-
1
-
-
11144294716
-
-
W. Sun, V. Adivarahan, M. Shatalov, Y. Lee, S. Wu, J. Yang, J. Zhang, and M. Asif Khan: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) L1419.
-
(2004)
Jpn. J. Appl. Phys
, vol.43
-
-
Sun, W.1
Adivarahan, V.2
Shatalov, M.3
Lee, Y.4
Wu, S.5
Yang, J.6
Zhang, J.7
Asif Khan, M.8
-
2
-
-
31544433423
-
-
J. Zhang, X. Hu, A. Lunev, J. Deng, Y. Bilenko, T. M. Katona, M. S. Shur, R. Gaska, and M. Asif Khan: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) 7250.
-
(2005)
Jpn. J. Appl. Phys
, vol.44
, pp. 7250
-
-
Zhang, J.1
Hu, X.2
Lunev, A.3
Deng, J.4
Bilenko, Y.5
Katona, T.M.6
Shur, M.S.7
Gaska, R.8
Asif Khan, M.9
-
3
-
-
41449111629
-
-
K. Nagamatsu, N. Okada, H. Sugimura, H. Tsuzuki, F. Mori, K. Iida, A. Bando, M. Iwaya, S. Kamiyama, H. Amano, and I. Akasaki: J. Cryst. Growth 310 (2008) 2326.
-
(2008)
J. Cryst. Growth
, vol.310
, pp. 2326
-
-
Nagamatsu, K.1
Okada, N.2
Sugimura, H.3
Tsuzuki, H.4
Mori, F.5
Iida, K.6
Bando, A.7
Iwaya, M.8
Kamiyama, S.9
Amano, H.10
Akasaki, I.11
-
5
-
-
0031999751
-
-
Y.-F. Wu, B. P. Keller, P. Fini, S. Keller, T. J. Jenkins, L. T. Kehias, S. P. Denbaars, and U. K. Mishra: IEEE Electron Device Lett. 19 (1998) 50.
-
(1998)
IEEE Electron Device Lett
, vol.19
, pp. 50
-
-
Wu, Y.-F.1
Keller, B.P.2
Fini, P.3
Keller, S.4
Jenkins, T.J.5
Kehias, L.T.6
Denbaars, S.P.7
Mishra, U.K.8
-
7
-
-
46649102064
-
-
T. Nanjo, M. Takeuchi, M. Suita, T. Oishi, Y. Abe, Y. Tokuda, and Y. Aoyagi: Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 263502.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett
, vol.92
, pp. 263502
-
-
Nanjo, T.1
Takeuchi, M.2
Suita, M.3
Oishi, T.4
Abe, Y.5
Tokuda, Y.6
Aoyagi, Y.7
-
8
-
-
12144285710
-
-
T. Onuma, S. F. Chichibu, A. Uedono, T. Sota, P. Cantu, T. M. Katona, J. F. Keading, S. Keller, U. K. Mishra, S. Nakamura, and S. P. DenBaars: J. Appl. Phys. 95 (2004) 2495.
-
(2004)
J. Appl. Phys
, vol.95
, pp. 2495
-
-
Onuma, T.1
Chichibu, S.F.2
Uedono, A.3
Sota, T.4
Cantu, P.5
Katona, T.M.6
Keading, J.F.7
Keller, S.8
Mishra, U.K.9
Nakamura, S.10
DenBaars, S.P.11
-
9
-
-
62549145337
-
-
A. Uedono, S. Ishibashi, S. Keller, C. Moe, P. Cantu, T. M. Katona, D. S. Kamber, Y. Wu, E. Letts, S. A. Newman, S. Nakamura, J. S. Speck, U. K. Mishra, S. P. DenBaars, T. Onuma, and S. F. Chichibu: J. Appl. Phys. 105 (2009) 054501.
-
(2009)
J. Appl. Phys
, vol.105
, pp. 054501
-
-
Uedono, A.1
Ishibashi, S.2
Keller, S.3
Moe, C.4
Cantu, P.5
Katona, T.M.6
Kamber, D.S.7
Wu, Y.8
Letts, E.9
Newman, S.A.10
Nakamura, S.11
Speck, J.S.12
Mishra, U.K.13
DenBaars, S.P.14
Onuma, T.15
Chichibu, S.F.16
-
15
-
-
59649123041
-
-
G. Meneghesso, G. Verzellesi, F. Danesin, F. Rampazzo, F. Zanon, A. Tazzoli, M. Meneghini, and E. Zanoni: IEEE Trans. Device Mater. Reliab. 8 (2008) 332.
-
(2008)
IEEE Trans. Device Mater. Reliab
, vol.8
, pp. 332
-
-
Meneghesso, G.1
Verzellesi, G.2
Danesin, F.3
Rampazzo, F.4
Zanon, F.5
Tazzoli, A.6
Meneghini, M.7
Zanoni, E.8
-
17
-
-
33846410702
-
-
D. Li, M. Aoki, T. Katsuno, H. Miyake, K. Hiramatsu, and T. Shibata: J. Cryst. Growth 298 (2007) 372.
-
(2007)
J. Cryst. Growth
, vol.298
, pp. 372
-
-
Li, D.1
Aoki, M.2
Katsuno, T.3
Miyake, H.4
Hiramatsu, K.5
Shibata, T.6
-
18
-
-
56249085890
-
-
H. Miyake, N. Masuda, Y. Ogawahara, M. Narukawa, K. Hiramatsu, T. Ezaki, and N. Kuwano: J. Cryst. Growth 310 (2008) 4885.
-
(2008)
J. Cryst. Growth
, vol.310
, pp. 4885
-
-
Miyake, H.1
Masuda, N.2
Ogawahara, Y.3
Narukawa, M.4
Hiramatsu, K.5
Ezaki, T.6
Kuwano, N.7
-
19
-
-
65749117013
-
-
M. Narukawa, R. Miyagawa, B. Ma, H. Miyake, and K. Hiramatsu: J. Cryst. Growth 311 (2009) 2903.
-
(2009)
J. Cryst. Growth
, vol.311
, pp. 2903
-
-
Narukawa, M.1
Miyagawa, R.2
Ma, B.3
Miyake, H.4
Hiramatsu, K.5
-
20
-
-
38849207492
-
-
K. Köhler, J. Wiegert, H. P. Menner, M. Maier, and L. Kirste: J. Appl. Phys. 103 (2008) 023706.
-
(2008)
J. Appl. Phys
, vol.103
, pp. 023706
-
-
Köhler, K.1
Wiegert, J.2
Menner, H.P.3
Maier, M.4
Kirste, L.5
-
23
-
-
34547842264
-
-
E. Ogawa, T. Hashizume, S. Nakazawa, T. Ueda, and T. Tanaka: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) L590.
-
(2007)
Jpn. J. Appl. Phys
, vol.46
-
-
Ogawa, E.1
Hashizume, T.2
Nakazawa, S.3
Ueda, T.4
Tanaka, T.5
-
24
-
-
0000332363
-
-
G. Martin, S. Strite, A. Agarwal, A. Rockett, H. Morkoc, W. R. L. Lambrecht, and B. Segall: Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 610.
-
(1994)
Appl. Phys. Lett
, vol.65
, pp. 610
-
-
Martin, G.1
Strite, S.2
Agarwal, A.3
Rockett, A.4
Morkoc, H.5
Lambrecht, W.R.L.6
Segall, B.7
-
26
-
-
79956053426
-
-
H. W. Jiang, C. M. Jeon, K. H. Kim, J. K. Kim, S. B. Bae, J. H. Lee, J. W. Choi, and J. L. Lee: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 1249.
-
(2002)
Appl. Phys. Lett
, vol.81
, pp. 1249
-
-
Jiang, H.W.1
Jeon, C.M.2
Kim, K.H.3
Kim, J.K.4
Bae, S.B.5
Lee, J.H.6
Choi, J.W.7
Lee, J.L.8
-
28
-
-
1842724516
-
-
D. Brunner, H. Angerer, E. Bustarret, F. Freudenberg, R. Dimitrov, O. Ambacher, and M. Stutzmann: J. Appl. Phys. 82 (1997) 5090.
-
(1997)
J. Appl. Phys
, vol.82
, pp. 5090
-
-
Brunner, D.1
Angerer, H.2
Bustarret, E.3
Freudenberg, F.4
Dimitrov, R.5
Ambacher, O.6
Stutzmann, M.7
-
29
-
-
0005948983
-
-
S. A. Nikishin, N. N. Faleev, A. S. Zubrilov, V. G. Antipov, and H. Temkin: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 3028.
-
(2000)
Appl. Phys. Lett
, vol.76
, pp. 3028
-
-
Nikishin, S.A.1
Faleev, N.N.2
Zubrilov, A.S.3
Antipov, V.G.4
Temkin, H.5
-
30
-
-
0035875423
-
-
M. Holtz, T. Prokofyeva, M. Seon, K. Copeland, J. Vanbuskirk, S. Williams, S. A. Nikishin, V. Tretyakov, and H. Temkin: J. Appl. Phys. 89 (2001) 7977.
-
(2001)
J. Appl. Phys
, vol.89
, pp. 7977
-
-
Holtz, M.1
Prokofyeva, T.2
Seon, M.3
Copeland, K.4
Vanbuskirk, J.5
Williams, S.6
Nikishin, S.A.7
Tretyakov, V.8
Temkin, H.9
-
34
-
-
3342900182
-
-
W. Walukiewicz, S. X. Li, J. Wu, K. M. Yu, J. W. Ager III, E. E. Haller, H. Lu, and W. J. Schaff: J. Cryst. Growth 269 (2004) 119.
-
(2004)
J. Cryst. Growth
, vol.269
, pp. 119
-
-
Walukiewicz, W.1
Li, S.X.2
Wu, J.3
Yu, K.M.4
Ager III, J.W.5
Haller, E.E.6
Lu, H.7
Schaff, W.J.8
-
40
-
-
33745226240
-
-
T. Kyono, H. Hirayama, K. Akita, T. Nakamura, M. Adachi, and K. Ando: J. Appl. Phys. 99 (2006) 114509.
-
(2006)
J. Appl. Phys
, vol.99
, pp. 114509
-
-
Kyono, T.1
Hirayama, H.2
Akita, K.3
Nakamura, T.4
Adachi, M.5
Ando, K.6
|