Vinyltrimethylsilane (VTMS) as a probe of chemical reactivity of a TiCN diffusion barrier-covered silicon surface

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 110, Issue 10, 2006, Pages 4708-4716

  Pirolli, Laurent ^a   Teplyakov, Andrew V ^a  

^a UNIVERSITY OF DELAWARE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS MATERIALS; COPPER DEPOSITS; DIFFUSION; MOLECULAR DYNAMICS; SINGLE CRYSTALS; SURFACE PROPERTIES; TITANIUM COMPOUNDS;

THERMAL DESORPTION MASS SPECTROMETRY; TICN DIFFUSION; VINYLTRIMETHYLSILANE (VTMS);

SILICON COMPOUNDS;

EID: 33645527545     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp055904r     Document Type: Article

References (83)

1. Pirolli, L.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. B 2005, 109 (17), 8462-8468.
2. Andersohn, L.; Kochanski, G. P.; Norman, J. A. T.; Hinch, B. J. J. Vac. Sci. Technol., B 1996, 14 (2), 1032-1037.
3. Dubois, L. H.; Zegarski, B. R. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295.
4. Schulz, D. L.; Curtis, C. J.; Ginley, D. S. Electrochem. Solid-State Lett. 2001, 4(8), C58-C61.
5. Gentle, T. M.; Grassian, V. H.; Klarup, D. G.; Muetterties, E. L. J. Am. Chem. Soc. 1983, 105 (22), 6766-6767.
6. Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T. Polyhedron 1995,14 (6), 699-732.
7. Murarka, S. P. Mater. Sci. Eng. 1997, R19, 87-151.
8. Chourasia, A. R.; Chopra, D. R. Thin Solid Films 1995, 266, 298-301.
9. Ducroquet, F.; Achard, H.; Coudert, F.; Prévitali, B.; Lugand, J.-F.; Ulmer, L.; Farjot, T.; Gobil, Y.; Heitzmann, M.; Tedesco, S.; Nier, M.-E.; Deleonibus, S. IEEE Trans. Electron Devices 2001, 48 (8), 1816-1821.
10. Yagishita, A.; Saito, T.; Nakajima, K.; Inumiya, S.; Matsuo, K. IEEE Trans. Electron Devices 2001, 48 (8), 1604-1611.
11. Lau, J. T.; Prybyla, J. A.; Theiss, S. K. Appl. Phys. Lett. 2000, 76 (2), 164-166.
12. Motte, P.; Proust, M.; Torres, J.; Gobil, Y.; Morand, Y.; Palleau, J.; Pantel, R.; Juhel, M. Microelectron. Eng. 2000, 50, 369-374.
13. Prybyla, J. A.; Chiang, C.-M.; Dubois, L. H. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1993, 282, 281-292.
14. Prybyla, J. A.; Chiang, C.-M.; Dubois, L. H. J. Electrochem. Soc. 1993, 140 (9), 2695-2702.
15. Weiller, B. H. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1993, 282, 605-610.
16. Dubois, L. H. Polyhedron 1994, 13 (8), 1329-1336.
17. Corneille, J. S.; Chen, P. J.; Truong, C. M.; Oh, W. S.; Goodman, D. W. J. Vac. Sci. Technol., A 1995, 13 (3), 1116-1120.
18. Paranjpe, A.; IslamRaja, M. J. Vac. Sci. Technol., B 1995, 13 (5), 2105-2114.
19. Kim, D.-H.; Cho, S.-L.; Kim, K.-B.; Kim, J. J.; Park, J. W.; Kim, J. J. Appl. Phys. Lett. 1996, 69 (27), 4182-4184.
20. Shin, H.-K.; Shin, H.-J.; Lee, J.-G.; Kang, S.-W.; Ahn, B.-T. Chem. Mater. 1997, 9, 76-80.
21. Kim, D.-H.; Lim, G. T.; Kim, S.-K.; Park, J. W.; Lee, J.-G. J. Vac. Sci. Technol., B 1999, 15 (5), 2197-2203.
22. Min, J.-S.; Park, H.-S.; Kang, S.-W. Appl. Phys. Lett. 1999, 75 (11), 1521-1523.
23. Kim, D.-J.; Jung, Y.-B.; Lee, M.-B.; Lee, Y.-H.; Lee, J.-H.; Lee, J.-H. Thin Solid Films 2000, 372, 276-283.
24. Liu, X.; Wu, Z.; Cai, H.; Yang, Y.; Chen, T.; Vallet, C. E.; Zuhr, R. A.; Beach, D. B.; Peng, Z.-H.; Wu, Y.-D.; Concollino, T. E.; Rheingold, A. L.; Xue, Z. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 8011-8021.
25. Gross, J. B.; Schlegel, H. B. Chem. Phys. Lett. 2001, 340, 343-347.
26. Okada, L. A.; George, S. M. Appl. Surf. Sci. 1999, 137, 113-124.
27. Lee, J.-G.; Kim, J.-H.; Shin, H.-K.; Park, S.-J.; Yun, D.-J.; Kim, G.-H. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1996, 427, 371-376.
28. Norton, E. T., Jr.; Amato-Wierda, C. C. Electrochem. Soc. Proc. 2001, 2001-13, 9-16.
29. Buiting, M. J.; Otterloo, A. F. J. Electrochem. Soc. 1992, 139 (9), 2580-2584.
30. Ritala, M.; Leskelä, M.; Rauhala, E.; Haussalo, P. J. Electrochem. Soc. 1995, 140 (8), 2731-2737.
31. Perry, A. J. Surf. Coat. Technol. 2000, 132, 21-35.
32. Umanskii, S. Y.; Novoselov, K. P.; Minushev, A. K.; Siodmiak, M.; Frenking, G.; Korkin, A. A. J. Comput. Chem. 2001, 22 (13), 1366-1376.
33. Eizenberg, M.; Littau, K.; Ghanayem, S.; Mark, A.; Maeda, Y.; Chang, M.; Sinha, A. K. Appl. Phys. Lett. 1994, 65 (19), 2416-2418.
34. Fuentes, G. G.; Elizalde, E.; Sanz, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 90 (6), 2737-2743.
35. Kozlowski, J.; Markowski, J.; Prajzner, A.; Zdanowski, J. Surf. Coat. Technol. 1998, 98, 1440-1443.
36. Didziulis, S. V.; Frantz, P.; Fernandez-Torres, L. C.; Guenard, R. L.; El-bjeirami, O.; Perry, S. S. J. Chem. Phys. 2001, 105, 5196-5209.
37. Fernández-Torres, L. C.; Perry, S. S.; Didziulis, S. V.; Frantz, P. Surf. Sci. 2002, 511, 121-132.
38. Didziulis, S. V.; Butcher, K. D.; Perry, S. S. Inorg. Chem. 2003, 42 (24), 7766-7781.
39. Liu, P.; Rodriguez, J. A. J. Chem. Phys. 2004, 120, 5414-5423.
40. Rodriguez, J. A.; Liu, P.; Dvorak, J.; Jirsak, T.; Gomes, J.; Takahashi, Y.; Nakamura, K. J. Chem. Phys. 2004, 121, 465-474.
41. Bocharov, S.; Zhang, Z.; Beebe, T. P., Jr.; Teplyakov, A. V. Thin Solid Films 2005, 471, 159-165.
42. NIST Chemistry Webbook, http://webbook.nist.gov/chemistry/ (April 2003).
43. Hehre, W. J.; Radom, L.; Schleyer, P. v. R.; Pople, J. A. Ab Initio Molecular Orbital Theory, Wiley: New York, 1986.
44. Frisch, M. J. T.; et al. Gaussian 03, revision C.02; Gaussian, Inc.: Wallingford, CT, 2004.
45. Becke, A. D. Phys. Rev. A 1988, 38 (6), 3098-3100.
46. Becke, A. D. J. Chem. Phys. 1993, 98 (7), 5648-5652.
47. Stevens, P. J.; Devlin, F. J.; Chabalowski, C. F.; Frisch, M. J. J. Phys. Chem. 1994, 98 (45), 11623-11627.
48. Schlegel, H. B. J. Comput. Chem. 1982, 3 (2), 214-218.
49. Schlegel, H. B. Adv. Chem. Phys. 1987, 67 (Part 1), 249-286.
50. Schlegel, H. B. In Modern Electronic Structure Theory; Yarkony, D. R., Ed.; World Scientific: Singapore, 1995; p 459.
51. Dunning, T. H., Jr.; Hay, P. J. In Modern Theoretical Chemistry; Schaefer, H. F., III, Ed.; Plenum: New York, 1976; Vol. 3, pp 1-28.
52. Hay, P. J.; Wadt, W. R. J. Chem. Phys. 1985, 82, 270.
53. Wadt, W. R.; Hay, P. J. J. Chem. Phys. 1985, 82, 284.
54. Hay, P. J.; Wadt, W. R. J. Chem. Phys. 1985, 82, 299.
55. McLean, A. D.; Chandler, G. S. J. Chem. Phys. 1980, 72, 5639.
56. Krishnan, R.; Binkley, J. S.; Seeger, R.; Pople, J. A. J. Chem. Phys. 1980, 72, 650.
57. Blaudeau, J.-P.; McGrath, M. P.; Curtiss, L. A.; Radom, L. J. Chem. Phys. 1997, 107, 5016.
58. Wachters, A. J. H. J. Chem. Phys. 1970, 52, 1033.
59. Hay, P. J. J. Chem. Phys. 1977, 66, 4377.
60. Raghavachari, K.; Trucks, G. W. J. Chem. Phys. 1989, 91, 1206.
61. Binning, R. C., Jr.; Curtiss, L. A. J. Comput. Chem. 1990, 11, 1206.
62. Curtiss, L. A.; McGrath, M. P.; Blaudeau, J.-P.; Davis, N. E.; Binning, R. C., Jr.; Radom, L. J. Chem. Phys. 1995, 103, 6104.
63. McGrath, M. P.; Radom, L. J. Chem. Phys. 1991, 94, 511.
64. Watras, M. J.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. B 2005, 109 (18), 8928-8934.
65. Dmitrenko, O.; Huang, W.; Polenova, T. E.; Francesconi, L. C.; Wingrave, J. A.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 7747-7752.
66. Frantz, P.; Didziulis, S. V.; Fernandez-Torres, L. C.; Guenard, R. L.; Perry, S. S. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 6456-6464.
67. Cabanas, A.; Blackburn, J. M.; Watkins, J. J. Microelectron. Eng. 2002, 64 (1-4), 53-61.
68. Redhead, P. A. Vacuum 1962, 12, 203-211.
69. Lebedev, B. V.; Lebedev, N. K.; Khotimskii, V. S.; Durgar'yan, S. G.; Nametkin, N. S. Dokl. Akad. Nauk SSSR 1981, 259, 629.
70. Voronkov, M. G.; Baryshok, V. P.; Klyuchnikov, V. A.; Danilova, T. F.; Pepekin, V. I.; Korchagina, A. N.; Khudobin, Y. I. J. Organomet. Chem. 1988, 345, 27-38.
71. Bocharov, S.; Mathauser, A. T.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 7776-7782.
72. Bocharov, S.; Teplyakov, A. V. Surf. Sci. 2004, 573, 403-412.
73. Toth, L. E. Transition Metal Carbides and Nitrides; Academic Press: New York, 1971.
74. Levy, R. L.; Boudart, M. Science 1973, 181, 547.
75. Oyama, S. T. The Chemistry of Transition Metal Carbides and Nitrides; Blackie Academic and Professional: Glasgow, U.K., 1996.
76. Chen, J. G. Surf. Sci Rep. 1997, 30 (1/3), 1-152.
77. Fix, R. M.; Gordon, R. G.; Huffman, D. M. Chem. Mater. 1990, 2, 235-241.
78. Paserba, K. R.; Gellman, A. J. Phys. Rev. Lett. 2001, 86 (19), 4338-41.
79. Paserba, K. R.; Gellman, A. J. J. Chem. Phys. 2001, 115 (14), 6737-51.
80. Müller, T.; Flynn, G. W.; Mathauser, A. T.; Teplyakov, A. V. Langmuir 2003, 19, 2812-2821.
81. Ni, C.; Wells, M.; Zhang, Z.; Beebe, T. P., Jr.; Pirolli, L.; Méndez De Leo, L. P.; Teplyakov, A. V., in preparation.
82. Liu, P.; Rodriguez, J. A.; Muckerman, J. T. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 18796-18798.
83. Liu, P.; Rodriguez, J. A.; Muckerman, J. T. J. Mol. Catal. A: Chem. 2005, 239, 116-124.