Chemistry of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentanedione on Si(100)-2×1

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 110, Issue 29, 2006, Pages 14337-14344

  Méndez De Leo, Lucila P ^a   Pirolli, Laurent ^a   Teplyakov, Andrew V ^a  

^a UNIVERSITY OF DELAWARE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADDITION REACTIONS; ADSORPTION; AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; CARBON; COMPUTATIONAL METHODS; CONTAMINATION; DEPOSITION; DESORPTION; FLUORINE; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; LOW TEMPERATURE PHENOMENA; MASS SPECTROMETRY; MOLECULAR STRUCTURE; ORGANIC COMPOUNDS; OXYGEN; SURFACE CHEMISTRY;

COMPUTATIONAL ANALYSIS; CRYOGENIC TEMPERATURES; METAL OXIDE; SUBMONOLAYER; THERMAL DESORPTION;

SILICON;

EID: 33746881061     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp061512o     Document Type: Article

References (56)

1. Hemmet, R. L. V.; Spendlove, L. B.; Sievers, R. E. J. Electrochem. Soc. 1965, 112, 1123.
2. Temple, D.; Reisman, A. J. Electrochem. Soc. 1989, 136, 3525.
3. Shin, H. K.; Chi, K. M.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T.; Fair, J. D.; Paffett, M. Adv. Mater 1991, 3 (5), 246-248.
4. Shin, H. K.; Chi, K. M.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T.; Fair, J. D.; Paffett, M. Chem. Mater 1992, 4, 788-795.
5. Norman, J. A. T.; Muratore, B. A.; Dyer, P. N.; Roberts, D. A.; Hochberg, A. K.; Dubois, L. H. Mater. Sci. Eng. B 1993, 17, 87-92.
6. Norman, J. A. T.; Muratore, B. A. Volatile liquid precursors for the chemical vapor deposition of copper. US Patent, application 19920204, 1992.
7. Girolami, G. S.; Jeffries, P. M.; Dubois, L. H. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115 (3), 1015-1024.
8. Jain, A.; Chi, K. M.; Kodas, T. T.; Hampden-Smith, M. J. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1992, 260, 113-118.
9. Jain, A.; Farkas, J.; Chi, K. M.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T. Adv. Met. VLSI Appl. 1992, Proc. Conf. 1993, 1992, 82-89.
10. Jain, A.; Kodas, T. T.; Jairath, R.; Hampden-Smith, M. J. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1993, 2090, 63-69.
11. Jain, A.; Kodas, T. T.; Jairath, R.; Hampden-Smith, M. J. J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11 (6), 2107-2113.
12. Donnelly, V. M.; Gross, M. E. J. Vac. Sci. Technol. A 1992, 11 (1), 66-77.
13. Kim, S.; Park, J.-M.; Choi, D.-J. Thin Solid Films 1998, 320 (1), 95-102.
14. Kim, S.; Park, J.-M.; Choi, D.-J. Thin Solid Films 1998, 315, 229-237,
15. Farkas, J.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T. J. Electrochem. Soc. 1994, 147 (12), 3539-3546.
16. Farkas, J.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T. J. Electrochem. Soc. 1994, 141 (12), 3547-3555.
17. Luisier, A.; Utke, I.; Bret, T.; Cicoira, F.; Hauert, R.; Rhee, S.-W.; Doppelt, P.; Hoffmann, P. J. Electrochem. Soc. 2004, 151 (9), C590-C593.
18. Cohen, S. L; Liehr, M.; Kasi, S. Appl. Phys. Lett. 1992, 60 (13), 1585-1587.
19. Parmeter, J. E.; Petersen, G. A.; Smith, P. M.; Apblett, C. A.; Reid, J. S.; Norman, J. A. T.; Hochberg, A. K.; Roberts, D. A.; Omstead, T. R. J. Vac. Sci. Technol. B 1995, 13 (1), 130-136.
20. Norman, J. A. T.; Muratore, B. A.; Dyer, P. N.; Roberts, D. A.; Hochberg, A. K. J. Phys. IV: Proc. 1991, 1, C2/271-C2/278.
21. Parmeter, J. E. J. Phys. Chem. 1993, 97, 11530-11541.
22. Farkas, J.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T. J. Phys. Chem. 1994, 98, 6753-6762.
23. Data from NIST Standard Reference Database 69, June 2005 Release: NIST Chemistry WebBook. http://webbook.nist.gov/chemistry/ (June 2005).
24. Becke, A. D. J. Chem. Phys. 1993, 98, 1372-1377.
25. Lee, C.; Yang, W.; Parr, R. G. Phys. Rev. B 1988, 37, 785.
26. Frisch, M. J. T.; et al. Caussian 03, Revision C.02, Gaussian Ine: Wallinford, CT, 2004.
27. Nachtigall, P.; Jordon, K. D.; Janda, K. C. J. Chem. Phys. 1991, 95 (11), 8652-8654.
28. Konecny, R.; Doren, D. J. J. Chem. Phys. 1997, 106 (6), 2426-2435.
29. Widjaja, Y.; Mysinger, M. M.; Musgrave, C. B. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 2527-2533.
30. Mui, C.; Wang, G. T.; Bent, S. F.; Musgrave, C. B. J. Chem. Phys. 2001, 114 (22), 10170-10180.
31. Barriocanal, J. A.; and Doren, D. J. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 12269-12274.
32. Barriocanal, J. A.; Doren, D. J. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 7340-7346.
33. Barriocanal, J. A.; Doren, D. J. J. Vac. Sci. Technol. A 2000, 18 (4), 1959-1964.
34. Konecny, R.; Doren, D. J. Surf. Sci. 1998, 417, 169-188.
35. Konecny, R.; Doren, D. J. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 11098-11099.
36. Widjaja, Y.; Musgrave, C. B. Phys. Rev. B 2001, 64 (20), 205303/ 1-205303/9.
37. Widjaja, Y.; Musgrave, C. B. Surf. Sci. 2000, 469, 9-20.
38. Wang, J.-H.; Lin, M. C. Surf. Sci. 2005, 579, 197-214.
39. McLean, A. D.; Chandler, G. S. J. Chem. Phys. 1980, 72, 5639.
40. Krishnan, R.; Binkley, J. S.; Seeger, R.; Pople, J. A. J. Chem. Phys. 1980, 72, 650.
41. Blandeau, J. P.; McGrath, M. P.; Cusrtiss, L. A.; Radom, L. J. Chem. Phys. 1997, 107, 5016.
42. Wachters, A. J. H. J. Chem. Phys. 1970, 52, 1033.
43. Hay, P. J. J. Chem. Phys. 1977, 91, 1206.
44. Raghavachari, K.; Tracks, G. W. J. Chem. Phys. 1989, 91, 1206.
45. Binning, R. C., Jr.; Curtiss, L. A. J. Comput. Chem. 1995, 11, 1206.
46. Curtiss, L. A.; McGrath, M. P.; Blandeau, J. P.; Davis, N. E.; Binning, R. C., Jr.; Radom, L. J. Chem. Phys. 1995, 103, 9104.
47. McGrath, M. P.; Radom, L. J. Chem. Phys. 1991, 94, 511.
48. Redhead, P. A. Vacuum 1962, 12, 203-211.
49. Buemi, G. J. Mol. Struct. 2000, 499, 21-34.
50. Tayyari, S. S.; Nejad, F. M.; Rahemi, H. Spectrochim. Acta Part A 2002, 58, 1669-1679.
51. Andreassen, A. L.; Zebelman, D.; Bauer, S. H. J. Am. Chem. Soc. 1971, 95, 8-1152.
52. Bertolassi, V.; Gilli, P.; Ferretti, V.; Gilli, G. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 4917-4925.
53. Minoura, Y.; Nagashima, N.; Kudoh, S.; Nakata, M. J. Phys. Chem. A 2004, 108, 2353-2362.
54. Perrin, C. L.; Kim, Y.-J. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 12641-12645.
55. Bulanin, K. M.; Shah, A. G.; Fitzgerald, D. R.; Doren, D. J.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 7286-7289.
56. Willis, B., in preparation.