Replica mold for nanoimprint lithography from a novel hybrid resin

Langmuir

Volumn 25, Issue 19, 2009, Pages 11768-11776

  Lee, Bong Kuk ^a   Hong, Lan Young ^b   Lee, Hea Yeon ^a,c   Kim, Dong Pyo ^b   Kawai, Tomoji ^a,c  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

^b Department of Fine Chemical Engineering and Chemistry ^*  (South Korea)

^c Konkuk University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COMBINATORIAL METHOD; FEATURE RESOLUTION; FEATURE SIZES; HIGH TEMPERATURE AND PRESSURE; HIGH TRANSPARENCY; LOW PRESSURES; LOW SURFACE ENERGY; LOW VISCOSITY; MASTER MOLDS; MOLD SURFACES; NANOIMPRINTING LITHOGRAPHY; ORGANIC-INORGANIC HYBRID; PLASMA TREATMENT; POLYMER REPLICA; ROOM TEMPERATURE; TRANSPARENT GLASS; UV LIGHT; UV- AND; YOUNG'S MODULUS;

GAS PERMEABILITY; MECHANICAL PROPERTIES; MOLDS; NANOIMPRINT LITHOGRAPHY; NANOSTRUCTURES; ORGANIC SOLVENTS; PLASMA APPLICATIONS; RESINS; SURFACE CHEMISTRY; SURFACE TENSION;

SURFACES;

EID: 70349902976     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la901203e     Document Type: Article

References (49)

1. Xia, Y.; Kim, E.; Zhao, X. M.; Rogers, J. A.; Prentiss, M.; Whitesides, G. M. Science 1996, 273, 347-349.
2. Zhao, X. M.; Xia, Y.; Whitesides, G. M. Adv. Mater. 1996, 8, 837-840.
3. Kim, E.; Xia, X.; Whitesides, G. M. Nature 1995, 376, 581-584.
4. Kim, E.; Xia, Y.; Zhao, X. M.; Whitesides, G. M. Adv. Mater. 1997, 9, 651-654.
5. Chou, S. Y.; Krauss, P. R.; Renstrom, P. J. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 3114-3116.
6. Chou, S. Y.; Krauss, P. R.; Renstrom, J. P. Science 1996, 272, 85-87.
7. Haisma, J.; Verheijen, M.; Vandenheuvel, K.; Vandenberg, J. J. Vac. Sci. Technol. B 1996, 14, 4124-4128.
8. Ruchhoeft, P.; Colburn, M.; Choi, B.; Nounu, H.; Johnson, S.; Bailey, T.; Damle, S.; Stewart, M.; Ekerdt, J.; Sreenivasan, S. V. J. Vac. Sci. Technol. B 1999, 17, 2965-2969.
9. Colburn, M.; Johnson, S.; Stewart, M.; Damle, S.; Bailey, T. C.; Choi, B.; Wedlake, M.; Michaelson, T.; Sreenivasan, S. V.; Ekerdt, J. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1999, 3676, 379-389.
10. Guo, L. J.; Krauss, P. R.; Chou. S. Y. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1881-1883.
11. McAlpine, M. C.; Friedman, R. S.; Lieber, C. M. Nano Lett. 2003, 3, 443-445.
12. Li, D.; Guo, L. J. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 63513-1-63513-3.
13. Guo, L. J.; Cheng, X.; Chao, C. Y. J. Mod. Opt. 2002, 49, 663-673.
14. Pisignano, D.; Persano, L.; Raganato, M. F.; Visconti, P.; Cingolani, R.; Barbarella, G.; Favaretto, L.; Gigli. G. Adv. Mater. 2004, 16, 525-529.
15. Ahn, S. W.; Lee, K. D.; Kim, J. S.; Kim, S. H.; Park, J. D.; Lee, S. H.; Yoon, P. W. Nanotechnology 2005, 16, 1874-1877.
16. Wu, W.; Cui, B.; Sun, X. Y.; Zhang, W.; Zhuang, L.; Kong, L. S.; Chou, S. Y. J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 3825-3829.
17. Chen, Y.; Lebib, A.; Li, S. P.; Natali, M.; Peyrade, D.; Cambril, E. Microelectron. Eng. 2001, 57-58, 405-410.
18. McClelland, G. M.; Hart, M. W.; Rettner, C. T.; Best, M. E.; Carter, K. R.; Terris, B. D. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1483-1485.
19. Hoff, J. D.; Cheng, L. J.; Meyhofer, E.; Guo, L. J.; Hunt, A. J. Nano Lett. 2004, 4, 853-857.
20. Lee, B. K.; Lee, H. Y.; Kim, P.; Suh, K. Y.; Kawai, T. Lab Chip, 2009, 9, 132-139.
21. Lee, B. K.; Lee, H. Y.; Kim, P.; Suh, K. Y.; Seo, J. H.; Cha, H. J.; Kawai, T. Small 2008, 4, 342-348.
22. Khang, D. Y.; Kang, H.; Kim, T. I.; Lee, H. H. Nano Lett. 2004, 4, 633-637.
23. Lu, Y.; Chen, X.; Hu, W.; Lu, N.; Sun, J.; Shen, J. Langmuir 2007, 23, 3254-3259.
24. Becker, H.; Heim, U. Sens. Actuators A: Phys. 2000, A83, 130-135.
25. Gourgon, C.; Perret, C.; Micouin, G.; Lazzarino, F.; Tortai, J. H.; Joubert, O. J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 98-105.
26. Choi, K. M.; Rogers, J. A. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 4060-4061.
27. Kim, Y. S.; Lee, H. H.; Hammond, P. T. Nanotechnology 2003, 14, 1140-1144.
28. Kim, Y. S.; Lee, N. Y.; Lim, J. R.; Lee, M. J.; Park, S. Chem. Mater. 2005, 17, 5867-5870.
29. Lee, N. Y.; Lim, J. R.; Lee, M. J.; Park, S.; Kim, Y. S. Langmuir 2006, 22, 7689-7694.
30. Khang, D. Y.; Lee, H. H. Langmuir 2004, 20, 2445-2448.
31. Rolland, J. P.; Hagberg, E. C.; Denison, G. M.; Carter, K. R.; DeSimone, J. M. Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 5796-5799.
32. Rolland, J. P.; Van Dam, R. M.; Schorzman, D. A.; Quake, S. R.; DeSimone, J. M. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 2322-2323.
33. Truong, T. T.; Lin, R.; Jeon, S.; Lee, H. H.; Maria, J.; Gaur, A.; Hua, F.; Meinel, I.; Rogers, J. A. Langmuir 2007, 23, 2898-2905.
34. Kim, W. S.; Choi, D. G.; Bae, B. S. Nanotechnology 2006, 17, 3319-3324.
35. Ge, H.; Wu, W.; Li, Z.; Jung, G. Y.; Olynick, D.; Chen, Y.; Liddle, J. A.; Wang, S. Y.; Williams, R. S. Nano Lett. 2005, 5, 179-182.
36. Kim, D. P.; Hong, L. Y.; Won, J. H.; Park, Y. S.; Shin, C. K. International Patent WO 07/069867 A1.
37. Que, W.; Hu, X. Opt. Mater. 2003, 22, 31-37.
38. Zhao, D.; Feng, J.; Huo, Q.; Melosh, N.; Fredrickson, G. H.; Chmelka, B. F.; Stucky, G. D. Science 1998, 279, 548-552.
39. Jha, P.; Mason, L. W.; Way, J. D. J. Membr. Sci. 2006, 272, 125-136.
40. Stern, S. A.; Shah, V. M.; Hardy, B. J. J. Polym. Sci. Phys. Ed. 1987, 25, 1263-1298.
41. Johnson, S.; Burns, R.; Kim, E. K.; Dickey, M.; Schmid, G.; Meiring, J.; Burns, S.; Willson, C. G.; Convey, D.; Wei, Y.; Fejes, P.; Gehoski, K.; Mancini, D.; Nordquist, K.; Dauksher, W. J.; Resnick, D. J. J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 23, 2553-2556.
42. Dauksher, W. J.; Nordquist, K. J.; Mancini, D. P.; Resnick, D. J.; Baker, J. H.; Hooper, A. E.; Talin, A. A.; Bailey, T. C.; Lemonds, A. M.; Sreenivasan, S. V.; Ekerdt, J. J.; Willson, C. G. J. Vac. Sci. Tech. B 2002, 20, 2896-2901.
43. Ferguson, G. S.; Chaudhury, M. K.; Whitesides, G. M. Macromoleculess 1993, 26, 5870-5875.
44. Jeon, N. L.; Nuzzo, R. G. Langmuir 1995, 21, 3024-3026.
45. Guo, L. J. J. Phys. D: Appl. Phys. 2004, 37, R123-R141.
46. Rowland, H. D.; Sun, A. C.; Schunk, P. R.; King, W. P. J. Micromech. Microeng. 2005, 15, 2414-2425.
47. Ojima, K.; Otsuka, Y.; Matsumoto, T.; Kawai, T.; Nakamatsu, K.; Matsui, S. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 234110-1-234110-3.
48. Li, S.; Yan, Y.; Liu, N.; Chan-Park, M. B.; Zhang, Q. Small 2007, 3, 616-621.
49. Nakao, H.; Gad, M.; Sugiyama, S.; Otobe, K.; Ohtani, T. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 7162-7163.