Highly conductive and transparent hybrid organic-inorganic zincone thin films using atomic and molecular layer deposition

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 116, Issue 46, 2012, Pages 24784-24791

  Yoon, Byunghoon ^a   Lee, Byoung H ^a   George, Steven M ^a,b  

^a UNIVERSITY OF COLORADO   (United States)

^b UCB 450   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ENERGY GAP; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; II-VI SEMICONDUCTORS; METALLIC FILMS; ORGANIC-INORGANIC MATERIALS; OXIDE MINERALS; REACTION RATES; SURFACE REACTIONS; THIN FILMS; TIN OXIDES; ZINC ALLOYS; ZINC OXIDE;

BANDGAP ABSORPTION; HYBRID ORGANIC-INORGANIC; LINEAR GROWTH RATE; MODULATED STRUCTURES; MOLECULAR LAYER DEPOSITION; MOLECULAR LAYER DEPOSITIONS (MLD); REACTION SEQUENCES; SITU QUARTZ CRYSTAL MICROBALANCE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84870260587     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp3057477     Document Type: Article

References (45)

1. George, S. M. Chem. Rev. 2010, 110, 111-131
2. Bae, C.; Yoo, H.; Kim, S.; Lee, K.; Kim, J.; Sung, M. A.; Shin, H. Chem. Mater. 2008, 20, 756-767
3. Elam, J. W.; Routkevitch, D.; Mardilovich, P. P.; George, S. M. Chem. Mater. 2003, 15, 3507-3517
4. Mayer, T. M.; Elam, J. W.; George, S. M.; Kotula, P. G.; Goeke, R. S. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 2883-2885
5. George, S. M.; Yoon, B.; Dameron, A. A. Acc. Chem. Res. 2009, 42, 498-508
6. Adamczyk, N. M.; Dameron, A. A.; George, S. M. Langmuir 2008, 24, 2081-2089
7. Dameron, A. A.; Seghete, D.; Burton, B. B.; Davidson, S. D.; Cavanagh, A. S.; Bertrand, J. A.; George, S. M. Chem. Mater. 2008, 20, 3315-3326
8. Peng, Q.; Gong, B.; VanGundy, R. M.; Parsons, G. N. Chem. Mater. 2009, 21, 820-830
9. Yoon, B.; O'Patchen, J. L.; Seghete, D.; Cavanagh, A. S.; George, S. M. Chem. Vap. Deposition 2009, 15, 112-121
10. Yoshimura, T.; Tatsuura, S.; Sotoyama, W. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 482-484
11. George, S. M.; Lee, B. H.; Yoon, B.; Abdulagatov, A. I.; Hall, R. A. J. Nanosci. Nanotechnol. 2011, 11, 7956-7961
12. Lee, B. H.; Yoon, B.; Anderson, V. R.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2012, 116, 3250-3257
13. Granqvist, C. G.; Hultaker, A. Thin Solid Films 2002, 411, 1-5
14. Tahar, R. B. H.; Ban, T.; Ohya, Y.; Takahashi, Y. J. Appl. Phys. 1998, 83, 2631-2645
15. Paetzold, R.; Heuser, K.; Henseler, D.; Roeger, S.; Wittmann, G.; Winnacker, A. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 3342-3344
16. Chiang, C. K.; Druy, M. A.; Gau, S. C.; Heeger, A. J.; Louis, E. J.; Macdiarmid, A. G.; Park, Y. W.; Shirakawa, H. J. Am. Chem. Soc. 1978, 100, 1013-1015
17. Chiang, C. K.; Fincher, C. R.; Park, Y. W.; Heeger, A. J.; Shirakawa, H.; Louis, E. J.; Gau, S. C.; Macdiarmid, A. G. Phys. Rev. Lett. 1977, 39, 1098-1101
18. Huang, W. S.; Humphrey, B. D.; Macdiarmid, A. G. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1 1986, 82, 2385-2400
19. Roncali, J. Chem. Rev. 1992, 92, 711-738
20. Elam, J. W.; Routkevitch, D.; George, S. M. J. Electrochem. Soc. 2003, 150, G339-G347
21. Yoon, B.; Lee, B. H.; George, S. M. ECS Trans. 2011, 41, 271-277
22. Yoon, B.; Lee, Y.; Derk, D.; Musgrave, C. B.; George, S. M. ECS Trans. 2011, 33, 191-195
23. Cho, S.; Han, G.; Kim, K.; Sung, M. M. Angew. Chem., Int. Ed. 2011, 50, 2742-2746
24. Yoon, B.; Seghete, D.; Cavanagh, A. S.; George, S. M. Chem. Mater. 2009, 21, 5365-5374
25. Ferguson, J. D.; Weimer, A. W.; George, S. M. Thin Solid Films 2000, 371, 95-104
26. Ferguson, J. D.; Weimer, A. W.; George, S. M. J. Vac. Sci. Technol., A 2005, 23, 118-125
27. Elam, J. W.; Groner, M. D.; George, S. M. Rev. Sci. Instrum. 2002, 73, 2981-2987
28. Miller, D. C.; Foster, R. R.; Jen, S.; Bertrand, J. A.; Seghete, D.; Yoon, B.; Lee, Y.; George, S. M.; Dunn, M. L. Acta Mater. 2009, 57, 5083-5092
29. Joslin, D. L.; Oliver, W. C. J. Mater. Res. 1990, 5, 123-126
30. Oliver, W. C.; Pharr, G. M. J. Mater. Res. 2004, 19, 3-20
31. Elam, J. W.; George, S. M. Chem. Mater. 2003, 15, 1020-1028
32. Lim, S. J.; Kwon, S. J.; Kim, H. Thin Solid Films 2008, 516, 1523-1528
33. Banerjee, P.; Lee, W. J.; Bae, K. R.; Lee, S. B.; Rubloff, G. W. J. Appl. Phys. 2010, 108, 043504
34. Jeon, S.; Bang, S.; Lee, S.; Kwon, S.; Jeong, W.; Jeon, H.; Chang, H. J.; Park, H. H. J. Electrochem. Soc. 2008, 155, H738-H743
35. Krajewski, T. A.; Luka, G.; Wachnicki, L.; Jakiela, R.; Witkowski, B.; Guziewicz, E.; Godlewski, M.; Huby, N.; Tallarida, G. Opt. Appl. 2009, 39, 865-874
36. Luka, G.; Krajewski, T.; Wachnicki, L.; Witkowski, B.; Lusakowska, E.; Paszkowicz, W.; Guziewicz, E.; Godlewski, M. Phys. Status Solidi A 2010, 207, 1568-1571
37. Yamada, A.; Sang, B. S.; Konagai, M. Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 216-222
38. Luka, G.; Krajewski, T. A.; Witkowski, B. S.; Wisz, G.; Virt, I. S.; Guziewicz, E.; Godlewski, M. J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 2011, 22, 1810-1815
39. Claflin, B.; Look, D. C.; Park, S. J.; Cantwell, G. J. Cryst. Growth 2006, 287, 16-22
40. Hullavarad, S.; Hullavarad, N.; Look, D.; Claflin, B. Nanoscale Res. Lett. 2009, 4, 1421-1427
41. Lany, S.; Zunger, A. Phys. Rev. B 2005, 72, 035215
42. Kim, J. Y.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 17597-17603
43. Tapily, K.; Gu, D.; Baumgart, H.; Namkoong, G.; Stegall, D.; Elmustafa, A. A. Semicond. Sci. Technol. 2011, 26, 115005
44. Cohen, D. J.; Barnett, S. A. J. Appl. Phys. 2005, 98, 053705
45. Robbins, J. J.; Wolden, C. A. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 3933-3935