Surface loss in ozone-based atomic layer deposition processes

Chemistry of Materials

Volumn 23, Issue 9, 2011, Pages 2381-2387

  Knoops, Harm C M ^a,b   Elam, Jeffrey W ^c   Libera, Joseph A ^c   Kessels, Wilhelmus M M ^b  

^a MATERIALS INNOVATION INSTITUTE M2I   (Netherlands)

^b EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

^c ARGONNE NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

ALD; decomposition; loss; ozone; recombination

Indexed keywords

ALD; ATOMIC LAYER; CAPILLARY SURFACE; CYCLE TIME; FILM CONFORMALITY; HIGH ASPECT RATIO; MODEL SYSTEM; PLUG-FLOW MODELS; RECOMBINATION; SPATIAL UNIFORMITY; SURFACE LOSS; ZNO; ZNO FILMS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; FILM GROWTH; MASS SPECTROMETRY; OZONE; OZONE LAYER; PLATINUM; PROBABILITY; ZINC OXIDE;

ASPECT RATIO;

EID: 79955660652     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm2001144     Document Type: Article

References (38)

1. Niinistö, L.; Ritala, M.; Leskelä, M. Mater. Sci. Eng., B 1996, 41, 23
2. Kim, J. B.; Kwon, D. R.; Chakrabarti, K.; Lee, C.; Oh, K. Y.; Lee, J. H. J. Appl. Phys. 2002, 92, 6739
3. Kim, J.; Chakrabarti, K.; Lee, J.; Oh, K. Y.; Lee, C. Mater. Chem. Phys. 2003, 78, 733
4. Delabie, A.; Caymax, M.; Gielis, S.; Maes, J. W.; Nyns, L.; Popovici, M.; Swerts, J.; Tielens, H.; Peeters, J.; Van Elshocht, S. Electrochem. Solid-State Lett. 2010, 13, 176
5. Rose, M.; Bartha, J. W.; Endler, I. Appl. Surf. Sci. 2010, 256, 3778
6. Liu, X. Y.; Ramanathan, S.; Longdergan, A.; Srivastava, A.; Lee, E.; Seidel, T. E.; Barton, J. T.; Pang, D.; Gordon, R. G. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, G213
7. Klepper, K. B.; Nilsen, O.; Fjellvag, H. Thin Solid Films 2007, 515, 7772
8. Nilsen, O.; Fjellvg, H.; Kjekshus, A. Thin Solid Films 2003, 444, 44
9. Hämäläinen, J.; Munnik, F.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2009, 156, D418
10. Dhandapani, B.; Oyama, S. T. Appl. Catal., B 1997, 11, 129
11. Oyama, S. T. Catal. Rev.-Sci. Eng. 2000, 42, 279
12. Itoh, H.; Suzuki, T.; Suzuki, S.; Rusinov, I. M. Ozone-Sci. Eng. 2004, 26, 487
13. Itoh, H.; Rusinov, I. M.; Suzuki, S.; Suzuki, T. Plasma Process. Polym. 2005, 2, 227
14. Li, W.; Gibbs, G. V.; Oyama, S. T. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 9041
15. Li, W.; Oyama, S. T. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 9047
16. Hanisch, F.; Crowley, J. N. Atmos. Chem. Phys. 2003, 3, 119
17. Mogili, P. K.; Kleiber, P. D.; Young, M. A.; Grassian, V. H. J. Phys. Chem. A 2006, 110, 13799
18. Knoops, H. C. M.; Langereis, E.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Electrochem. Soc. 2010, 157, G241
19. Radhakrishnan, R.; Oyama, S. T.; Chen, J. G. G.; Asakura, K. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 4245
20. Elam, J. W.; Groner, M. D.; George, S. M. Rev. Sci. Instrum. 2002, 73, 2981
21. Daumont, D.; Brion, J.; Charbonnier, J.; Malicet, J. J. Atmos. Chem. 1992, 15, 145
22. Herron, J. T.; Schiff, H. I. J. Chem. Phys. 1956, 24, 1266
23. Walraven, J. T. M.; Silvera, I. F. Rev. Sci. Instrum. 1982, 53, 1167
24. Michel, A. E.; Usher, C. R.; Grassian, V. H. Atmos. Environ. 2003, 37, 3201
25. Chang, C. Y.; Tsai, W. T.; Cheng, L.; Chiu, C. Y.; Huang, W. H.; Yu, Y. H.; Liou, H. T.; Ku, Y.; Chen, J. N. J. Environ. Sci. Health, Part A 1997, 32, 1837
26. Feng, H.; Elam, J. W.; Libera, J. A.; Pellin, M. J.; Stair, P. C. Chem. Eng. Sci. 2009, 64, 560
27. Aaltonen, T.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskelä, M. Electrochem. Solid-State Lett. 2003, 6, C130
28. Kessels, W. M. M.; Knoops, H. C. M.; Dielissen, S. A. F.; Mackus, A. J. M.; van de Sanden, M. C. M. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 013114
29. Christensen, S. T.; Elam, J. W.; Lee, B.; Feng, Z.; Bedzyk, M. J.; Hersam, M. C. Chem. Mater. 2009, 21, 516
30. Baker, L.; Cavanagh, A. S.; Seghete, D.; George, S. M.; Mackus, A. J. M.; Kessels, W. M. M.; Liu, Z. Y.; Wagner, F. T. J. Appl. Phys. 2011, not supplied.
31. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Tung, Y. L.; Chi, Y.; Arstila, K.; Meinander, K.; Leskelä, M. J. Mater. Res. 2004, 19, 3353
32. Goldstein, D. N.; McCormick, J. A.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 19530
33. Elliott, S. D.; Scarel, G.; Wiemer, C.; Fanciulli, M.; Pavia, G. Chem. Mater. 2006, 18, 3764
34. Elam, J. W.; Martinson, A. B. F.; Pellin, M. J.; Hupp, J. T. Chem. Mater. 2006, 18, 3571
35. Kim, S. K.; Hwang, C. S.; Park, S. H. K.; Yun, S. J. Thin Solid Films 2005, 478, 103
36. Ferguson, J. D.; Weimer, A. W.; George, S. M. J. Vac. Sci. Technol. A 2005, 23, 118
37. Chen, W.; Lu, Y. H.; Wang, M.; Kroner, L.; Paul, H.; Fecht, H. J.; Bednarcik, J.; Stahl, K.; Zhang, Z. L.; Wiedwald, U.; Kaiser, U.; Ziemann, P.; Kikegawa, T.; Wu, C. D.; Jiang, J. Z. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 1320
38. Tsai, W. T.; Chang, C. Y.; Jung, F. H.; Chiu, C. Y.; Huang, W. H.; Yu, Y. H.; Liou, H. T.; Ku, Y.; Chen, J. N.; Mao, C. F. J. Environ. Sci. Health, Part A 1998, 33, 1705