Atomic layer deposition of Ga 2O 3 films using trimethylgallium and ozone

Chemistry of Materials

Volumn 24, Issue 21, 2012, Pages 4011-4018

  Comstock, David J ^a   Elam, Jeffrey W ^a  

^a ARGONNE NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

atomic layer deposition; FTIR; gallium oxide; ozone; quartz crystal microbalance; trimethylgallium

Indexed keywords

FTIR; GALLIUM OXIDES; METHYL LIGANDS; METHYL SPECIES; OXYGEN SOURCES; QUADRUPOLE MASS SPECTROMETRY; RESIDUAL CARBON; SI(1 0 0); SITU QUARTZ CRYSTAL MICROBALANCE; STEP COVERAGE; SURFACE GROUPS; SURFACE SPECIES; TRIMETHYL GALLIUM;

AMORPHOUS FILMS; ATOMIC LAYER DEPOSITION; CARBON FILMS; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; MASS SPECTROMETRY; OZONE; QUARTZ CRYSTAL MICROBALANCES; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; X RAY DIFFRACTION;

GALLIUM ALLOYS;

EID: 84869044803     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm300712x     Document Type: Article

References (57)

1. Hao, J. H.; Cocivera, M. J. Phys. D: Appl. Phys. 2002, 35, 433-438
2. Hao, J. H.; Lou, Z. D.; Renaud, I.; Cocivera, M. Thin Solid Films 2004, 467, 182-185
3. Wellenius, P.; Suresh, A.; Muth, J. F. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 021111
4. Podhorodecki, A.; Banski, M.; Misiewicz, J.; Lecerf, C.; Marie, P.; Cardin, J.; Portier, X. J. Appl. Phys. 2010, 108, 063535
5. Orita, M.; Ohta, H.; Hirano, M.; Hosono, H. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 4166-4168
6. Orita, M.; Hiramatsu, H.; Ohta, H.; Hirano, M.; Hosono, H. Thin Solid Films 2002, 411, 134-139
7. Fleischer, M.; Meixner, H. Sensor. Actuators, B 1991, 4, 437-441
8. Ogita, M.; Saika, N.; Nakanishi, Y.; Hatanaka, Y. Appl. Surf. Sci. 1999, 142, 188-191
9. Baban, C.; Toyoda, Y.; Ogita, M. Thin Solid Films 2005, 484, 369-373
10. Hong, M.; Passlack, M.; Mannaerts, J. P.; Kwo, J.; Chu, S. N. G.; Moriya, N.; Hou, S. Y.; Fratello, V. J. J. Vac. Sci. Technol. B 1996, 14, 2297-2300
11. Kwo, J.; Murphy, D. W.; Hong, M.; Opila, R. L.; Mannaerts, J. P.; Sergent, A. M.; Masaitis, R. L. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1116-1118
12. Paterson, G. W.; Longo, P.; Wilson, J. A.; Craven, A. J.; Long, A. R.; Thayne, I. G.; Passlack, M.; Droopad, R. J. Appl. Phys. 2008, 104, 103719
13. Rebien, M.; Henrion, W.; Hong, M.; Mannaerts, J. P.; Fleischer, M. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 250-252
14. Passlack, M.; Schubert, E. F.; Hobson, W. S.; Hong, M.; Moriya, N.; Chu, S. N. G.; Konstadinidis, K.; Mannaerts, J. P.; Schnoes, M. L.; Zydzik, G. J. J. Appl. Phys. 1995, 77, 686-693
15. Marie, P.; Portier, X.; Cardin, J. Phys. Status. Solidi A 2008, 205, 1943-1946
16. Battiston, G. A.; Gerbasi, R.; Porchia, M.; Bertoncello, R.; Caccavale, F. Thin Solid Films 1996, 279, 115-118
17. Valet, M.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 2001, 13, 2135-2143
18. Binions, R.; Carmalt, C. J.; Parkin, I. P.; Pratt, K. F. E.; Shaw, G. A. Chem. Mater. 2004, 16, 2489-2493
19. Nieminen, M.; Niinisto, L.; Rauhala, E. J. Mater. Chem. 1996, 6, 27-31
20. Nieminen, M.; Lehto, S.; Niinisto, L. J. Mater. Chem. 2001, 11, 3148-3153
21. Shan, F. K.; Liu, G. X.; Lee, W. J.; Lee, G. H.; Kim, I. S.; Shin, B. C. J. Appl. Phys. 2005, 98, 023504
22. Dezelah, C. L.; Niinisto, J.; Arstila, K.; Niinisto, L.; Winter, C. H. Chem. Mater. 2006, 18, 471-475
23. Dezelah, C. L.; Myllymaki, P.; Paivasaari, J.; Arstila, K.; Niinisto, L.; Winter, C. H. J. Mater. Chem. 2007, 17, 1308-1315
24. Lee, H.; Kim, K.; Woo, J. J.; Jun, D. J.; Park, Y.; Kim, Y.; Lee, H. W.; Cho, Y. J.; Cho, H. M. Chem. Vapor Depos 2011, 17, 191-197
25. Putkonen, M. In Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials; Pinna, N.; Knez, M., Eds.; Wiley-VCH: Weinheim, Germany, 2012; pp 41-51.
26. Ludowise, M. J. J. Appl. Phys. 1985, 58, R31-R55
27. Puurunen, R. L. J. Appl. Phys. 2005, 97, 121301
28. Kim, H. W.; Kim, N. H. Mater. Sci. Eng., B 2004, 110, 34-37
29. Ott, A. W.; Chang, R. P. H. Mater. Chem. Phys. 1999, 58, 132-138
30. Rahtu, A.; Alaranta, T.; Ritala, M. Langmuir 2001, 17, 6506-6509
31. Elam, J. W.; Groner, M. D.; George, S. M. Rev. Sci. Instrum. 2002, 73, 2981-2987
32. Ferguson, J. D.; Weimer, A. W.; George, S. M. Thin Solid Films 2000, 371, 95-104
33. Ferguson, J. D.; Weimer, A. W.; George, S. M. Thin Solid Films 2002, 413, 16-25
34. Elam, J. W.; Schuisky, M.; Ferguson, J. D.; George, S. M. Thin Solid Films 2003, 436, 145-156
35. Du, Y.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 8509-8517
36. Dameron, A. A.; Seghete, D.; Burton, B. B.; Davidson, S. D.; Cavanagh, A. S.; Bertrand, J. A.; George, S. M. Chem. Mater. 2008, 20, 3315-3326
37. Juppo, M.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskela, M. Langmuir 2000, 16, 4034-4039
38. Libera, J. A.; Hryn, J. N.; Elam, J. W. Chem. Mater. 2011, 23, 2150-2158
39. Elam, J. W.; Pellin, M. J. Anal. Chem. 2005, 77, 3531-3535
40. Goldstein, D. N.; McCormick, J. A.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 19530-19539
41. Ballinger, T. H.; Wong, J. C. S.; Yates, J. T. Langmuir 1992, 8, 1676-1678
42. Rahtu, A.; Alaranta, T.; Ritala, M. Langmuir 2001, 17, 6506-6509
43. Rahtu, A.; Kukli, K.; Ritala, M. Chem. Mater. 2001, 13, 817-823
44. Morrow, B. A.; McFarlane, R. A. J. Phys. Chem. 1986, 90, 3192-3197
45. McFarlane, R. A.; Morrow, B. A. J. Phys. Chem. 1988, 92, 5800-5803
46. Soto, C.; Wu, R.; Bennett, D. W.; Tysoe, W. T. Chem. Mater. 1994, 6, 1705-1711
47. Escribano, V. S.; Amores, J. M. G.; Lopez, E. F.; Panizza, M.; Resini, C.; Busca, G. J. Mater. Sci. 2005, 40, 2013-2021
48. Busca, G.; Lorenzelli, V. J. Catal. 1980, 66, 155-161
49. Busca, G.; Lamotte, J.; Lavalley, J. C.; Lorenzelli, V. J. Am. Chem. Soc. 1987, 109, 5197-5202
50. Kobayashi, N.; Kobayashi, Y. Thin Solid Films 1993, 225, 32-39
51. Lee, F.; Gow, T. R.; Masel, R. I. J. Electrochem. Soc. 1989, 136, 2640-2645
52. Larsen, C. A.; Buchan, N. I.; Li, S. H.; Stringfellow, G. B. J. Cryst. Growth 1990, 102, 103-116
53. Kim, S. K.; Lee, S. W.; Hwang, C. S.; Min, Y. S.; Won, J. Y.; Jeong, J. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, F69-F76
54. Knoops, H. C. M.; Elam, J. W.; Libera, J. A.; Kessels, W. M. M. Chem. Mater. 2011, 23, 2381-2387
55. Al-Kuhaili, M. F.; Durrani, S. M. A.; Khawaja, E. E. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 4533-4535
56. Weast, R. C., Ed. CRC Handbook of Chemistry and Physics, 63 rd ed.; CRC Press: Boca Raton, FL, 1982.
57. Pankove, J. I. Optical Processes in Semiconductors; Prentice-Hall: Englewood Cliffs, NJ, 1971.