Tailored Si3N4 ceramic substrates for CVD diamond coating

Surface Engineering

Volumn 19, Issue 6, 2003, Pages 410-416

  Amaral, M ^a   Oliveira, F J ^a   Belmonte, M ^a   Fernandes, A J S ^b   Costa, F M ^b   Silva, R F ^a  

^a UNIVERSITY OF AVEIRO   (Portugal)

^b UNIVERSITY OF AVEIRO   (Portugal)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADHESION; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CERAMIC MATERIALS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DIAMOND FILMS; FRACTURE TOUGHNESS; FRICTION; HARDNESS; MACHINING; NUCLEATION; RESIDUAL STRESSES; THERMAL CONDUCTIVITY; THERMAL EXPANSION; THERMAL STRESS; TRIBOLOGY; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

FRICTION COEFFICIENT; THERMAL EXPANSION COEFFICIENT;

SILICON NITRIDE;

EID: 1542286525     PISSN: 02670844     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1179/026708403225010136     Document Type: Review

References (31)

1. P. K. MEHROTRA: Key Eng. Mater., 1998, 138-140, 1-24.
2. S. JAHANMIR: 'Friction and wear of ceramics'; 1994, New York, Marcel Dekker.
3. A. GICQUEL, K. HASSOUNI, F. SILVA and J. ACHARD: Curr. Appl. Phys., 2001, 1, 479-496.
4. S. J. BULL and A. MATTHEWS: Diam. Relat. Mater., 1992, 1, 1049-1064.
5. V. G. RALCHENKO, A. A. SMOLIN, V. G. PEREVERZEV, E. D. OBRAZTSOVA, K. G. KOROTOUSHENKO, V. I. KONOV, Y. V. LAKHOTKIN and E. N. LOUBNINI Diam. Relat. Mater., 1995, 4, 754-758.
6. G. ZIEGLER, J. HEINRICH and G. WOTTING: J. Mater. Sci., 1987, 22, 3041-3086.
7. H. BUCHKREMER-HERMANNS, H. REN, J. UTSCH and H. WEISS: Diam. Relat. Mater., 1997, 6, 411-416.
8. H. BUCHKREMER-HERMANNS, H. REN, G. KOHLSCHEIN and H. WEISS: Surf. Coat. Technol., 1998, 98, 1038-1046.
9. C. L. CHANG and M. P. GUIDOBONI: Surf. Coat. Technol., 1991, 49, 366 - 369.
10. Y. SHIBUYA and M. TAKAYA: Surf. Coat. Technol., 1998, 106, 66-71.
11. E. CAPPELLI, L. ESPOSITO, F. PINZARI, G. MATTEI and S. ORLANDO: Diam. Relat. Mater., 2002, 11, 1731-1746.
12. R. T. ROZBICKI and V. K. SARIN: Int. J. Refract. Metals Hard Mater., 1998, 16, 377-388.
13. H. ITOH, S. SHIMURA, K. SUGIYAMA, H. IWAHARA and H. SAKAMOTO: J. Ceram. Soc. Jpn, 1996, 104, 1137- 1142.
14. H. ITOH, S. SHIMURA, K. SUGIYAMA, H. IWAHARA and H. SAKAMOTO: J. Am. Ceram. Soc., 1997, 80, 189-196.
15. H. ITOH, S. LEE, K. SUGIYAMA, H. IWAHARA and T. TSUTSUMOTO: Surf. Coat. Technol., 1999, 112, 199-203.
16. X. L. PENG, H. F. LIU, Z. P. GAN, H. Q. LI and H. D. LI: Diam. Relat. Mater., 1995, 4, 1260-1266.
17. K. MALUKA and R. KOMANDURI: Thin Solid Films, 2001, 396, 146-166.
18. P. K. BACHMANN, D. LEERS and D. U. WIECHERT: Ber. Bunsenges. Phys. Chem., 1991, 95, 1390-1400.
19. V. A. SILVA, F. M. COSTA, A. J. S. FERNANDES, M. H. NAZARÉ and R. F. SILVA: Diam. Relat. Mater., 2000, 9, 483-488.
20. A. TALLAIRE, V. A. SILVA. A. J. S. FERNANDES, F. M. COSTA and R. F. SILVA: Surf. Coat. Technol., 2002, 151-152, 521 -525.
21. M. BELMONTE, A. J. S. FERNANDES, F. M. COSTA, F. J. OLIVEIRA and R. F. SILVA: Diam. Relat. Mater., 2003, 12, 733-737.
22. M. BELMONTE, V. A. SILVA, A. J. S. FERNANDES, F. M. COSTA and R. F. SILVA: J. Am. Ceram. Soc., 2003, 86, 749-754.
23. M. AMARAL, F. J. OLIVEIRA, M. BELMONTE, A. J. S. FERNANDES, F. COSTA and R. F. SILVA: Diam. Relat. Mater., in press.
24. P. MIRANZO, M. I. OSENDI, E. GARCIA, A. J. S. FERNANDES, V. A. SILVA, F. M. COSTA and R. F. SILVA: Diam. Relat Mater., 2002, 11, 703-707.
25. M. J. HYATT and D. E. DAY: J. Am. Ceram. Soc., 1987, 70, C-283.
26. L. D. BENTSEN, D. P. H. HASSELMAN and T. TIEN: J. Am. Ceram. Soc., 1984, 67, C-85-86.
27. M. R. SOARES, M. BELMONTE and R. F. SILVA: J. Appl. Phys., 2003, 94, 5633-5638.
28. R. PFEIFFER, H. KUZMANY, N. SALK and B. GÜNTER: Appl. Phys. Lett., 2003, 82, 4149-4150.
29. T. S. YANG, J. Y. LAY, M. S. WONG and C. L. CHENG: J. Appl. Phys., 2002, 92, 2133-2138.
30. D. ZHOU, D. M. GRUEN, L. C. QIN, T. McCAULEY and A. R. KRAUSS: J. Appl. Phys., 1998, 84, 1981-1989.
31. M. BELMONTE, F. J. OLIVEIRA, J. SACRAMENTO, A. J. S. FERNANDES and R. F. SILVA: unpublished work.