Fabrication of flexible amorphous indium-gallium-zinc-oxide thin-film transistors by a chemical vapor deposition-free process on polyethylene napthalate

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Volumn 3, Issue 9, 2014, Pages Q3035-Q3039

  Xu, Hua ^a,b   Pang, Jiawei ^c   Xu, Miao ^a   Li, Min ^a,b   Guo, Ying ^c   Chen, Zikai ^c   Wang, Lang ^c   Zou, Jianhua ^a   Tao, Hong ^a   Wang, Lei ^a   Peng, Junbiao ^a,b,c  

^a SOUTH CHINA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

^b South China University of Technology   (China)

^c Guangzhou New Vision Optoelectronic Co Ltd   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 84990935745     PISSN: 21628769     EISSN: 21628777     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.007409jss     Document Type: Article

References (33)

1. J. S. Park, T. W. Kim, D. Stryakhilev, J. S. Lee, S. G. An, Y. S. Pyo, D. B. Lee, Y. G. Mo, D. U. Jin, and H. K. Chung, Appl. Phys. Lett., 95, 013503 (2009).
2. K. Hatano, A. Chida, T. Okano, N. Sugisawa, T. Inoue, S. Seo, K. Suzuki, Y. Oikawa, H. Miyake, J. Koyama, S. Yamazaki, S. Eguchi, M. Katayama, and M. Sakakura, Jpn. J. Appl.Phys., 50, 03CC06 (2011).
3. P. Servati, S. Prakash, A. Nathan, and C. Py, J. Vac. Sci. Technol. A, 20, 1374 (2002).
4. W. G. Lee, T. H. Lim, and J. Jang, Jpn. J. Appl. Phys., 50, 03CB03 (2011).
5. K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Nature, 432, 488 (2004).
6. H Xu, D. Luo, M. Li, M. Xu, J. Zou, H. Tao, L. Lan, L. Wang, J. Peng, and Y. Cao, J. Mater. Chem. C., 2,1255 (2014).
7. S. M. Jahinuzzaman, A. Sultana, K. Sakariya, P. Servati, and A. Nathan, Appl. Phys.Lett., 87, 023502 (2005).
8. C. Yang, K. Hong, J. Jang, D. S. Chung, T. K. An, W.-S. Choi, and C. E. Park, Nanotechnology, 20, 465201 (2009).
9. P. Barquinha, L. Pereira, G. Goncalves, R. Martins, and E. Fortunato, J. Electrochem. Soc., 156, H161 (2008).
10. E. Fortunato, P. Barquinha, and R. Martins, Adv. Mater., 24, 2945 (2012).
11. L. Lan, M. Xu, J. Peng, H. Xu, M. Li, D. Luo, J. Zou, H. Tao, L. Wang, and R. Yao, J. Appl. Phys., 110, 103703 (2011).
12. W. A. Macdonald, J. Mater.Chem., 14, 4 (2004).
13. S. Yang, J. Y. Bak, S.-M. Yoon, M. K. Ryu, H. Oh, C.-S. Hwang, G. H. Kim, S. H.-K. Park, and J. Jang, IEEE Electron Device Lett., 32, 1692 (2011).
14. H. Kim, Y. Lee, Y. Raa, G. P. Li, and J. Yota, ECS Trans., 6, 531 (2007).
15. R. S. Chen, W. Zhou, M. Zhang, and H. S. Kwok, Thin Solid Films, 520, 6681 (2012).
16. W. Lim, S. Kim, Y.-L. Wang, J. W. Lee, D. P. Norton, S. J. Pearton, F. Ren, and I. I. Kravchenko, J. Electrochem. Soc., 155, H383 (2012).
17. W. S. Cheong, J. Y. Bak, and H. S. Kim, Jpn. J. Appl. Phys., 49, 05EB10 (2010).
18. M. Li, L. Lan, M. Xu, H. Xu, D. Luo, N. Xiong, and J. Peng, Jpn. J. Appl.Phys., 51, 076501 (2012).
19. D. Luo, L. Lan, M. Xu, H. Xu, M. Li, L. Wang, and J. Peng, J. Electrochem. Soc., 159, H502 (2012).
20. L. Lan, N. Xiong, P. Xiao, M. Li, H. Xu, R. Yao, S. Wen, and J. Peng, Appl. Phys. Lett., 102, 242102 (2013).
21. H. Xu, L. Lan, M. Xu, J. Zou, L. Wang, D. Wang, and J. Peng, Appl. Phys. Lett., 99, 253501 (2011).
22. D. Luo, H. Xu, M. Li, H. Tao, Lei Wang, J. Peng, and M. Xu, IEEE Trans. Electron-Devices, 61, 92 (2014).
23. J. Yota, H. Shen, and R. Ramanathan, J. Vac. Sci. Technol.A, 31, 01A134 (2013).
24. H. Spahr, J. Reinker, T. Bülow, D. Nanova, H.-H. Johannes, and W. Kowalsky, J. Phys. D: Appl. Phys., 46, 155302 (2013).
25. M. D. Groner, F. H. Fabreguette, J. W. Elam, and S. M. George, Chem. Mater., 16, 639 (2004).
26. P. Balk, J. Non-Cryst Solids, 187, 1 (1995).
27. H. Gleskova and S. Wagner, Appl. Phys.Lett., 75, 3011 (1999).
28. S.-H. Jen, J. A. Bertrand, and S. M. George, J. Appl. Phys., 109, 084305 (2011).
29. S.-H. K. Park, et al, SID symposium Digest, 4, 18 (2013).
30. Z. Chen, B. Cotterell, W. Wang, E. Guenther, and S.-J. Chua, Thin SolidFilms, 394, 201 (2001).
31. H. Gleskova, S. Wagner, and Z. Suo, Appl. Phys. Lett., 75, 3011 (1999).
32. K. Nomura, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 95, 013502 (2009).
33. K. Nomura, T. Kamiya, H. Ohta, M. Hirano, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett., 93, 192107 (2008).