In situ reaction mechanism studies on the atomic layer deposition of Al2O3 from (CH3)2AlCl and water

Langmuir

Volumn 21, Issue 8, 2005, Pages 3498-3502

  Matero, Raija ^a   Rahtu, Antti ^a,b   Ritala, Mikko ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^b ASM Microchemistry Oy   (Finland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADSORPTION; ARGON; CHLORINE; CRYSTALS; MASS SPECTROMETRY; QUARTZ; REACTION KINETICS; THERMODYNAMIC STABILITY; THIN FILMS; WATER;

ATOMIC LAYER DEPOSITION (ATL); METHYL LIGANDS; QUADRUPOLE MASS SPCTROSCOPY (QMS); QUARTZ CRYSTAL MICROBALANCES (QCM);

ALUMINA;

EID: 17444370936     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la047153a     Document Type: Article

References (22)

1. Suntola, T. Thin Solid Films 1892, 216, 84.
2. Ritala, M.; Leskelä, M.; Dekker, J.-P.; Mutsaers, C.; Soininen, P. J.; Skarp, J. Chem. Vap. Deposition 1997, 5, 7.
3. Hiltunen, L.; Kattelus, H.; Leskelä, M.; Mäkelä, M.; Niinistö, L.; Nykänen, E.; Soininen, P.; Tiitta, M. Mater. Chem. Phys. 1991, 25, 379.
4. Ritala, M.; Saloniemi, H.; Leskelä, M.; Prohaska, T.; Friedbacher, G.; Grassenbauer, M. Thin Solid Films 1996, 286, 54.
5. Higashi, G. S.; Fleming, C. G. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1963.
6. Ott, A. W.; McCarley, K. C.; Klaus, J. W.; Way, J. D.; George, S. M. Appl Surf. Sci. 1996, 107, 128.
7. Groner, M. D.; Fabreguette, F. H.; Elam, J. W.; George, S. M. Chem. Mater. 2004, 16, 639.
8. Yun, S. J.; Lee, K.-H.; Skarp, J.; Kim, H. R.; Naim, K.-S. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 2993.
9. Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Jokinen, J. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 2214.
10. Cho, W.; Sung, K.; An, K.-S.; Lee, S. S.; Chung, T.-M.; Kim, Y. J. Vac. Sci. Technol., A 2003, 21, 1366.
11. Aarik, J.; Aidla, A.; Kukli, K. Appl Surf. Sci. 1994, 75, 180.
12. Rahtu, A.; Alaranta, T.; Ritala, M. Langmuir 2001, 17, 6506.
13. Elam, J. W.; Groner, M. D.; George, S. M. Rev. Sci. Instrum. 2002, 73, 2981.
14. Ritala, M.; Juppo, M.; Rahtu, A.; Leskelä, M. J. Phys. IV 1999, 9, Pr8-1021.
15. Juppo, M.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskelä, M. Langmuir 2000, 16, 4034.
16. Tanaka, J.; Smith, S. R. Inorg. Chem. 1969, 8, 265.
17. George, S. M.; Ott, A. W.; Klaus, J. W.J. Phys. Chem. 1996, 100, 13121.
18. Haukka, S.; Lakomaa, E.-L.; Root, A. J. Phys. Chem. 1996, 97, 5085.
19. Puurunen, R.; Lindblad, M.; Root, A.; Krause, O. Phys. Chem. Chem. Phys. 2001, 3, 1093.
20. Kytökivi, A.; Lindblad, M.; Root, A. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1995, 91, 941.
21. Aarik, J.; Aidla, A.; Jaek, A.; Kiisler, A.-A.; Tammik, A.-A. Acta Polytech. Scand., Chem. Technol. Metall. Ser. 1990, 195, 201.
22. Rahtu, A.; Ritala, M. Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 21.