Chemistry of diffusion barrier film formation: Adsorption and dissociation of tetrakis(dimethylamino)titanium on Si(100)-2 × 1

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 111, Issue 12, 2007, Pages 4800-4808

  Rodríguez Reyes, Juan Carlos F ^a   Teplyakov, Andrew V ^a  

^a UNIVERSITY OF DELAWARE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIFFUSION BARRIER FILMS; DISSOCIATION PATHWAYS; NUCLEOPHILIC ATTACKS;

DENSITY FUNCTIONAL THEORY; DIFFUSION; DISSOCIATION; FILM PREPARATION; FUNCTIONAL ANALYSIS; INFRARED SPECTROSCOPY; MICROELECTRONICS;

THIN FILMS;

EID: 34147098455     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp067929b     Document Type: Article

References (80)

1. Kaloyeros, A. E.; Eisenbraun, E. Anna. Rev. Mater. Sci. 2000, 30, 363-385.
2. Kim, H. J. Vac. Sci. Technol., B 2003, 21, 2231-2261.
3. Killampalli, A. S.; Ma, P. F.; Engstrom, J. R. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 6300-6310.
4. Dube, A.; Chadeayne, A. R.; Sharma, M.; Wolczanski, P. T.; Engstrom, J. R. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 14299-14309.
5. Haran, M.; Engstrom, J. R.; Clancy, P. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 836-847.
6. Bocharov, S.; Teplyakov, A. V. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 7196-7197.
7. Bocharov, S.; Zhang, Z.; Beebe, T. P., Jr.; Teplyakov, A. V. Thin Solid Films 2005, 471, 159-165.
8. Ni, C.; Zhang, Z.; Wells, M.; Beebe, T. P., Jr.; Pirolli, L.; Mendez De Leo, L. P.; Teplyakov, A. Av. Thin Solid Films 2007, 515, 3030-3039.
9. Fuentes, G. G.; Elizalde, E.; Sanz, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 90, 2737-2743.
10. Eizenberg, M.; Littau, K.; Ghanayem, S.; Mak, A.; Maeda, Y.; Chang, M.; Sinha, A. K. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2416-2418.
11. Lim, G. T.; Kim, D.-H. Thin Solid Films 2006, 498, 254-258.
12. Peters, E. S.; Carmalt, C. J.; Parkin, I. P. J. Mater. Chem. 2004, 14, 3474-3477.
13. Woods, J. B.; Beach, D. B.; Nygren, C. L.; Xue, Z. Chem. Vap. Deposition 2005, 11, 289-291.
14. Yun, J.-Y.; Rhee, S.-W. Thin Solid Films 1998, 320, 163-165.
15. Kim, J.-Y.; Seo, S.; Kim, D.-Y.; Jeon, H. J. Vac. Sci. Technol., A 2004, 22.
16. Kim, J.-Y.; Kim, D.-Y.; Park, H.-O.; Jeon, H. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, G29-G34.
17. Lim, B. K.; Park, H.-S.; See, A. K. H.; Liu, E. Z.; Wu, S. H. J. Vac. Sci. Technol., B 2002, 20, 2219-2224.
18. Melnik, V.; Wolanski, D.; Bugiel, E.; Goryachko, A.; Chernjavski, S.; Kruger, D. Mater. Sci. Eng., B 2003, 102, 358-361.
19. Park, S.-G.: Kim, D.-H. Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, 303-304.
20. Park, K.-C.; Kim, K.-B.; Raaijmakers, I. J. M. M.; Ngan, K. J. Appl. Phys. 1996, 80, 5674-5680.
21. Amato-Wierda, C. C.; Wierda, D. A. J. Mater. Res. 2000, 15, 2414-2424.
22. Berry, A.; Mowery, R.; Turner, N. H.; Seitzman, L.; Dunn, D.; Ladouceur, H. Thin Solid Films 1998, 323, 10-17.
23. Endle, J. P.; Sun, Y.-M.; White, J. M.; Ekerdt, J. G. J. Vac. Sci. Technol., A 1998, 16, 1262-1267.
24. Ishihara, S.; Hanabusa, M. J. Appl. Phys. 1998, 84, 596-599.
25. Kim, D.-H.; Lim, G. T.; Kim, S.-K. J. Vac. Sci. Technol., B 1999, 17, 2197-2203.
26. Panda, S.; Kim, J.; Weiller, B. H.; Economou, D. J.; Hoffman, D. M. Thin Solid Films 1999, 357, 125-131.
27. Kim, D.-H.; Lim, G. T.; Kim, S.-K. J. Vac. Sci. Technol., B 1999, 17, 2197-2203.
28. Lee, J.; Kim, J.; Shin, H. Thin Solid Films 1998, 320, 15-19.
29. Musher, J. N.; Gordon, R. G. J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 736-744.
30. Corneille, J. S.; Chen, P. J.; Truong, C. M.; Oh, W. S.; Goodman, D. W. J. Vac. Sci. Technol., A 1995, 13, 1116-1120.
31. Cundari, T. R.; Morse, J. M., Jr. Chem. Mater. 1996, 8, 189-196.
32. Dubois, L. H.; Zegarski, B. R. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3603-3609.
33. Dubois, L. H. Polyhedron 1994, 13, 1329-1336.
34. Hoffman, D. M. Polyhedron 1994, 13, 1169-1179.
35. Prybyla, J. A.; Chiang, C.-M.; Dubois, L. H. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 2695-2702,
36. Truong, C. M.; Chen, P. J.; Corneille, J. S.; Oh, W. S.; Goodman, D. W. J. Phvs. Chem. 1995, 99, 8831-8842.
37. Weiller, B. H. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 4975-4983.
38. Elam, J. W.; Schuisky, M.; Ferguson, J. D.; George, S. M. Thin Solid Films 2003, 436, 145-156.
39. Kim, D.-J.; Jung, Y.-B.; Lee, M.-B.; Lee, Y.-H.; Lee, J.-H.; Lee, J.-H. Thin Solid Films 2000, 372, 276-283.
40. Kim, J.-Y.; Kim, H.-K.; Kim, Y.; Kim, W. M.; Jeon, H. J. Korean Phys. Soc. 2002, 40, 176-179.
41. Kim, J.-Y.; Choi, G. H.; Kim, Y. D.; Kim, Y.; Jeon, H. Jpn. J. Appl. Phys. 2003, 42, 4245-4248.
42. Min, J.-S.; Son, Y.-W.; Kang, W.-G.; Chun, S.-S.; Kang, S.-W. Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, 4999-5004.
43. Yun, J.-H.; Choi, E.-S.; Jang, C.-M.; Lee, C.-S. Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, L418-L421.
44. Min, J.-S.; Park, H.-S.; Kang, S.-W. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1521-1523.
45. Baboul, A. G.; Schlegel, H. B. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 5152-5157.
46. Cross, J. B.; Schlegel, H. B. Chem. Phys. Lett. 2001, 340, 343-347.
47. Amato-Wierda, C. C.; Norton, E. T., Jr.; Wierda, D. E. Chem. Mater. 1999, 11, 2775-2779.
48. Driessen, J. P. A. M.; Kuypers, A. D.; Schoonman, J. Surf. Coat. Technol. 1998, 110, 173-183.
49. Driessen, J. P. A. M.; Schoonman, J.; Jensen, K. F. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, G178-G184.
50. Norton, E. T., Jr.; Amato-Wierda, C. C. Chem. Mater. 2001, 13, 4655-4660.
51. Norton, E. T., Jr.; Amato-Wierda, C. C. Surf. Coat. Technol. 2001, 148, 251-255.
52. Fix, R. M.; Gordon, R. G.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 1990, 2, 235-241.
53. Okada, L. A.; George, S. M. Appl. Surf. Sci. 1999, 137, 113-124.
54. Beaudoin, M.; Scott, S. L. Organometallics 2001, 20, 237-239.
55. Ruhl, G.; Rehmet, M.; Knizova, M.; Merica, R.; Veprek, S. Chem. Mater. 1996, 8, 2712-2720.
56. Janovska, M.; Bastl, Z. Collect. Czech. Chem. Commun. 1995, 60, 372-382.
57. Cao, X.; Hamers, R. J. J. Vac. Sci. Technol., B 2002, 20, 1614-1619.
58. Carman, A. J.; Zhang, L.; Liswood, J. L.; Casey, S. M. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 5491-5502.
59. Mui, C.; Wang, G. T.; Bent, S. F.; Musgrave, C. B. J. Chem. Phys. 2001, 114, 10170-10180.
60. Davies, B. M.; Craig, J. H., Jr. Surf. Interface Anal 2003, 35, 1060-1064.
61. Wu, J.-B.; Yang, Y.; Lin, Y.-F.; Chuiu, H.-T. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 1677-1685.
62. Mulcahy, C. P. A.; Carman, A. J.; Casey, C. M. Surf. Sci. 2000, 459, 1-13.
63. Becke, A. D. J. Chem. Phys. 1993, 98, 5648.
64. Lee, C.; Yang, W.; Parr, R. G. Phys. Rev. B 1988, 37, 785.
65. Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Montgomery, J. A., Jr.; Vreven, T.; Kudin, K. N.; Burant, J. C.; Millam, J. M.; Iyengar, S. S.; Tomasi, J.; Barone, V.; Mennucci, B.; Cossi, M.; Scalmani, G.; Rega, N.; Petersson, G. A.; Nakatsuji, H.; Hada, M.; Ehara, M.; Toyota, K.; Fukuda, R.; Hasegawa, J.; Ishida, M.; Nakajima, T.; Honda, Y.; Kitao, O.; Nakai, H.; Kiene, M.; Li, X.; Knox, J. E.; Hratchian, H. P.; Cross, J. B.; Adamo, C.; Jaramillo, J.; Gomperts, R.; Stratmann, R. E.; Yazyev, O.; Austin, A. J.; Cammi, R.; Pomelli, C.; Ochterski, J. W.; Ayala, P. Y.; Morokuma, K.; Voth, G. A.; Salvador, P.; Dannenberg, J. J.; Zakrzewski, V. G.; Dapprich, S.; Daniels, A. D.; Strain, M. C.; Farkas, O.; Malick, D. K.; Rabuck, A. D.; Raghavachari, K.; Foresman, J. B.; Ortiz, J. V.; Cui, Q.; Baboul, A. G.; Clifford, S.; Cioslowski, J.; Stefanov, B. B.; Liu, G.; Liashenko, A.; Piskorz, P.; Komaromi, I.; Martin, R. L.; Fox, D. J.; Keith, T.; Al-Laham, M. A.; Peng, C. Y.; Nanayakkara, A.; Challacombe, M.; Gill, P. M. W.; Johnson, B.; Chen, W.; Wong, M. W.; Gonzalez, C.; Pople, J. A. Gaussian 03, Revision C. 02; Gaussian: Wallingford, CT, 2004.
66. Pirolli, L.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 4708-4716.
67. Kelly, M. J.; Han, J. H.; Musgrave, C. B.; Parsons, G. N. Chem. Mater. 2005, 17, 5305-5314.
68. Foresman, J. B.; Frisch, A. Exploring chemistry with electronic structure methods, 2nd ed.; Gaussian: Pittsburgh, PA, 1995-1996.
69. Bulanin, K. M.; Shah, A. G.; Fitzgerald, D. R.; Doren, D. J.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 7286-7289.
70. Méndez de Leo, L. P.; Pirolli, L.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 14337-14344.
71. Eng, J., Jr.; Hubner, I. A.; Barriocanal, J.; Opila, R. L.; Doren, D. J. J. Appl. Phys. 2004, 95, 1963-1968.
72. Agren, H.; Roos, B. O.; Bagus, P. S.; Gelius, U.; Malmquist, P. A.; Svensson, S.; Maripuu, R.; Siegbahn, K. J. Chem. Phys. 1982, 77, 3893-3901.
73. Bozso, F.; Avouris, P. Phys. Rev. Lett. 1986, 57, 1185-1188.
74. Dresser, M. J.; Taylor, P. A.; Wallace, R. M.; Choyke, W. J.; Yates, J. T., Jr. Surf. Sci. 1989, 218, 75-107.
75. Hossain, M. Z.; Yamashita, Y.; Mukai, K.; Yoshinubu, J. Phys. Rev. B 2003, 68, 235322.
76. Queeney, K. T.; Chabal, Y. J.; Raghavachari, K. Phys. Rev. Lett. 2001, 86, 1046-1049.
77. Olliero, D.; Solladie-Cavallo, A.; Sollaide, G. Tetrahedron 1975, 31, 1911-1917.
78. Rodrfguez-Reyes, J. C. F.; Teplyakov, A. V. Manuscript in preparation.
79. Dooley, R.; Milfeld, K.; Guiang, C.; Pamidighantam, S.; Allen, G. J. Grid Comput. 2006, 4, 195-208.
80. Milfeld, K.; Guiang, C.; Pamidighantam, S.; Giuliani, J. Cluster Computing through an Application-Oriented Computational Chemistry Grid. Proceedings of the 2005 Linux Clusters: The HPC Revolution, April 2005.