The partially degraded hydrophilic silane pattern and its application in studying the structures of long chain alkane films

Langmuir

Volumn 25, Issue 10, 2009, Pages 5594-5601

  Cai, Yuguang ^a  

^a UNIVERSITY OF KENTUCKY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALKANE MOLECULES; ALKYL CHAIN; ATOMIC FORCE MICROSCOPES; CONDUCTING AFM; DWELL TIME; FILM SURFACES; HEXATRIACONTANE; HIGH ENERGY; HYDROPHILIC SURFACES; LOCAL PROBES; LONG CHAIN ALKANE; LOW ENERGY SURFACES; OCTADECYLTRICHLOROSILANE; ROOM TEMPERATURE; SCANNING PROBES; SHAPED PATTERN; SUBMILLIMETER;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CARBOXYLIC ACIDS; HYDROPHILICITY; MELTING POINT; MOLECULES; ORGANIC ACIDS; PROBES; SEAWEED; SILANES;

PARAFFINS;

EID: 66249143374     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la9004483     Document Type: Article

References (50)

1. Merkl, C.; Pfohl, T.; Riegler, H. Phys. Rev. Lett. 1997, 79, 4625.
2. Holzwarth, A.; Leporatti, S.; Riegler, H. Europhys. Lett. 2000, 52, 653.
3. Schollmeyer, H.; Ocko, B.; Riegler, H. Langmuir 2002, 18, 4351.
4. Volkmann, U. G.; Pino, M.; Altamirano, L. A.; Taub, H.; Hansen, F. Y. J. Chem. Phys. 2002, 116, 2107.
5. Mo, H.; Taub, H.; Volkmann, U. G.; Pino, M.; Ehrlich, S. N.; Hansen, F. Y.; Lu, E.; Miceli, P. Chem. Phys. Lett. 2003, 277, 99.
6. Schollmeyer, H.; Struth, B.; Riegler, H. Langmuir 2003, 19, 5042.
7. Lazar, P.; Schollmeyer, H.; Riegler, H. Phys. Rev. Lett. 2005, 94, 116101.
8. Trogisch, S.; Simpson, M. J.;Taub, H.; Volkmann, U. G.; Pino, M.; Hansen, F. Y. J. Chem. Phys. 2005, 123, 154703.
9. Bai, M.; Knorr, K.; Simpson, M. J.; Trogisch, S.; Taub, H.; Ehrlich, S. N.; Mo, H.; Volkmann, U. G.; Hansen, F. Y. Europhys. Lett. 2007, 79, 26003.
10. Basu, S.; Satija, S. K. Langmuir 2007, 23, 8331.
11. Wu, X. Z.; Sirota, E. B.; Sinha, S. K.; Ocko, B. M.; Deutsch, M. Phys. Rev. Lett. 1993, 70, 958.
12. Ocko, B. M.; Wu, X. Z.; Sirota, E. B.; Sinha, S. K.; Gang, O.; Deutsch, M. Phys. Rev. E 1997, 55, 3164.
13. Knufing, L.; Schollmeyer, H.; Riegler, H.; Mecke, K. Langmuir 2005, 21, 992.
14. Checco, A.; Cai, Y.; Gang, O.; Ocko, B. M. Ultramicroscopy 2006, 106, 703.
15. Chowdhury, D.; Maoz, R.; Sagiv, J. Nano Lett. 2007, 7, 1770.
16. Darhuber, A. A.; Troian, S. M.; Davis, J. M.; Miller, S. M.; Wagner, S. J. Appl. Phys. 2000, 88, 5119.
17. Day, H. C.; Alleea, D. R. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 2691.
18. Garcia, R.; Tello, M. Nano Lett. 2004, 4, 1115.
19. Calleja, M.; Garcia, R. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 3427.
20. Fontaine, P. A.; Dubois, E.; Stievenard, D. J. Appl. Phys. 1998, 84, 1776.
21. Avouris, P.; Martel, R.; Hertel, T.; Sandstrom, R. Appl. Phys. A: Mater. 1998, 66, S659.
22. Kinser, C. R.; Schmitz, M. J.; Hersam, M. C. Nano Lett. 2005, 5, 91.
23. Schoer, J. K.; Zamborini, F. P.; Crooks, R. M. J. Phys. Chem. 1996,100. 11086.
24. Jang, J. W.; Sanedrin, R. G.; Maspoch, D.; Hwang, S.; Fujigaya, T.; Jeon, Y. M.; Vega, R. A.; Chen, X. D.; Mirkin, C. A. Nano Lett. 2008, 8, 1451.
25. Yang, M. L.; Zheng, Z. K.; Liu, Y. Q.; Zhang, B. L. Nanotechnology 2006, 17, 330.
26. Xie, X. N.; Chung, H. J.; Sow, C. H.; Wee, A. T. S. Chem. Phys. Lett. 2004, 388, 446.
27. Maoz, R.; Cohen, S. R.; Sagiv, J. Adv. Mater. 1999, 11, 55.
28. Sugimura, H. Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, 4477.
29. Maoz, R.; Cohen, S. R.; Sagiv, J. Adv. Mater. 1999, 11, 55.
30. Maoz, R.; Frydman, E.; Cohen, S. R.; Sagiv, J. Adv. Mater. 2000, 12, 725.
31. Maoz, R.; Frydman, E.; Cohen, S. R.; Sagiv, J. Adv. Mater. 2000, 12, 424.
32. Liu, S. T.; Maoz, R.; Sagiv, J. Nano Lett. 2004, 4, 845.
33. Liu, S. T.; Maoz, R.; Schmid, G.; Sagiv, J. Nano Lett. 2002, 2, 1055.
34. Sugimura, H.; Hanji, T.; Hayashi, K.; Takai, O. Ultramicroscopy 2002, 91, 221.
35. Wouters, D.; Willems, R.; Hoeppener, S.; Flipse, C. F. J.; Schubert, U. S. Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 938.
36. Horcas, I.; Fernandez, R.; Gomez-Rodriguez, J. M.; Colchero, J.; Gomez- Herrero, J.; Baro, A. M. Rev. Sci. Instrum. 2007, 78, 013705.
37. Maoz, R.; Sagiv, J.; Degenhardt, D.; Miihwald, H.; Quint, P. Supramol. Sci. 1995, 2,9.
38. Cai, Y. G. Langmuir 2008, 24, 337.
39. Cohen, H.; Maoz, R.; Sagiv, J. Nano Lett. 2006, 6, 2462.
40. Han, J.; Lee, K. H.; Fujii, S.; Sano, H.; Kim, Y. J.; Murase, K.; Ichii, T.; Sugimura, H. Jpn. J. Appl. Phys. 2007, 46, 5621.
41. Such, M. W.; Kramer, D. E.; Hersam, M. C. Ultramicroscopy 2004, 99, 189.
42. Hoffmann, A.; Jungk, T.; Soergel, E. Rev. Sci. Instrum. 2007, 78, 016101.
43. Peter, F.; Rudiger, A.; Waser, R. Rev. Sci. Instrum. 2006, 77, 036103.
44. Sherman, R.; Whitlock, W. J. Vac. Sci. Technol. 1990, B8, 563.
45. Wasserman, S. R.; Whitesides, G. M.; Tidswell, I. M.; Ocko, B. M.; Pershan, P. S.; Axe, J. D. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 5852.
46. Yan, B.; Liu, L.; Astor, C. A.; Tang, Q. Anal. Chem. 1999, 71, 4564.
47. Darhuber, A. A.; Troian, S. M.; Miller, S. M.; Wagner, S. J. Appl. Phys. 2000, 87, 7768.
48. Dai, P.; Wang, S. K.; Taub, H.; Buckley, J. E.; Ehrlich, S. N.; Larese, J. Z.; Binnig, G.; Smith, D. P. E. Phys. Rev. B 1993, 47, 7401.
49. Morishige, K.; Takami, Y.; Yokota, Y. Phys. Rev. B 1993, 48, 8277.
50. Claypool, C. L.; Faglioni, F.; Goddard, W. A.; Gray, H. B.; Lewis, N. S.; Marcus, R. A. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 5978.