Nanoscale patterning of magnetic islands by imprint lithography using a flexible mold

Applied Physics Letters

Volumn 81, Issue 8, 2002, Pages 1483-1485

  McClelland, Gary M ^a   Hart, Mark W ^a   Rettner, Charles T ^a   Best, Margaret E ^a   Carter, Kenneth R ^a   Terris, Bruce D ^a  

^a IBM ALMADEN RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

IMPRINT LITHOGRAPHY; MAGNETIC ISLAND; NANOMOLDING; NANOSCALE PATTERNING; RESIST FILMS; SINGLE DOMAINS;

LITHOGRAPHY; MAGNETIC FORCE MICROSCOPY; MOLDS; POLYMERIC FILMS; SILICON COMPOUNDS;

NANOMAGNETICS;

EID: 79956012977     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1501763     Document Type: Article

References (23)

1. R. M. H. New, R. F. W. Pease, and R. L. White, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3196 (1994). jvb JVTBD9 0734-211X
2. R. L. White, R. M. H. New, and R. F. W. Pease, IEEE Trans. Magn. 33, 990 (1997). emg IEMGAQ 0018-9464
3. C. A. Ross, H. I. Smith, T. Savas, M. Schattenburg, M. Farhoud, M. Hwang, M. Walsh, M. C. Abraham, and R. C. Ram, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 3168 (1999). jvb JVTBD9 0734-211X
4. W. Wu, B. Cui, X. Sun, W. Zhang, L. Zhuang, L. Kong, and S. Chou, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3825 (1998). jvb JVTBD9 0734-211X
5. J. Moritz, S. Landis, J. P. Nozières, A. Lebib, Y. Chen, and B. Diény, J. Appl. Phys. 91, 7314 (2002). jap JAPIAU 0021-8979
6. M. Natali, A. Lebib, E. Cambril, Y. Chen, I. L. Prejbeanu, and K. Ounadjela, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2779 (2001). jvb JVTBD9 0734-211X
7. C. T. Rettner, M. E. Best, and B. D. Terris, IEEE Trans. Magn. 37, 1649 (2001). emg IEMGAQ 0018-9464
8. K. Koike, H. Matsuyama, Y. Hirayama, K. Tanahashi, T. Kanemura, O. Kitakami, and Y. Shimada, Appl. Phys. Lett. 78, 784 (2001). apl APPLAB 0003-6951
9. J. Lohau, A. Moser, C. T. Rettner, M. E. Best, and B. D. Terris, Appl. Phys. Lett. 78, 990 (2001). apl APPLAB 0003-6951
10. M. Albrecht, A. Moser, C. T. Rettner, S. Anders, T. Thomson, and B. D. Terris, Appl. Phys. Lett. 80, 3409 (2002). apl APPLAB 0003-6951
11. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 67, 3114 (1995). apl APPLAB 0003-6951
12. J. Haisma, M. Verheijen, K. van den Heuvel, and J. van den Berg, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 4124 (1996). jvb JVTBD9 0734-211X
13. A. Lebib, Y. Chen, J. Bourneix, E. Cambril, L. Couraud, and H. Launois, Microelectron. Eng. 46, 319 (1999). mie MIENEF 0167-9317
14. B. Heidari, I. Maximov, and L. Montelius, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 3557 (2000). jvb JVTBD9 0734-211X
15. S. Y. Chou, P. R. Krauss, W. Zhang, L. Guo, and L. Zhuang, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 2897 (1997). jvb JVTBD9 0734-211X
16. T. Bailey, B. J. Choi, M. Colburn, M. Meissl, S. Shaya, J. G. Ekerdt, S. V. Sreenivasan, and C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 3572 (2000). jvb JVTBD9 0734-211X
17. S. Landis, B. Rodmacq, and B. Dieny, Phys. Rev. B 62, 12271 (2000). prb PRBMDO 0163-1829
18. C. Y. Poon and B. Bhushan, Wear 190, 89 (1995). wea WEARCJ 0043-1648
19. M. Colburn, A. Grot, M. Amistoso, B. J. Choi, T. Bailey, J. Ekerdt, S. V. Sreenivasan, J. Hollenhorst, and C. G. Willson, Proc. SPIE 3997, 453 (2000). spi PSISDG 0277-786X
20. A. Bietsch and B. Michel, J. Appl. Phys. 88, 4310 (2000). jap JAPIAU 0021-8979
21. K. L. Johnson, Contact Mechanics (Cambridge University Press, Cambridge, UK, 1985).
22. J. G. Kloosterboer, G. J. M. Lippits, and H. C. Meinders, Philips Tech. Rev. 40, 298 (1982). plr PTREAN 0031-7926
23. D. Weller, L. Folks, M. Best, E. E. Fullerton, B. D. Terris, G. J. Kusinski, K. M. Krishnan, and G. Thomas, J. Appl. Phys. 89, 7525 (2001). jap JAPIAU 0021-8979