Acid generation mechanism of poly(4-hydroxystyrene)-based chemically amplified resists for post-optical lithography: Acid yield and deprotonation behavior of poly(4-hydroxystyrene) and poly(4-methoxystyrene)

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 45, Issue 9 A, 2006, Pages 6866-6871

  Nakano, Atsuro ^a   Kozawa, Takahiro ^a   Okamoto, Kazumasa ^a   Tagawa, Seiichi ^a   Kai, Toshiyuki ^b   Shimokawa, Tsutomu ^b  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

^b JSR CORPORATION   (Japan)

Author keywords

Acid generation mechanism; Deprotonation; Electron beam; EUV; Poly(4 hydroxystyrene)

Indexed keywords

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; ELECTRON BEAMS; IONIZING RADIATION; OPTICAL RESOLVING POWER; PHOTOLITHOGRAPHY; PROTONS;

ACID GENERATION MECHANISM; DEPROTONATION; POLY(4-HYDROXYSTYRENE); POLY(4-METHOXYSTYRENE);

POLYSTYRENES;

EID: 33749015984     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.45.6866     Document Type: Article

References (57)

1. T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 23 (2005) 2716.
2. A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa and H. B. Cao: Nanotechnology 17 (2006) 1543.
3. H. Ito and C. G. Willson: Polym. Eng. Sci. 23 (1983) 1012.
4. H. Ito: Adv. Polym. Sci. 172 (2005) 37.
5. S. Tagawa, S. Nagahara, T. Iwamoto, M. Wakita, T. Kozawa, Y. Yamomoto, D. Werst and A. D. Trifunac: Proc. SPIE 3999 (2000) 204.
6. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 4301.
7. T. Kozawa, A. Saeki, A. Nakano, Y. Yoshida and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 21 (2003) 3149.
8. T. Kozawa, A. Saeki and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 22 (2004) 3489.
9. A. Nakano, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Szreder, J. F. Wishart, T. Kai and T. Shimokawa: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) L197.
10. A. Nakano, K. Okaraoto, T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 4363.
11. A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 3981.
12. H. Yamamoto, A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 3971.
13. T. Kozawa, S. Nagahara, Y. Yoshida and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B 15 (1997) 2582.
14. A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4213.
15. T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Nakano, A. Saeki, K. Okamoto and S. Tagawa: J. Photopolym. Sci. Technol. 17 (2004) 449.
16. S. Nagahara, Y. Yamashita, T. Taguchi, T. Kozawa, Y. Yoshida and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996) 6491.
17. C. Coenjarts, J. Cameron, N, Deschamps, D. Hambly, G. Pohlers, J. C. Scaiano, R. Sinta, S. Virdee and A. Zampini: Proc. SPIE 3678 (1999) 1062.
18. G. Pohlers, J. C. Scaiano and R. Sinta: Chem. Mater, 9 (1997) 3222.
19. N. P. Hacker, D. C. Hofer and K. M. Welsh: J. Photopolym. Sci. Technol. 5 (1992) 35.
20. J. F. Cameron, N. Chan, K. Moore and G. Pohlers: Proc. SPIE 4345 (2001) 106.
21. J. L. Dektar and N. P. Hacker: J. Am. Chem. Soc. 112 (1990) 6004.
22. P. O'Neill, S. Steenken and D. Schulte-Frohlinde: J. Phys. Chem. 79 (1975) 2773.
23. J. Holcman and K. Sehested: J. Phys. Chem. 80 (1976) 1642.
24. S. Takamuku, S. Komitsu and S. Toki: Radiat. Phys. Chem. 34 (1989) 553.
25. M. Jonsson, J. Lind, T. Reitberger, T. E. Eriksen and G. Merenyi: J. Phys. Chem. 97(1993) 11278.
26. O. Ito, S. Akiho and M. Iino: J. Org. Chem. 54 (1989) 2436.
27. E. Baciocchi, T. D. Giacco and F. Elisei: J. Am. Chem. Soc. 115 (1993) 12290.
28. W. F. Forbes and P. D. Sullivan: J. Am. Chem. Soc. 88 (1966) 2862.
29. P. D. Sullivan and N. A. Brette: J. Phys. Chem. 79 (1975) 474.
30. C. J. Schlesener and J. K. Kochi: J. Org. Chem. 49 (1984) 3142.
31. A. Ronlan, J. Coleman, O. Hammerich and V. D. Parker: J. Am. Chem. Soc. 96 (1974) 845.
32. R. P. Buck and D. E. Wagoner: J. Electroanal. Chem. 115 (1980) 89.
33. A. Zweig: J. Phys. Chem. 67 (1963) 506.
34. K. D. Raner, J. Lusztyk and K. U. Ingold: J. Phys. Chem. 83 (1989) 564.
35. S. G. Lias, J. F. Liebman and R. D. Levin: J. Phys. Chem. Ref. Data 13 (1984) 695.
36. E. S. E. van Beelen, T. A. Koblenz, S. Ingemann and S. Hammerum: J. Phys. Chem. A 108 (2004) 2787.
37. S. Tagawa, S. Arai, A. Kira, M. Imamura, Y. Tabata and K. Oshima: J. Polym. Sci., Part B 10 (1972) 295.
38. G. Porter and F. J. Wright: Trans. Faraday Soc. 51 (1955) 1469.
39. E. J. Land, G. Porter and E. Strachan: Trans. Faraday Soc. 57 (1961) 1885.
40. E. J. Land and G. Porter: Trans. Faraday Soc. 59 (1963) 2016.
41. E. J. Land and M. Ebert: Trans. Faraday Soc. 63 (1967) 1181.
42. W. T. Dixon and D. Murphy: J. Chem. Soc., Faraday Trans. 2 72 (1976) 1221.
43. W. T. Dixon and D. Murphy: J. Chem. Soc., Faraday Trans. 2 74 (1978) 432.
44. D. M. Holton and D. Murphy: J. Chem. Soc., Faraday Trans. 2 75 (1979) 1637.
45. K. Kesper, F. Diehl, J. G. G. Simon, H. Specht and A. Schweig: Chem. Phys. 153 (1991) 511.
46. K. Maruyama, H. Furuta and A. Osuka: Tetrahedron 42 (1986) 6149.
47. G. N. R. Tripathi and R. H. Schuler: J. Phys. Chem. 91 (1987) 5881.
48. L. C. T. Shoute and P. Neta: J. Phys. Chem. 94 (1990) 2447.
49. O. Brede, H. Orthner, V. Zubarev and R. Hermann: J. Phys. Chem. 100 (1996) 7097.
50. M. R. Ganapathi, R. Hermann, S. Naumov and O. Brede: Phys. Chem. Chem. Phys. 2 (2000) 4947.
51. F. G. Bordwell and J.-P. Cheng: J. Am. Chem. Soc. 113 (1991) 1736.
52. T. A. Gadosy, D. Shukla and L. J. Johnston: J. Phys. Chem. A 103 (1999) 8834.
53. M. R. Ganapathi, S. Naumov, R. Hermann and O. Brede: Chem. Phys. Lett. 337 (2001) 335.
54. D. Li and J. Brisson: Polymer 39 (1998) 793.
55. L. Singh, P. J. Ludovice and C. L. Henderson: Proc. SPIE 5753 (2005) 319.
56. T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) 3908.
57. T. Kozawa and S. Tagawa: J. Appl. Phys. 99 (2006) 054509.