Study of acid-base equilibrium in chemically amplified resist

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 46, Issue 11, 2007, Pages 7285-7289

  Natsuda, Kenichiro ^a   Kozawa, Takahiro ^a   Okamoto, Kazumasa ^a   Tagawa, Seiichi ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

Acid base equilibrium; Base quencher; Chemically amplified resist; Proton affinity; Protonation

Indexed keywords

MATHEMATICAL MODELS; PROTONATION; THIN FILMS;

ACID-BASE EQUILIBRIUM; BASE QUENCHER; CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST; PROTON AFFINITY; ULTRAFINE PATTERNS;

PHOTORESISTS;

EID: 35948951622     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.46.7285     Document Type: Article

References (38)

1. W. Hinsberg, F. A. Houle, J. Hoffnagle, M. Sanchez, G. Wallraff, M. Morrison, and S. Frank: J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998) 3689.
2. H. Fukuda: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 3748.
3. G. M. Gallatin: Proc. SPIE 5754 (2004) 38.
4. T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 23 (2005) 2716.
5. A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, and H. B. Cao: Nanotechnology 17 (2006) 1543.
6. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 4301.
7. T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) 3055.
8. T. Kozawa, S. Tagawa, H. Oizumi, and I. Nishiyama: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) L27.
9. A. Nakano, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 6866.
10. H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, and M. J. Leeson: Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) L142.
11. T. Kozawa, S. Nagahara, Y. Yoshida, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 15 (1997) 2582.
12. A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 3981.
13. A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 4363.
14. T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa: J. Photopolym. Sci. Technol. 20 (2007) 577.
15. T. Kozawa, A. Saeki, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 22 (2004) 3489.
16. T. Kozawa, A. Saeki, A. Nakano, Y. Yoshida, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 21 (2003) 3149.
17. T. Kozawa and S. Tagawa: J. Appl. Phys. 99 (2006) 054509.
18. W. D. Hinsberg, F. A. Houle, M. I. Sanchez, M. E. Morrison, G. M. Wallraff, C. E. Larson, J. A. Hoffnagle, P. J. Brock, and G. Breyta: Proc. SPIE 3999 (2000) 148.
19. T. Ushirogouchi, K. Asakawa, M. Nakase, and A. Hongu: Proc. SPIE 2438 (1995) 609.
20. T. B. Michaelson, A. R. Pawloski, A. Acheta, Y. Nishimura, and C. G. Willson: Proc. SPIE 5753 (2005) 368.
21. B. D. Vogt, S. Kang, V. M. Prabhu, A. Rao, E. K. Lin, W. Wu, S. K. Satija, and K. Turnquest: J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2007) 175.
22. Y. Kawai, A. Otaka, A. Tanaka, and T. Matsuda: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 7023.
23. K. Asakawa, T. Ushirogouchi, and M. Nakase: Proc. SPIE 2438 (1995) 563.
24. W. D. Hinsberg, F. A. Houle, M. I. Sanchez, and G. M. Wallraff: IBM J. Res. Dev. 45 (2001) 667.
25. C. R. Szmanda, R. J. Kavanagh, J. F. Bohland, J. F. Cameron, P. Trefonas III, and R. F. Blacksmith: Proc. SPIE 3678 (1999) 857.
26. A. R. Pawloski, Christian, and P. F. Nealey: Chem. Mater. 13 (2001) 4154.
27. J. Nakamura, H. Ban, and A. Tanaka: in Microelectronics Technology: Polymers for Advanced Imaging and Packaging, ed. J. L. Brash and T. A. Horbett (American Chemical Society, Washington, D.C., 1995) ACS Symp. Ser., No. 614, p. 69.
28. X. Shi: J. Vac. Sci. Technol. B 17 (1999) 350.
29. S. Nagahara, L. Yuan, W. J. Poppe, A. Neureuther, Y. Kono, A. Sekiguchi, K. Fujiwara, T. G. Watanabe, K. Taira, S. Kusumoto, T. Nakano, and T. Shimokawa: Proc. SPIE 5753 (2005) 338.
30. K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) L1256.
31. S. G. Lias, J. F. Liebman, and R. D. Levin: J. Phys. Chem. Ref. Data 13 (1984) 695.
32. M. Montalti, A. Credi, L. Prodi, and M. T. Gandolfi: Handbook of Photochemistry (CRC Press, Boca Raton, FL, 2006) 3rd ed.
33. G. Pohler, J. C. Scaiano, and R. Sinta: Chem. Mater. 9 (1997) 3222.
34. C. Coenjarts, J. Cameron, G. Pohlers, J. C. Scaiano, and A. Zampini: J. Appl. Polym. Sci. 78 (2000) 1897.
35. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Ando, M. Sato, H. Romano, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) L848.
36. T. Kozawa, M. Uesaka, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 6049.
37. I. Blakey, L. Chen, B. Dargaville, H. Liu, A. Whittaker, W. Conley, E. Piscani, G. Rich, A. Williams, and P. Zimmerman: Proc. SPIE 6519 (2007) 651909.
38. N. N. Matsuzawa, H. Oizumi, S. Mori, S. Irie, S. Shirayone, E. Yano, S. Okazaki, A. Ishitani, and D. A. Dixon: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 7109.