In situ XPS studies of the deposition of TiNxCy films from tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) and bis[N,N′-bis(tert-butyl)ethylenediamido]titanium(IV)

Chemistry of Materials

Volumn 8, Issue 12, 1996, Pages 2712-2720

  Ruhl, G ^a   Rehmet, R ^a   Knizova M ^a   Merica, R ^a   Veprek S ^a  

^a TECHNICAL UNIVERSITY OF MUNICH   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0040010397     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm960125w     Document Type: Article

References (35)

1. Sugiyama, K.; Pac, S.; Takahashi, Y.; Motojima, S. J. Electro. chem. Soc. 1975, 122, 1545.
2. Fix, R. M.; Gordon, R. G.; Hoffman, D. M. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1990, 168, 357.
3. Fix, R. M.; Gordon, R. G.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 1990, 2, 235.
4. Fix, R. M.; Gordon, R. G.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 1991, 3, 1138.
5. Ishihara, K.; Yamazaki, K; Hamada, H.; Kamisako, K.; Tarui, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1990, 29, 2103.
6. Katz, A.; Feingold, A.; Pearton, S. J.; Nakahara, S.; Ellington, M.; Chakrabarti, U. K.; Geva, M.; Lane, E. J. Appl. Phys. 1991, 70, 3666.
7. Katz, A.; Feingold, A.; Nakahara, S.; Pearton, S. J.; Lane, E.; Geva, M.; Stevie, F. A.; Jones, K. J. Appl. Phys. 1992, 71, 993.
8. Dubois, L. H.; Zegarski, B. R.; Girolami, G. S. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3603.
9. Sandhu, G. S.; Meikle, S. G.; Doan, T. T. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 240.
10. Intemann, A.; Koerner, H.; Koch, F. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 3215.
11. Intemann, A. Diploma Work, Technical University Munich, 1991.
12. Girolami, G. S.; Jensen, J. A.; Gozum, J. E.; Pollina, D. M. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1988, 121, 429.
13. Weiller, B. H. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1994, 335, 159.
14. Weiller, B. H.; Partido, B. V. Chem. Mater. 1994, 6, 260.
15. Weiller, B. H. Chem. Mater. 1995, 7, 1609.
16. Prybyla, J. A.; Chiang, C.-M.; Dubois, L. H. Mater. Res. Soc. Symp. 1993, 282, 287.
17. Prybyla, J. A.; Chang, C.-M.; Dubois, L. H. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 2695.
18. Truong, C. M.; Chen, P. J.; Corneille, J. S.; Oh, W. S.; Goodman, D. W. J. Phys. Chem. 1995, 99, 8831.
19. Merica, R. Ph.D. Thesis, Technical University Munich, in preparation.
20. Ruhl, G.; Rehmet, R.; Knizova, M.; Veprek, S. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1993, 309, 461.
21. Scofield, J. H. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1976, 8, 129.
22. Ramqvist, L.; Hamrin, K.; Johansson, G.; Fahlmann, A.; Nordling, C. J. Phys. Chem. Solids 1969, 30, 1835.
23. Wu, H. Z.; Chou, T. C.; Mishra, A.; Anderson, D. R.; Lampert, J. K.; Gujrathi, S. C. Thin Solid Films 1990, 191, 55.
24. Gelius, U.; Heden, P. F.; Hedman, J.; Lindberg, B. J.; Manne, R.; Nordberg, R.; Nordling, C.; Siegbahn, K. Phys. Scr. 1970, 2, 70.
25. Kerr, J. A. In CRC Handbook of Chemistry and Physics, 70th ed.; CRC Press: Boca Raton, 1990; p F-197.
26. Larsson, C. U. S.; Flodström, A. S. Surf. Sci. 1991, 241, 353.
27. Denk, M. Ph.D. Thesis, Technical University Munich, 1992.
28. Prokop, J. Ph.D. Thesis, Technical University Munich, 1995.
29. Patscheider, J.; Shizhi, Li; Veprek, S. Plasma Chem. Plasma Processing, in press.
30. Veprek, S.; Reiprich, S. Thin Solid Films 1995, 265, 64.
31. Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy; Perkin Elmer Corp., 1978.
32. Wu, N. Z.; Chou, T. C.; Mishra, A.; Anderson, D. R.; Lampert, J. K.; Gujrathi, C. Thin Solid Films 1990, 191, 55.
33. Remy, M. J.; Genet, M. J.; Lardionis, P. F.; Notteé, P. P.; Poncelet, G. Surf. Interface Anal. 1994, 21, 643.
34. Borade, R. B.; Kaliaguine, A. S. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1990, 86, 3949.
35. Veprek, S.; Prokop, J.; Glatz, F.; Merica, R.; Klingan, F. R.; Herrmann, F. R. Chem. Mater. 1996, 8, 825.