, S. M.; Lee, G. H. Chem. Mater. 2003, 15, 2454.
121. Breeze, S. R.; Wang, S.; Chen, L. J. Chem. Soc. Dalton Trans. 1996, 1341.
122. b Lay, E.; Song, Y. H.; Chiu, Y. C.; Lin, Y. M.; Chi, Y. Inorg. Chem. 2005, 44, 7226.
123. El-Kaderi, H. M.; Heeg, M. J.; Winter, C. H. Organometallics 2004, 23, 4995.
124. For a review of sandwich β-diketiminato compounds, see: Piers, W. E.; Emslie, D. J. H. Coord. Chem. Rev. 2003, 233, 131.
125. El-Kaderi, H. M.; Xia, A.; Heeg, M. J.; Winter, C. H. Organometallics 2004, 23, 3488.
126. El-Kaderi, H. M.; Heeg, M. J.; Winter, C. H. Organometallics 2004, 23, 4995.
127. Park, K.-H.; Marshall, W. J. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 9330.
128. Park, K.-H.; Marshall, W. J. J. Org. Chem. 2005, 70, 2075.
129. Sadique, A. R.; Heeg, M. J.; Winter, C. H. Inorg. Chem. 2001, 40, 6349.
130. Lim, B. S.; Rahtu, A.; Park, J.-S.; Gordon, R. G. Inorg. Chem. 2003, 42, 7951.
131. b de Rouffiguac, P.; Park, J.-S.; Gordon, R. G. Chem. Mater. 2005, 17, 4808.
132. Carmalt, C. J.; Newport A. C.; O'Neill, S. A.; Parkin, I. P.; White, A. J. P.; Williams, D. J. Inorg. Chem. 2005, 44, 615.
133. Bailey, P. J.; Pace, S. Coord Chem. Rev. 2001, 214, 91.
134. Blackman, C. S.; Carmalt, C. J.; O'Neill, S. A.; Parkin, I. P.; Apostolico, L.; Molloy, K. C. Chem. Mater. 2004, 16, 1120.
135. Leman, J. T.; Barron, A. R.; Ziller, J. W.; Kren, R. M. Polyhedron 1989, 8, 1909.
136. b Gantzel, P.; Walsh, P. J. Inorg. Chem. 1998, 37, 3450.
137. c Westhusin, S.; Gantzel, P.; Walsh, P. J. Inorg. Chem. 1998, 37, 5956.
138. d Rodriguez, J. G.; Parra-Hake, M.; Aguirre, G.; Ortega, F.; Walsh, P. J. Polyhedron 1999, 18, 3051.
139. Pfeiffer, D.; Guzei, I. A.; Liable-Sands, L. M.; Heeg, M. J.; Rheingold, A. L.; Winter, C. H. J. Organomet. Chem. 1999, 588, 167.
140. Kobrsi, I.; Knox, J. E.; Heeg, M. J.; Schlegel, H. B.; Winter, C. H. Inorg. Chem. 2005, 44, 4894.
141. b Yelamos, C.; Gust, K. R.; Baboul, A. G.; Heeg, M. J.; Schlegel, H. B.; Winter, C. H. Inorg. Chem. 2001, 40, 6451.
142. c Pfeiffer, D.; Heeg, M. J.; Winter, C. H. Inorg. Chem. 2000, 39, 2377.
143. d Pfeiffer, D.; Ximba, B. J.; Liable-Sands, L. M.; Rheingold, A. L.; Heeg, M. J.; Coleman, D. M.; Schlegel, H. B.; Kuech, T. F.; Winter, C. H. Inorg. Chem. 1999, 38, 4539.
144. e Yelamos, C.; Heeg, M. J.; Winter, C. H. Inorg. Chem. 1998, 37, 3892.
145. f Guzei, I. A.; Baboul, A. G.; Yap, G. P. A.; Rheingold, A. L.; Schlegel, H. B.; Winter, C. H. J Am. Chem. Soc. 1997, 119, 3387.
146. Culp, T. D.; Cederberg, J. G.; Bieg, B.; Kuech, T. F.; Bray, K. L.; Pfeiffer, D.; Winter, C. H. J Appl. Phys. 1998, 83, 4918.
147. b Cederberg, J. G.; Culp, T. D.; Bieg, B.; Pfeiffer, D.; Winter, C. H. Bray, K. L.; Keuch, T. F. J Cryst. Growth 1998, 195, 105.
148. c Cederberg, J. G.; Culp, T. D.; Bieg, B.; Pfeiffer, D.; Winter, C. H.; Bray, K. L.; Keucb, T. F. J. Appl. Phys. 1999, 85, 1825.
149. Bchir, O. J.; Green, K. M.; Ajmera, H. M.; Zapp, E. A.; Anderson, T. J.; Brooks, B. C.; Reitfort, L. L.; Powell, D. H.; Abboud, K. A.; McElwee-White, L. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 7825.
150. b Bchir, O. J.; Johnson, S. W.; Cuadra, A. C.; Anderson, T. J.; Ortiz, C. G.; Brooks, B. C.; Powell, D. H.; McElwee-White, L. J. Cryst. Growth 2003, 249, 262.
151. Du, Y. H.; Rheingold, A. L.; Maatta, E. A. Inorg. Chem. 1994, 33, 6415.
152. Hansen, B. N.; Brooks, M. H.; Barkley, R. M.; Sievers, R. E. Chem. Mater. 1992, 4, 749.
153. Fischer, R. A.; Priermeier, T. Organometallics 1994, 13, 4306.
154. b Fischer, R. A.; Kleine, M.; Lehmann, O.; Stuke, M. Chem. Mater. 1995, 7, 1863.
155. c Fischer, R. A.; Miehr, A. Chem. Mater. 1996, 8, 497.
156. Fischer, R. A.; Miehr, A.; Schulte, M. Adv. Mater. 1995, 7, 58.
157. For example, see: a Lee, B.; Pennington, W. T.; Laske, J. A.; Robinson, G. H. Organometallics 1990, 9, 2864.
158. b Su, J.; Li, X.-W.; Crittendon, R. C.; Campana, C. F.; Robinson, G. H. Organometallics 1997, 16, 4511.
159. c Yang, X.-J.; Quillian, B.; Wang, Y.; Wei, P.; Robinson, G. H. Organometallics 2004, 23, 5119.
160. Banger, K. K.; Jin, M. H.-C.; Harris, J. D.; Fanwick, P. E.; Hepp, A. F. Inorg. Chem. 2003, 42, 7713.
161. Castro, S. L.; Bailey, S. G.; Raffaelle, R. P.; Banger, K. K.; Hepp, A. F. Chem. Mater. 2003, 15, 3142.
162. Deivaraj, T. C.; Park, J.-H.; Afzaal, M.; O'Brien, P.; Vittal, J. J. Chem. Mater. 2003, 15, 2383.
163. Veith, M.; Mathur, S.; Shen, H.; Lecerf, N.; Hufner, S.; Jilavi, M. H. Chem. Mater. 2001, 13, 4041.
164. b Veith, M.; Mathur, S.; Lecerf, N.; Bartz, K.; Heintz, M.; Huch, V. Chem. Mater. 2000,12, 271.
165. Mathur, S.; Veith, M.; Ruegamer, T.; Hemmer, E.; Shen, H. Chem. Mater. 2004, 16, 1304.